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然後，光柵向量可由下式定義:顯影後，當(dāng)全像被重建平面波kp照亮?xí)r，繞射波kd，可透過解方程式確定:其中kp和kd是重建波向量和全像感光材料內(nèi)部的繞射波前（圖2（b））。注意光柵向量K可以從兩個(gè)反向方向選擇。方程式(2)的符號(hào)約定，假設(shè)K的方向選擇滿足K.kp>0。 圖 2.

OpticStudio可以透過兩種方式定義寬帶光源：透過在適當(dāng)範(fàn)圍內(nèi)定義多個(gè)系統(tǒng)波長，或者透過將關(guān)聯(lián)的相干長度定義為光源的屬性。相干性是OCT的必要來源屬性，因此我們將使用此方法並允許OpticStudio透過以下方式執(zhí)行帶寬計(jì)算和採樣：物件設(shè)定顯示:醫(yī)療保健的美好未來我們很高興看到OCT系統(tǒng)在醫(yī)學(xué)領(lǐng)域的發(fā)展以及在未來幾年中將要出現(xiàn)的創(chuàng)新。

通常，可以透過求解近軸波動(dòng)方程來找到雷射的輸出。該方程最廣為人知的解法是理想的單模高斯光束的解法。存在依賴於給定係統(tǒng)對(duì)稱性的其他正交解集。1 它們可用於對(duì)高階光束模式進(jìn)行建模。在這篇Blog中，我們描述了 OpticStudio 中可用於表徵高階雷射光束的模型。定義後，此類光束可以在 OpticStudio 中使用物理光學(xué)傳播設(shè)計(jì)的任何光學(xué)系統(tǒng)中傳播。

在一個(gè)沒有鍍膜的光學(xué)面上，定義一條光線可以非常簡單：但是，現(xiàn)在讓我們思考另一個(gè)狀況：四分之一波長厚度的膜層 (我們另外設(shè)定一個(gè)0.25倍波長厚的物件，位於前述物件表面之上)。如果我們放大來檢視這個(gè)四分之一波長物件的話，我們會(huì)看到：現(xiàn)在，在這個(gè)圖中，我們有了幾個(gè)疑問：(1) 入射的光線交會(huì)於這個(gè)表面的 “哪裡”？(2) 光線在 “哪裡” 分裂的？(3) “哪一條” 光線是入射光？

Jones Matrix根據(jù)下方的式子改變電場的Jones向量上式中的A, B, C, D皆為複數(shù)形式。在鏡頭數(shù)據(jù)編輯器(LDE)和非序列元件編輯器(Non-Sequential components editor)，我們可以在Jones Matrix後方的欄位輸入各元素的實(shí)數(shù)及虛數(shù)部分，以定義不同的Jones Matrix。