tracePro、光學、導光管、格點光源、光線追跡、照度和光強分布
關注創建者：tanrch 創建時間：2019-01-01
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運行光線追跡并記錄輸出的變化。
照度均勻性下降，但是影響光照強度的重點問題得到解決，效率也大大提高了。從結果中發現：需要在輸出的空間分布和角分布的均勻性之間做出權衡；如果在底面使用相似的散射函數會使效率降低。
根據結果顯示，理想的散射配置文件應該用于光波導的頂面上，使得在光源附近的光線散射較少，而在相反方向的光散射較多。
衍射極限
可以將光譜儀看作是將物體（入射針孔，即點光源）映射到像面（探測器）的光學系統。像OpticStudio那樣使用光線來計算光在光學系統中的傳播是非常有效的，但光線追跡的結果并不完全符合實際情況。點光源不是無窮小的點（對應銳利的圖像），所得到的圖像將是模糊的。這種效應是由于衍射限制了光學系統的分辨率。
OpticStudio有各種各樣的工具來分析衍射。
例如，我們可以打開 Zemax 根目錄/Samples/non-sequential/sources/led_model.zmx：
該物體由一系列更小的內部物體組成：
它們可以用來表示 LED 的芯片、電極線、封裝點等。可以在不同物體的表面上添加詳細的光學屬性，然后進行大量的光線追跡。
FRED應用：發光二極管（LED）11個月前
顯然，所使用的光線越多，該模型越準確。然而，必須找到速度和光線數目之間的平衡點。通常在使用大量光線進行全部的光線追跡之前先使用一個較小的子集進行測試。
圖2、Detailed optical source（詳細光源）對話框顯示導入光線文件的選項。
這種 "局部恒定周期光柵 "的近似是一個有用的概念，有助于理解由相位面表示的DOE如何與光線追跡方法一起工作。
圖6 通過法線表面（左）和DOE表面（右）追蹤的光線
為了追蹤光線通過表面的走向（該表面以相位面描述），首先通過求解相位面的導數來確定DOE上任意點對應的局部光柵的周期，如下式所示：
請注意，從上述公式中計算出的周期是投影在XY平面上的分量，如圖7所示。
顯然，所使用的光線越多，該模型越準確。然而，必須找到速度和光線數目之間的平衡點。通常在使用大量光線進行全部的光線追跡之前先使用一個較小的子集進行測試。
圖2.Detailed optical source（詳細光源）對話框顯示導入光線文件的選項。
可以在不同物體的表面上添加詳細的光學屬性，然后進行大量的光線追跡。</span></p><p class="ql-align-justify"><span style="color: rgb(63, 63, 63);">該光源模型可以直接進行光線追跡，或者將光源產生的光線保存在光線數據庫中。
使用以下設置將朗伯散射配置文件應用于光波導的輸入面。
進行光線追跡并觀察輸出特性的差異。確保在光線追跡控件對話框選中“散射光線 (Scatter Rays)”!
該系統的效率提高了幾個百分點，照明均勻性得到了很大的改善。發光強度略有改善，但仍存在一些重要問題有待解決。
現在，從光波導的前表面移除散射配置文件，并應用到頂面。
衍射極限
可以將光譜儀看作是將物體（入射針孔，即點光源）映射到像面（探測器）的光學系統。像OpticStudio那樣使用光線來計算光在光學系統中的傳播是非常有效的，但光線追跡的結果并不完全符合實際情況。點光源不是無窮小的點（對應銳利的圖像），所得到的圖像將是模糊的。這種效應是由于衍射限制了光學系統的分辨率。
OpticStudio有各種各樣的工具來分析衍射。
這種 “局部恒定周期光柵 “的近似是一個有用的概念，有助于理解由相位面表示的 DOE 如何與光線追跡方法一起工作。
