高數值孔徑聚焦分析的案例
高NA (數值孔徑)物鏡的分析
高數值孔徑物鏡的聚焦分析
高NA(數值孔徑)物鏡常用于光學顯微及光刻，并已廣泛在其他應用中得以使用。眾所周知，在高數值孔徑物鏡的使用中，電磁場矢量特性的影響是不可忽略的。一個眾所周知的例子就是由高NA(數值孔徑)物鏡聚焦線性偏振圓光束時，焦斑的不對稱性:焦斑不再是圓的，而是拉長的。我們通過具體的物鏡實例來說明了這些效應，并演示了如何在VirtualLab Fusion中使用不同的探測器分析焦斑。
分析高數值孔徑物鏡的聚焦
高數值孔徑物鏡廣泛用于光學光刻、顯微鏡等。因此，在聚焦模擬中考慮光的矢量性質是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持這種鏡頭的光線和光場追跡分析。 通過光場追跡，可以清楚地展示不對稱焦斑，這源于矢量效應。 照相機探測器和電磁場探測器為聚焦區域的研究提供了充分的靈活性，并且可以深入了解矢量效應。
摘要
?接下來，我們將演示如何按照VirtualLab中推薦的工作流程對樣本系統進行模擬。
?樣品系統預設為包含高數值孔徑物鏡。
概覽
如何計算包含矢量效應的焦點的強度分布？
如何進行整個系統的光線追跡分析？
沿x方向線偏振
光斑直徑： 3mm
波長 2.08 nm
入射平面波
展開 分析高數值孔徑物鏡的聚焦特性
高數值孔徑的物鏡廣泛用于光刻、顯微等方面。 因此，在仿真聚焦時考慮光的矢量性質是至關重要的。VirtualLab可以支持此類透鏡的光線和場追跡分析。通過場追跡分析，可以清楚地顯示出由于矢量效應引起的非對稱焦點。相機探測器和電磁場探測器可以方便地研究聚焦區域的場，也可以深入研究矢量效應。
摘要
分析高數值孔徑物鏡的聚焦特性
摘要
高數值孔徑的物鏡廣泛用于光刻、顯微等方面。 因此，在仿真聚焦時考慮光的矢量性質是至關重要的。VirtualLab可以支持此類透鏡的光線和場追跡分析。通過場追跡分析，可以清楚地顯示出由于矢量效應引起的非對稱焦點。相機探測器和電磁場探測器可以方便地研究聚焦區域的場，也可以深入研究矢量效應。
建模任務
概述
?案例系統已預先設置了高數值孔徑物鏡。
?接下來，我們演示如何按照VirtualLab中建議的工作流程在示例系統上執行仿真。
光線追跡仿真
?首先選擇“光線追跡系統分析器”作為模擬引擎。
?單擊go！
?獲得了3D光線追跡結果。
光線追跡仿真
?然后，選擇“光線追跡”作為模擬引擎。
?單擊go！
?結果得到點圖（二維光線追跡結果）。
場追跡仿真
?切換到場追跡，然后選擇“第二代場追跡”作為模擬引擎。
?單擊go！
場追跡仿真（相機探測器）
?上圖僅顯示Ex和Ey場分量積分的強度。
?下圖顯示Ex、Ey和Ez分量積分的強度：由于在高數值孔徑情況下Ez分量相對較大，因此可見明顯的不對稱性。
場追跡仿真（電磁場探測器）
?使用電磁場探測器可獲得所有電磁場分量。
場追跡仿真（電磁場探測器）
?使用電磁場探測器可獲得所有電磁場分量。
展開 
高數值孔徑(NA)物鏡的聚焦分析
摘要 高NA物鏡廣泛用于光刻，顯微等技術。因此，聚焦仿真中考慮光的矢量性質至關重要。VirtualLab可以非常便捷地對此類鏡頭進行光線追跡和場追跡分析。通過場追跡，可以清楚地觀察由于矢量效應引起的聚焦光斑失對稱現象。利用相機探測器和電磁場探測器能夠對聚焦區域進行靈活全面的研究，進而加深對矢量效應的理解。
2. 建模任務
3. 概述
? 示例系統包含了高數值孔徑物鏡? 下一步，我們將闡述如何遵循VirtualLab中推薦的工作流程執行示例系統的仿真。
4. 光線追跡仿真 ? 首先，選擇“Ray Tracing System Analyzer”作為仿真引擎。? 點擊“Go!”。? 隨即獲得3D光線追跡結果
? 然后，選擇“Ray Tracing”作為仿真引擎。? 點擊“Go!”。? 隨即獲得點列圖(2D光線追跡結果)。
5. 場追跡仿真
? 轉換到場追跡，并選擇“Field Tracing 2nd Generation”作為仿真引擎。? 點擊“Go!”。
6. 場追跡結果(相機探測器) ? 上圖所示為僅通過疊加Ex和Ey場分量得到的強度分布。? 下圖所示為通過疊加Ex，Ey和Ez分量得到的強度分布：由于在高NA條件下相對較大Ez分量，導致聚焦光斑明顯的失對稱性。
7. 場追跡結果(電磁場探測器)? 利用電磁場探測器，我們可以獲得多有電磁場分量的結果
8. 文件信息
展開 分析高數值孔徑物鏡的聚焦
摘要
高數值孔徑物鏡廣泛用于光學光刻、顯微鏡等。因此，在聚焦模擬中考慮光的矢量性質是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持這種鏡頭的光線和光場追跡分析。 通過光場追跡，可以清楚地展示不對稱焦斑，這源于矢量效應。 照相機探測器和電磁場探測器為聚焦區域的研究提供了充分的靈活性，并且可以深入了解矢量效應。
建模任務
入射平面波
波長 2.08 nm
光斑直徑： 3mm
沿x方向線偏振
如何進行整個系統的光線追跡分析？
如何計算包含矢量效應的焦點的強度分布？
概覽
?樣品系統預設為包含高數值孔徑物鏡。
?接下來，我們將演示如何按照VirtualLab中推薦的工作流程對樣本系統進行模擬。
光線追跡模擬
?首先選擇“光線追跡系統分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作為模擬引擎。
?點擊Go！
?獲得3D光線追跡結果。
光線追跡模擬
?然后，選擇“光線追跡”（Ray Tracing）作為模擬引擎。
?單擊Go！
?結果，獲得點圖（2D光線追跡結果）。
光場追跡模擬
?切換到“第二代場追跡”（Field Tracing 2nd Generation）作為模擬引擎。
?單擊Go！
光場追跡結果（照相機探測器）
?上圖僅顯示Ex和Ey場分量的強度。
?下圖通過整合Ex、Ey和Ez分量顯示強度：由于高數值孔徑情況下相對較大的Ez分量，可以看到明顯的不對稱性。
展開 [VirtualLab] 分析高數值孔徑物鏡的聚焦特性
摘要
高數值孔徑的物鏡廣泛用于光刻、顯微等方面。 因此，在仿真聚焦時考慮光的矢量性質是至關重要的。VirtualLab可以支持此類透鏡的光線和場追跡分析。通過場追跡分析，可以清楚地顯示出由于矢量效應引起的非對稱焦點。相機探測器和電磁場探測器可以方便地研究聚焦區域的場，也可以深入研究矢量效應。
建模任務
概述
?案例系統已預先設置了高數值孔徑物鏡。
?接下來，我們演示如何按照VirtualLab中建議的工作流程在示例系統上執行仿真。
光線追跡仿真
?首先選擇“光線追跡系統分析器”作為模擬引擎。
?單擊go！
?獲得了3D光線追跡結果。
光線追跡仿真
?然后，選擇“光線追跡”作為模擬引擎。
?單擊go！
?結果得到點圖（二維光線追跡結果）。
場追跡仿真
?切換到場追跡，然后選擇“第二代場追跡”作為模擬引擎。
?單擊go！
場追跡仿真（相機探測器）
?上圖僅顯示Ex和Ey場分量積分的強度。
?下圖顯示Ex、Ey和Ez分量積分的強度：由于在高數值孔徑情況下Ez分量相對較大，因此可見明顯的不對稱性。
場追跡仿真（電磁場探測器）
?使用電磁場探測器可獲得所有電磁場分量。
場追跡仿真（電磁場探測器）
?使用電磁場探測器可獲得所有電磁場分量。
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摘要
高數值孔徑物鏡廣泛用于光學光刻、顯微鏡等。因此，在聚焦模擬中考慮光的矢量性質是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持這種鏡頭的光線和光場追跡分析。 通過光場追跡，可以清楚地展示不對稱焦斑，這源于矢量效應。 照相機探測器和電磁場探測器為聚焦區域的研究提供了充分的靈活性，并且可以深入了解矢量效應。
建模任務
入射平面波
波長 2.08 nm
光斑直徑： 3mm
沿x方向線偏振
如何進行整個系統的光線追跡分析？
如何計算包含矢量效應的焦點的強度分布？
概覽
?樣品系統預設為包含高數值孔徑物鏡。
?接下來，我們將演示如何按照VirtualLab中推薦的工作流程對樣本系統進行模擬。
光線追跡模擬
?首先選擇“光線追跡系統分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作為模擬引擎。
?點擊Go！
?獲得3D光線追跡結果。
光線追跡模擬
?然后，選擇“光線追跡”（Ray Tracing）作為模擬引擎。
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?結果，獲得點圖（2D光線追跡結果）。
光場追跡模擬
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光場追跡結果（照相機探測器）
?上圖僅顯示Ex和Ey場分量的強度。
?下圖通過整合Ex、Ey和Ez分量顯示強度：由于高數值孔徑情況下相對較大的Ez分量，可以看到明顯的不對稱性。
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摘要
高NA物鏡廣泛用于光刻，顯微等技術。因此，聚焦仿真中考慮光的矢量性質至關重要。VirtualLab可以非常便捷地對此類鏡頭進行光線追跡和場追跡分析。通過場追跡，可以清楚地觀察由于矢量效應引起的聚焦光斑失對稱現象。利用相機探測器和電磁場探測器能夠對聚焦區域進行靈活全面的研究，進而加深對矢量效應的理解。
2. 建模任務
3. 概述
? 示例系統包含了高數值孔徑物鏡
? 下一步，我們將闡述如何遵循VirtualLab中推薦的工作流程執行示例系統的仿真。
4. 光線追跡仿真
? 首先，選擇“Ray Tracing System Analyzer”作為仿真引擎。
? 點擊“Go!”。
? 隨即獲得3D光線追跡結果
? 然后，選擇“Ray Tracing”作為仿真引擎。
? 點擊“Go!”。
? 隨即獲得點列圖(2D光線追跡結果)。
5. 場追跡仿真
? 轉換到場追跡，并選擇“Field Tracing 2nd Generation”作為仿真引擎。
? 點擊“Go!”。
6. 場追跡結果(相機探測器)
? 上圖所示為僅通過疊加Ex和Ey場分量得到的強度分布。
? 下圖所示為通過疊加Ex，Ey和Ez分量得到的強度分布：由于在高NA條件下相對較大Ez分量，導致聚焦光斑明顯的失對稱性。
7. 場追跡結果(電磁場探測器)
? 利用電磁場探測器，我們可以獲得多有電磁場分量的結果
8.
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高NA(數值孔徑)物鏡常用于光學顯微及光刻，并已廣泛在其他應用中得以使用。眾所周知，在高數值孔徑物鏡的使用中，電磁場矢量特性的影響是不可忽略的。一個眾所周知的例子就是由高NA(數值孔徑)物鏡聚焦線性偏振圓光束時，焦斑的不對稱性:焦斑不再是圓的，而是拉長的。我們通過具體的物鏡實例來說明了這些效應，并演示了如何在VirtualLab Fusion中使用不同的探測器分析焦斑。
高數值孔徑物鏡的聚焦分析
高數值孔徑(NA)物鏡廣泛用于光學光刻、顯微系統等。在對焦斑的模擬中考慮光的矢量性質是非常重要的。
數值孔徑(NA)物鏡系統的先進點擴散函數計算
當線性偏振高斯光束經高數值孔徑(NA)非球面透鏡聚焦時，由于矢量效應，焦平面上的PSF呈現非對稱性。
有關更多信息，請發送郵件至: support@infotek.com.cn / support@infocrops.com
網址: http://www.infotek.com.cn / http://www.honglun-seminary.com
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摘要
高數值孔徑的物鏡廣泛用于光刻、顯微等方面。 因此，在仿真聚焦時考慮光的矢量性質是至關重要的。VirtualLab可以支持此類透鏡的光線和場追跡分析。通過場追跡分析，可以清楚地顯示出由于矢量效應引起的非對稱焦點。相機探測器和電磁場探測器可以方便地研究聚焦區域的場，也可以深入研究矢量效應。
建模任務
概述
?案例系統已預先設置了高數值孔徑物鏡。
?接下來，我們演示如何按照VirtualLab中建議的工作流程在示例系統上執行仿真。
光線追跡仿真
?首先選擇“光線追跡系統分析器”作為模擬引擎。
?單擊go！
?獲得了3D光線追跡結果。
光線追跡仿真
?然后，選擇“光線追跡”作為模擬引擎。
?單擊go！
?結果得到點圖（二維光線追跡結果）。
場追跡仿真
?切換到場追跡，然后選擇“第二代場追跡”作為模擬引擎。
?單擊go！
場追跡仿真（相機探測器）
?上圖僅顯示Ex和Ey場分量積分的強度。
?下圖顯示Ex、Ey和Ez分量積分的強度：由于在高數值孔徑情況下Ez分量相對較大，因此可見明顯的不對稱性。
場追跡仿真（電磁場探測器）
?使用電磁場探測器可獲得所有電磁場分量。
場追跡仿真（電磁場探測器）
?使用電磁場探測器可獲得所有電磁場分量。
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分析高數值孔徑物鏡的聚焦特性
摘要
高數值孔徑的物鏡廣泛用于光刻、顯微等方面。 因此，在仿真聚焦時考慮光的矢量性質是至關重要的。VirtualLab可以支持此類透鏡的光線和場追跡分析。通過場追跡分析，可以清楚地顯示出由于矢量效應引起的非對稱焦點。相機探測器和電磁場探測器可以方便地研究聚焦區域的場，也可以深入研究矢量效應。
建模任務
概述
?案例系統已預先設置了高數值孔徑物鏡。
?接下來，我們演示如何按照VirtualLab中建議的工作流程在示例系統上執行仿真。
光線追跡仿真
?首先選擇“光線追跡系統分析器”作為模擬引擎。
?單擊go！
?獲得了3D光線追跡結果。
光線追跡仿真
?然后，選擇“光線追跡”作為模擬引擎。
?單擊go！
?結果得到點圖（二維光線追跡結果）。
場追跡仿真
?切換到場追跡，然后選擇“第二代場追跡”作為模擬引擎。
?單擊go！
場追跡仿真（相機探測器）
?上圖僅顯示Ex和Ey場分量積分的強度。
?下圖顯示Ex、Ey和Ez分量積分的強度：由于在高數值孔徑情況下Ez分量相對較大，因此可見明顯的不對稱性。
場追跡仿真（電磁場探測器）
?使用電磁場探測器可獲得所有電磁場分量。
場追跡仿真（電磁場探測器）
?使用電磁場探測器可獲得所有電磁場分量。
展開 [VirtualLab] 高數值孔徑(NA)物鏡的聚焦分析
摘要
高NA物鏡廣泛用于光刻，顯微等技術。因此，聚焦仿真中考慮光的矢量性質至關重要。VirtualLab可以非常便捷地對此類鏡頭進行光線追跡和場追跡分析。通過場追跡，可以清楚地觀察由于矢量效應引起的聚焦光斑失對稱現象。利用相機探測器和電磁場探測器能夠對聚焦區域進行靈活全面的研究，進而加深對矢量效應的理解。
2. 建模任務
3. 概述
? 示例系統包含了高數值孔徑物鏡
? 下一步，我們將闡述如何遵循VirtualLab中推薦的工作流程執行示例系統的仿真。
4. 光線追跡仿真
? 首先，選擇“Ray Tracing System Analyzer”作為仿真引擎。
? 點擊“Go!”。
? 隨即獲得3D光線追跡結果
? 然后，選擇“Ray Tracing”作為仿真引擎。
? 點擊“Go!”。
? 隨即獲得點列圖(2D光線追跡結果)。
5. 場追跡仿真
? 轉換到場追跡，并選擇“Field Tracing 2nd Generation”作為仿真引擎。
? 點擊“Go!”。
6. 場追跡結果(相機探測器)
? 上圖所示為僅通過疊加Ex和Ey場分量得到的強度分布。
? 下圖所示為通過疊加Ex，Ey和Ez分量得到的強度分布：由于在高NA條件下相對較大Ez分量，導致聚焦光斑明顯的失對稱性。
7. 場追跡結果(電磁場探測器)
? 利用電磁場探測器，我們可以獲得多有電磁場分量的結果
8.
展開 VirtualLab Fusion：分析高數值孔徑物鏡的聚焦特性
摘要
高數值孔徑的物鏡廣泛用于光刻、顯微等方面。 因此，在仿真聚焦時考慮光的矢量性質是至關重要的。VirtualLab可以支持此類透鏡的光線和場追跡分析。通過場追跡分析，可以清楚地顯示出由于矢量效應引起的非對稱焦點。相機探測器和電磁場探測器可以方便地研究聚焦區域的場，也可以深入研究矢量效應。
建模任務
概述
?案例系統已預先設置了高數值孔徑物鏡。
?接下來，我們演示如何按照VirtualLab中建議的工作流程在示例系統上執行仿真。
光線追跡仿真
?首先選擇“光線追跡系統分析器”作為模擬引擎。
?單擊go！
?獲得了3D光線追跡結果。
光線追跡仿真
?然后，選擇“光線追跡”作為模擬引擎。
?單擊go！
?結果得到點圖（二維光線追跡結果）。
場追跡仿真
?切換到場追跡，然后選擇“第二代場追跡”作為模擬引擎。
?單擊go！
場追跡仿真（相機探測器）
?上圖僅顯示Ex和Ey場分量積分的強度。
?下圖顯示Ex、Ey和Ez分量積分的強度：由于在高數值孔徑情況下Ez分量相對較大，因此可見明顯的不對稱性。
場追跡仿真（電磁場探測器）
?使用電磁場探測器可獲得所有電磁場分量。
場追跡仿真（電磁場探測器）
?使用電磁場探測器可獲得所有電磁場分量。
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高NA(數值孔徑)物鏡常用于光學顯微及光刻，并已廣泛在其他應用中得以使用。眾所周知，在高數值孔徑物鏡的使用中，電磁場矢量特性的影響是不可忽略的。一個眾所周知的例子就是由高NA(數值孔徑)物鏡聚焦線性偏振圓光束時，焦斑的不對稱性:焦斑不再是圓的，而是拉長的。我們通過具體的物鏡實例來說明了這些效應，并演示了如何在VirtualLab Fusion中使用不同的探測器分析焦斑。
高數值孔徑物鏡的聚焦分析
高數值孔徑(NA)物鏡廣泛用于光學光刻、顯微系統等。在對焦斑的模擬中考慮光的矢量性質是非常重要的。
高數值孔徑(NA)物鏡系統的先進點擴散函數計算
當線性偏振高斯光束經高數值孔徑(NA)非球面透鏡聚焦時，由于矢量效應，焦平面上的PSF呈現非對稱性。
有關更多信息，請發送郵件至: support@infotek.com.cn / support@infocrops.com
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