X射線衍射分析的案例
X射線衍射儀（XRD）那么強大，到底能做哪些實驗？
來源：嘉峪檢測網(wǎng)、化學分析計量
X射線衍射分析法是研究物質(zhì)的物相和晶體結(jié)構(gòu)的主要方法。當某物質(zhì)(晶體或非晶體)進行衍射分析時,該物質(zhì)被X射線照射產(chǎn)生不同程度的衍射現(xiàn)象,物質(zhì)組成、晶型、分子內(nèi)成鍵方式、分子的構(gòu)型、構(gòu)象等決定該物質(zhì)產(chǎn)生特有的衍射圖譜。X射線衍射方法具有不損傷樣品、無污染、快捷、測量精度高、能得到有關(guān)晶體完整性的大量信息等優(yōu)點。因此,X射線衍射分析法作為材料結(jié)構(gòu)和成分分析的一種現(xiàn)代科學方法,已逐步在各學科研究和生產(chǎn)中廣泛應用。
XRD原理
X射線同無線電波、可見光、紫外線等一樣,本質(zhì)上都屬于電磁波,只是彼此之間占據(jù)不同的波長范圍而已。X射線的波長較短,大約在10-8～10-10cm之間。X射線分析儀器上通常使用的X射線源是X射線管,這是一種裝有陰陽極的真空封閉管（見圖1）,在管子兩極間加上高電壓,陰極就會發(fā)射出高速電子流撞擊金屬陽極靶,從而產(chǎn)生X射線。當X射線照射到晶體物質(zhì)上,由于晶體是由原子規(guī)則排列成的晶胞組成,這些規(guī)則排列的原子間距離與入射X射線波長有相同數(shù)量級,故由不同原子散射的X射線相互干涉,在某些特殊方向上產(chǎn)生強X射線衍射,衍射線在空間分布的方位和強度,與晶體結(jié)構(gòu)密切相關(guān)不同的晶體物質(zhì)具有自己獨特的衍射樣,這就是X射線衍射的基本原理。
當一個外來電子將K層的一個電子擊出成為自由電子（二次電子），這是原子就處于高能的不穩(wěn)定狀態(tài)，必然自發(fā)地向穩(wěn)態(tài)過渡。此時位于外層較高能量的L層電子可以躍遷到K層。能量差ΔE=EL-EK=hν將以X射線的形式放射出去，其波長λ＝h/ΔE必然是個僅僅取決于原子序數(shù)的常數(shù)。這種由L→K的躍遷產(chǎn)生的X射線我們稱為Kα輻射，同理還有Kβ輻射，Kγ輻射。不過應當知道離開原子核越遠的軌道產(chǎn)生躍遷的幾率越小，所以高次輻射的強度也將越來越小。
展開 果斷收藏 | 7大材料測試方法匯總！
來源丨實驗與分析←關(guān)注Ta
當前，材料分析測試技術(shù)和儀器設(shè)備眾多，并且各有優(yōu)點，隨其應用范圍愈廣，現(xiàn)有的測試表征手段越來越不能滿足要求，發(fā)展新的表征方法、測試技術(shù)勢在必行。小析姐匯總了實驗室常見的七大材料測試方法，成分，光譜，質(zhì)譜 ，能譜，形貌，物相結(jié)構(gòu)，熱重與大家分享。
01
成分分析
成分分析按照分析對象和要求可以分為 微量樣品分析 和 痕量成分分析兩種類型。按照分析的目的不同，又分為體相元素成分分析、表面成分分析和微區(qū)成分分析等方法。
體相元素成分分析是指體相元素組成及其雜質(zhì)成分的分析，其方法包括原子吸收、原子發(fā)射ICP、質(zhì)譜以及X射線熒光與X射線衍射分析方法;其中前三種分析方法需要對樣品進行溶解后再進行測定，因此屬于破壞性樣品分析方法;而X射線熒光與衍射分析方法可以直接對固體樣品進行測定因此又稱為非破壞性元素分析方法。
展開 一文讀懂X射線多晶衍射（XRD）測試常見問題
隨溫度升高使衍射峰左移，這是因為一般材料都是正膨脹系數(shù)材料，即隨溫度升高而膨脹。根據(jù)布拉格公式2dsinθ= nλ，在波長不變的情況下，d值增大，必然使sinθ 變小，而在衍射范圍內(nèi)，也就是θ變小，即峰位左移。
XRD測不出元素的峰有哪些原因？
衍射峰位置,多少決定物質(zhì)的外形,(立方或六方等等),還有晶胞尺寸。(共兩個因素)
一般來講,單質(zhì)元素,小體積。衍射峰就少，正常的。(你可以比對大晶胞和小晶胞的衍射線數(shù)量)。
影響原因:測試角度小了。
解決方法:把你的測試角度放大,你就會看到其他衍射線了。
我做分子篩負載金屬氧化物，隨著負載量增加，載體分子篩的特征峰漸漸變?nèi)酰@說明什么問題啊？金屬氧化物在高負載量時才有特征峰
1.樓主的“金屬氧化物在高負載量時才有特征峰”這句話，我覺得是有問題的。xrd作為檢測介孔載體的一種有效地手段， 檢測的是主要是是否存在介孔結(jié)構(gòu)及其的有序狀況。如果制備沒有任何問題，幾乎全部情況下，純的介孔結(jié)構(gòu)一定比負載其他物質(zhì)的介孔結(jié)構(gòu)有序性要好，如sba-15。特殊情況下，負載物質(zhì)可能會提高結(jié)構(gòu)的有序性。負載了金屬氧化物，他的特征峰正常情況應該高角度偏移且峰強減弱，這是因為負載物對孔道結(jié)構(gòu)造成一定的負面影響甚至嚴重到破壞，樓主情況可以從相對含量的減低來解釋，通俗來說，就是這個物質(zhì)負載他物后，它本身的特征性下降，所以峰強必然下降。
2.衍射峰的強度是隨含量下降而降低的，負載物含量提高意味著分子篩含量下降，測試結(jié)果很正常。
展開 鋰離子電池材料測試技術(shù)大梳理
當某物質(zhì)(晶體或非晶體)進行衍射分析時,該物質(zhì)被X射線照射產(chǎn)生不同程度的衍射現(xiàn)象,物質(zhì)組成、晶型、分子內(nèi)成鍵方式、分子的構(gòu)型、構(gòu)象等決定該物質(zhì)產(chǎn)生特有的衍射圖譜。X射線衍射方法具有不損傷樣品、無污染、快捷、測量精度高、能得到有關(guān)晶體完整性的大量信息等優(yōu)點。因此,X射線衍射分析法作為材料結(jié)構(gòu)和成分分析的一種現(xiàn)代科學方法,已逐步在各學科研究和生產(chǎn)中廣泛應用。
圖3：（a）鋰電材料的XRD光譜；（b）X射線衍射儀的原理結(jié)構(gòu)圖
3.1 XRD原理：X射線衍射作為一電磁波投射到晶體中時，會受到晶體中原子的散射，而散射波就像從原子中心發(fā)出，每個原子中心發(fā)出的散射波類似于源球面波。由于原子在晶體中是周期排列的，這些散射球波之間存在固定的相位關(guān)系，會導致在某些散射方向的球面波相互加強，而在某些方向上相互抵消，從而出現(xiàn)衍射現(xiàn)象。每種晶體內(nèi)部的原子排列方式是唯一的，因此對應的衍射花樣是唯一的，類似于人的指紋，因此可以進行物相分析。其中，衍射花樣中衍射線的分布規(guī)律是由晶胞的大小、形狀和位向決定。衍射線的強度是由原子的種類和它們在晶胞中的位置決定。通過布拉格方程：2dsinθ=nλ，我們可以獲得不同材料通過使用固定靶材激發(fā)的X射線在特殊θ角位置產(chǎn)生特征信號，即PDF卡片上標注的特征峰。
3.2 XRD測試特點：
XRD衍射儀的適用性很廣，通常用于測量粉末、單晶或多晶體等塊體材料，并擁有檢測快速、操作簡單、數(shù)據(jù)處理方便等優(yōu)點， 是一個標標準準的“良心產(chǎn)品”。不僅僅可用于檢測鋰電材料，大部分晶體材料都可以采用XRD測試其特定的晶型。圖3a為鋰電材料Co3O4所對應的XRD光譜，圖上根據(jù)對應的PDF卡片標注了該材料的晶面信息。該圖黑色對應塊體材料結(jié)晶峰窄且高度明顯，說明其結(jié)晶性很好。
3.3 測試對象及樣品準備要求：
粉末樣品或表面平整的塊狀樣品。
展開 
一文看懂金屬顯微結(jié)構(gòu)分析（轉(zhuǎn)自材易通）
測試步驟：
取樣→清洗→鑲嵌→研磨→拋光→微蝕→觀察
參考標準：
ASTM E112-2013
平均晶粒度測定的標準方法
GB/T 4335-2013
低碳鋼冷軋薄板鐵素體晶粒度測定方法
GB/T 6394-2002
金屬平均晶粒度測定法
YS/T 347-2004
銅及銅合金 平均晶粒度測定方法
JB/T 7946.4-1999
鑄造鋁銅合金晶粒度
典型圖片：
X射線衍射儀技術(shù)（XRD）
X射線衍射儀技術(shù)(X-ray diffraction，XRD)。
目的：
通過對材料進行X射線衍射，分析其衍射圖譜，獲得材料的成分、材料內(nèi)部原子或分子的結(jié)構(gòu)或形態(tài)等信息的研究手段。
X射線衍射分析法是研究物質(zhì)的物相和晶體結(jié)構(gòu)的主要方法。當某物質(zhì)(晶體或非晶體)進行衍射分析時，該物質(zhì)被X射線照射產(chǎn)生不同程度的衍射現(xiàn)象，物質(zhì)組成、晶型、分子內(nèi)成鍵方式、分子的構(gòu)型、構(gòu)象等決定該物質(zhì)產(chǎn)生特有的衍射圖譜。X射線衍射方法具有不損傷樣品、無污染、快捷、測量精度高、能得到有關(guān)晶體完整性的大量信息等優(yōu)點。因此，X射線衍射分析法作為材料結(jié)構(gòu)和成分分析的一種現(xiàn)代科學方法，已逐步在各學科研究和生產(chǎn)中廣泛應用。
主要應用：
物相定性分析、物相定量分析、點陣常數(shù)測定、微觀應力測定、結(jié)晶度測定、單晶取向和多晶織構(gòu)測定等
顯微金相組織分析
目的：
主要用于檢查金屬材料微觀的組織構(gòu)成、評判熱處理質(zhì)量。
展開 延邊大學權(quán)波：制備硫摻雜石墨烯的新戰(zhàn)略-可用于高性能鈉離子電池負極材料
圖 1熱處理法制備的硫摻雜石墨烯的形貌分析
(a)二甲基亞砜和硫摻雜石墨烯
(b)掃描電子顯微鏡圖
(c)投射電子顯微鏡圖
(d)高倍投射電子顯微鏡圖
(e)電鏡能譜分析
圖 2 表征
(a-b) X射線光電子能譜分析
(c) 拉曼光譜分析
(d) X射線衍射分析
圖 3 電化學性能分析
（a-b）充放電曲線
（c-d）循環(huán)伏安曲線
（e）不同電流密度下的循環(huán)性能圖
圖 4 電化學性能分析
（a）倍率性能圖
（b）長循環(huán)圖
小結(jié)：
本文通過新型熱處理法合成了富缺陷、含硫量高、層間距大的硫摻雜石墨烯。利用實驗室常用的有機溶劑，二甲基亞砜(DMSO)，為前驅(qū)體在高溫高壓條件下反應，制備出了硫原子摻雜的布形狀二維納米碳材料。實驗結(jié)果表明硫摻雜碳材料作為儲能材料表現(xiàn)出了良好的性能。這種合成戰(zhàn)略產(chǎn)量較高、成本較低，為新能源相關(guān)炭材料合成提供了新的思路和方向。
展開 石油化工裝置結(jié)垢的原因有哪些？該如何從根本上預防？
對黑色結(jié)垢物進行能譜分析，結(jié)果如下。
X射線衍射儀檢測結(jié)果表明，結(jié)垢物中的結(jié)晶化合物主要有FeS和Fe4Ni5S8(硫鎳鐵礦)。可以看出，結(jié)垢物主要是積碳結(jié)焦，另外也含有鐵腐蝕產(chǎn)生的化合物。
03
夾帶雜質(zhì)
煉化裝置的物料中有時會夾帶機械雜質(zhì)，此外，加注的各類助劑也會引入其他雜質(zhì)。這些雜質(zhì)往往會沉積在填料上或物料流速發(fā)生變化的部位，在高溫、低流速的條件下與有機物相互作用最終形成結(jié)垢物。
油漿蒸汽發(fā)生器是催化裂化裝置分餾系統(tǒng)重要的熱量回收設(shè)備，分餾塔底抽出的高溫油漿由油漿蒸汽發(fā)生器的管程下口進入，自下而上與殼程的除鹽水換熱后，由管程上口排出。當油漿固體含量高時，則會引起管程的通道結(jié)垢堵塞。
對該部位產(chǎn)生的黑色結(jié)垢物進行能譜分析，結(jié)果如下。
X射線衍射儀分析發(fā)現(xiàn)：結(jié)垢物主要物相有單質(zhì)Sb和FeS，還有少量Fe3O4和SiO2。
結(jié)垢物中的單質(zhì)Sb，應是來自于注入的金屬鈍化劑；另外還有FeS和Fe3O4；因Si，Al和O含量較高，應該來自于催化劑載體。
應對及預防措施
01
腐蝕結(jié)垢
①優(yōu)化電脫鹽操作，確保脫后原油鹽含量滿足相關(guān)指標控制要求，同時針對原油中有機氯對下游裝置造成的腐蝕影響，研究制定有機氯脫除方案，實現(xiàn)源頭控制。
展開 全反射X射線熒光分析在生物醫(yī)學中的應用
介紹了利用北京同步輻射實驗室的全反射ｘ射線熒光譜儀測量生物細胞 樣品的可行性．并用此譜儀測量了正常的和受輻照的小白鼠小腸細胞的痕量元 素含量，發(fā)現(xiàn)Ｋ、Ｃａ、Ｆｅ等元素含量有明顯的提高，Ｃｕ元素含量明顯降低，Ｍｎ元 素含量變化不大，ｚｎ元素含量基本穩(wěn)定，并討論了其在臨床醫(yī)學上的重要價值．
全反射X射線熒光分析在生物醫(yī)學中的應用.pdf
Datasqueeze v2.0.7 1CD（X射線分析軟件）
Datasqueeze產(chǎn)品：
Datasqueeze v2.0.7 1CD（X射線分析軟件）
Datasqueeze v2.0.5 Linux 1CD（這是Linux版本）
Datasqueeze v2.0.5 MAC 1CD（這是MAC版本）
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長期有效:
TEL：18980583122 扣扣：1140988741
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Esteco產(chǎn)品：
ESTECO.modeFRONTIER.v2016.Win64.&.Linux64.&.MacOSX64 3CD
ESTECO modeFRONTIER 2014 Update1 MultiLanguage Win32_64 & Linux32_64 & Unix & MacOSX 6CD
ESTECO.modeFRONTIER.4.5.4.Win32_64.&.Linux32_64.&.Unix.&.MacOSX 6CD
Esteco.modeFRONTiER.v4.4.2 ALL OS-ISO 5CD（多平臺優(yōu)化設(shè)計）
Anycasting產(chǎn)品:
AnyCasting.v6.3.Win32_64-ISO 2CD
AnyCasting 6.0 Win32_64-ISO 2CD（中、英文版，鑄造模擬軟件）
AnyCasting 入門學習資料
ESI-GROUP產(chǎn)品:
ESI Visual-Environment 13.5.2
展開 現(xiàn)場元素分析的革新：Evident原奧林巴斯x射線熒光光譜儀解決方案詳細講解
在工業(yè)制造與資源勘探的快節(jié)奏環(huán)境中，傳統(tǒng)的實驗室送樣檢測因漫長的周期，往往成為制約決策效率的瓶頸，Evident（原奧林巴斯科學解決方案部門）推出的Vanta系列手持式X射線熒光（XRF）分析儀，通過將實驗室級的分析能力集成于堅固便攜的手持設(shè)備中，徹底改變了這一現(xiàn)狀，該系列設(shè)備不僅實現(xiàn)了對從鎂（Mg）到鈾（U）全元素范圍的精準檢測，更憑借卓越的耐用性和智能化的數(shù)據(jù)處理能力，成為了工業(yè)現(xiàn)場質(zhì)量控制（QC）與材料可靠性鑒別（PMI）的標桿工具。
Evident原奧林巴斯：https://www.wabtecims.com.cn/
Evident原奧林巴斯x射線熒光光譜儀解決方案：https://www.wabtecims.com.cn/zh/xrf-analyzers/handheld/
核心技術(shù)：Axon技術(shù)重塑信號處理標準
Vanta系列的核心競爭力在于搭載的Axon技術(shù)，這是一種先進的信號處理技術(shù)，主要解決傳統(tǒng)XRF設(shè)備在復雜環(huán)境下信號不穩(wěn)定的痛點，Axon技術(shù)通過超低噪聲電子元件和優(yōu)化的算法，顯著提升了儀器的信噪比和計數(shù)率，在實際應用中，這意味著儀器能夠以極高的重復性提供精準的檢測結(jié)果，無論是第一次檢測還是第一百次檢測，設(shè)備都能保持高度一致的數(shù)據(jù)輸出，有效規(guī)避了因環(huán)境溫度變化或電子元件漂移導致的誤差。
針對不同應用需求，Vanta系列提供了多樣化的探測器配置：
SDD探測器（高端型號）：具備極高的能量分辨率，能夠有效分辨元素周期表中相鄰元素的特征峰，特別是在檢測輕元素（如鎂、鋁、硅、磷、硫）時表現(xiàn)優(yōu)異，這對于航空航天合金或精密不銹鋼的牌號鑒別十分重要。
展開 Nat. Comm. 再次發(fā)表馬興毅成果：金納米的“設(shè)計+合成”
【圖文解析】
圖1：設(shè)計性合成等離子納米顆粒
（a）用于光譜傳感的等離子納米結(jié)構(gòu)的建模；
（b）不同結(jié)構(gòu)的靈敏度分析；
（c）合成帶有“納米橋”結(jié)構(gòu)的金顆粒；
（d）對新型結(jié)構(gòu)的X射線衍射分析；
（e）對新型結(jié)構(gòu)的高分辨透射電子顯微學分析。
圖2：單顆粒傳感系統(tǒng)
（a）傳感示意圖；
（b）新型金顆粒的散射曲線和暗場顯微照片；
（c）金顆粒對表面的生物分子間的反應做靈敏的信號響應，表現(xiàn)為光譜位移；
（d）用于基因突變的傳感芯片的檢測步驟示意圖；
（e）基因錯配識別蛋白的結(jié)合動力學分析；
（f）靶基因的檢測動力學分析。
圖3：單位點基因突變的識別
（a）傳感芯片對8類突變的實時檢測信號；
（b）不同突變類型的檢測數(shù)據(jù)線圖集。
圖4：傳感芯片的可靠性驗證
（a）改變基因錯配識別蛋白的濃度分析傳感信號；
（b）傳感過程的動力學分析。
圖5：診斷基因單點突變的標準化數(shù)據(jù)圖集
以線圖集的形式描繪人類基因錯配修復蛋白MutS對單堿基突變的識別能力及其差異(GT>GG>+C>AA>TC>?C>AC>GA)，推出新的基因診斷方法（無需測序）。
圖6：構(gòu)建8款基因芯片，診斷與乳腺癌最為相關(guān)的8類突變
芯片對乳腺癌細胞HCC1937的相關(guān)基因做出的分析信號。
展開 
富含缺陷的軟碳多孔納米片用于快速、高容量儲鈉
此外，通過動力學分析確定了電容主導的鈉離子存儲機理，并利用原位X射線衍射分析揭示了鈉離子嵌入體相的行為。此外，所制備的納米片還可作為儲鉀(291 mAh·g-1的可逆容量)和雙離子全電池(電池級容量為61mAh·g-1、平均工作電壓4.2 V)的負極。上述特性代表了軟碳在實現(xiàn)高能量、高速率和低成本儲能系統(tǒng)方面的潛力。
【圖文簡介】
圖1 SC-NS的制備過程及其形貌
a-d) SC-NS材料的制備過程示意圖；
b-2) SC-MR的SEM圖像；
b-3) SC-MR的TEM圖像；
c-2) 中間體的SEM圖像；
c-3) 中間體的TEM圖像；
d-2) SC-NS的SEM圖像；
d-3) SC-NS的TEM圖像；
d-4) SC-NS的AFM圖像。
圖2 SC-NS系列材料的結(jié)構(gòu)表征
a) SC-NS和SC-MR的XRD圖；
b) SC-NS和SC-MR的氮氣吸-脫附等溫線；
c) 根據(jù)77 K下氮氣吸-脫附等溫線獲得的孔徑分布；
d) 根據(jù)273 K下CO2吸-脫附等溫線獲得的孔徑分布；
e) SC-NS的拉曼光譜以及曲線擬合；
f) SC-MR的拉曼光譜以及曲線擬合。
展開 中科院侯劍輝 Joule：可印刷陰極界面層在1cm2有機光伏器件中實現(xiàn)超過13%的能量轉(zhuǎn)換效率
X射線衍射分析顯示 NDI-N的分子間π-π堆積距離為3.3?，這是萘酰亞胺類材料最緊密的分子堆積方式之一，對電子傳輸十分有利。原子力顯微鏡（AFM）結(jié)果顯示通過旋涂法制備的NDI-N薄膜表面非常平整，表面粗糙度只有4.23 nm。在以往的研究報道中，具有高結(jié)晶度的小分子材料在成膜過程中很容易形成大尺寸的聚集，從而在薄膜表面產(chǎn)生缺陷，損害器件的光電子性能。與常見的高結(jié)晶性小分子材料不同的是，NDI-N雖然具有高度的結(jié)晶性，但同時還表現(xiàn)出良好的成膜性，具備了作為可印刷陰極界面層的有利條件。
圖1.
（a）NDI-N與NDI-Br的合成路線；（b）NDI-N與NDI-Br的吸收和透射光譜；（c）NDI-N的分子堆積結(jié)構(gòu)；（d）和（e）NDI-N與NDI-Br的掠入射廣角X射線衍射圖；（f）和（g）NDI-N薄膜的原子力顯微鏡高度圖和相圖；（h）和（i）NDI-Br薄膜的原子力顯微鏡高度圖和相圖。
為了考察NDI-N作為陰極界面層對器件性能的影響，該課題組還制備了單層器件。采用聚合物給體PBDT-2F-T和非富勒烯受體IT-4F作活性層，器件結(jié)構(gòu)如下：ITO/PEDOT:PSS/ PBDT-2F-T:IT-4F/NDI-N/Al。同時，采用PFN-Br和氧化鋅等傳統(tǒng)陰極界面層的器件被用作對比。采用NDI-N作為陰極界面層的器件的PCE達到了13.9%，明顯好于PFN-Br和氧化鋅修飾的器件。圖2c展示了30個NDI-N器件的效率分布圖，其中65%的器件效率都超過了13.6%，表明NDI-N的修飾性能具有很好的重現(xiàn)性。
展開 干貨：高分子領(lǐng)域常用的分析手段梳理
關(guān)于凝膠色譜在高分子材料的生產(chǎn)及研究工作中的應用可概括為以下四點：
a.用于高聚物生產(chǎn)過程中中聚合工藝的選擇，聚合反應機理的研究以及控制和監(jiān)視聚合過程；
b.在高聚物材料的加工及使用過程中用于研究相對分子質(zhì)量及相對分子質(zhì)量分布與加工使用性能的關(guān)系，助劑在加工和使用過程的作用以及老化機理的研究；
c.用于分離和分析高聚物材料的組成、結(jié)構(gòu)、以及高聚物單分散試樣的制備；
d.用于小分子物質(zhì)方面的分析，如在石油及表面涂層工業(yè)方面的應用等。
5. 核磁共振分析（NMR）
核磁共振分析作為一種工具在高聚物研究中應用甚廣，如相對分子質(zhì)量測定、組成分析、動力學過程、結(jié)晶度、相變等。但最為突出之處，是對高分子材料分子鏈的立體規(guī)整性、鏈節(jié)不同取向的銜接（如頭-頭、頭-尾鍵接等），鏈節(jié)序列分布及微結(jié)構(gòu)的確定。而核磁共振分析在聚合物表征方面的應用主要包括：
a.研究聚合物鏈的構(gòu)型；
b.研究聚合物鏈的構(gòu)象；
c.研究聚合物和共聚物中的序列分布及立構(gòu)規(guī)整性；
d.鑒別聚合物的混合物、嵌段共聚物、交替共聚物和無規(guī)共聚物；
e.研究聚合物的相容性和聚合物的共混物；
f.研究聚合物溶液中的分子相互作用；
g.研究聚合物的交聯(lián)等等。
6. X射線衍射分析（XRD）
當一束單色X射線入射到晶體時，由于晶體是由原子有規(guī)則排列成的晶胞所組成的，而這些有規(guī)則排列成的原子間距離與入射X射線波長具有相同數(shù)量級，故由不同原子散射的X射線相互干涉疊加，可在某些特殊方向上產(chǎn)生強的X射線衍射。衍射方向與晶胞的形狀及大小有關(guān)。衍射強度則與原子在晶胞中的排列方式有關(guān)。
展開 Acta Mater.: 納米晶Ti-44Ni-5Cu-1Al（at％）合金中穩(wěn)定且良好的超彈性和彈
透射電子顯微鏡觀察和拉伸應力下的原位X射線衍射分析表明，樣品的平均晶粒尺寸約為40nm，并且顯示出連續(xù)的B2-B19-B19'轉(zhuǎn)變。
【圖文導讀】
圖1 ：經(jīng)過不同熱機械處理（HR，CR，CR673，CR873）后以10K / min的速率測量的Ti-44Ni-5Cu-1Al（at％）合金的DSC冷卻和加熱曲線。
圖2 ：不同熱機械處理（HR，CR，CR673，CR873）后Ti-44Ni-5Cu-1Al（at％）合金的電阻率的溫度依賴性。
圖3：不同熱機械處理的Ti-44Ni-5Cu-1Al（at％）合金的馬氏體轉(zhuǎn)變溫度和熱滯后。
（a）不同熱機械處理（HR，CR，CR673，CR873）后Ti-44Ni-5Cu-1Al（at％）合金的馬氏體轉(zhuǎn)變溫度（Ms，Mf，As和Af）；
（b）用（Af-Ms）來評估熱滯后。
圖4：冷卻和加熱過程中在不同測試溫度下Ti-44Ni-5Cu-1Al（at％）CR673樣品的原位X射線衍射圖。
（a）冷卻；（b）加熱。
圖5： Ti-44Ni-5Cu-1Al（at％）HR樣品的明場圖和選區(qū)域衍射圖。
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