偏振分析的案例
VirtualLab偏振分析器
摘要
線柵偏振器，可以使透射光產(chǎn)生線性偏振狀態(tài)，是眾多應(yīng)用中常見的一種光學(xué)元件。由于它們的結(jié)構(gòu)在亞波長(zhǎng)范圍內(nèi)，因此必須對(duì)光的傳播進(jìn)行嚴(yán)格的處理。VirtualLab的偏振分析器及其內(nèi)置的RCWA能夠詳細(xì)分析和優(yōu)化，不僅是偏振器，還有抗反射結(jié)構(gòu)和其他類型的光柵。它提供了與偏振有關(guān)的反射和/或透射衍射階數(shù)的信息，同時(shí)還可以分析效率與波長(zhǎng)和/或入射角的關(guān)系。
任務(wù)描述
本文件的主題是使用偏振分析器研究光柵的衍射階數(shù)的偏振狀態(tài)。
光柵式光學(xué)裝置中的偏振分析器
編輯偏振分析器
-該分析器計(jì)算了所定義結(jié)構(gòu)的每個(gè)衍射階數(shù)的兩個(gè)正交偏振狀態(tài)的效率之和（無論是透射還是反射）。
-為此，在相應(yīng)系統(tǒng)的光柵組件中配置的光柵被使用。
-效率之和可以從所有（傳播）階數(shù)中計(jì)算，也可以從用戶定義的階數(shù)范圍中計(jì)算。
編輯偏振分析器
-入射光束的偏振狀態(tài)可以根據(jù)以下坐標(biāo)系來定義。
a. 光柵的坐標(biāo)系
b.光源的坐標(biāo)系
c.P-S坐標(biāo)系
d.TE-TM坐標(biāo)系
偏振方向
a．光柵坐標(biāo)系
瓊斯矢量分別描述了沿光柵組件的X軸和Y軸的電場(chǎng)。
b．光源坐標(biāo)系
瓊斯矢量分別描述了沿光源X軸和Y軸的電場(chǎng)。
非錐形入射的偏振方向
c．p-s坐標(biāo)系
d．TE-TE坐標(biāo)系
入射平面由光柵表面的法向量和入射光線的方向向量定義（在非錐形情況下，光柵向量也在這個(gè)平面內(nèi)）。p-極化狀態(tài)與入射平面平行，而s-極化狀態(tài)與之垂直。對(duì)于TE/TM極化，這也相應(yīng)有效（TM：平行，TE：垂直）。
展開 [NEWSLETTER] 光柵的偏振分析
光柵的一個(gè)特征是對(duì)入射光的偏振敏感性，以及通常情況下較強(qiáng)的矢量特性。
無論這種影響是否有益，快速物理光學(xué)軟件為您提供了幫助：首先，通過了一致的矢量處理，它不僅包括場(chǎng)和光柵本身，也包括可能包含光柵的光學(xué)系統(tǒng)。其次，Virtuallab Fusion提供了對(duì)光柵的矢量特征進(jìn)行詳細(xì)的分析的必要工具。
在下面的示例中，我們將深入介紹偏振分析器——光柵光學(xué)平臺(tái)中的一個(gè)強(qiáng)大工具，允許用戶計(jì)算不同偏振狀態(tài)下光柵級(jí)次的衍射效率，并提供額外選項(xiàng)來研究波長(zhǎng)和入射角的作用——以及傾斜光柵偏振效應(yīng)的研究。
偏振分析器
此功能用例演示了偏振分析器分析和優(yōu)化光柵結(jié)構(gòu)的能力。
研究衍射級(jí)次的偏振狀態(tài)
VirtualLab Fusion能夠?qū)鈻沤Y(jié)構(gòu)進(jìn)行詳細(xì)分析，包括分析可能的衍射級(jí)次和偏振態(tài)的變化。
展開 [VirtualLab] SiO2膜層的可變角橢圓偏振光譜（VASE）分析
摘要
可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）是一種常用的技術(shù)，由于其對(duì)光學(xué)參數(shù)的微小變化具有高靈敏度，而被用在許多使用薄膜結(jié)構(gòu)的應(yīng)用中，如半導(dǎo)體、光學(xué)涂層、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、平板制造等。在本用例中，我們演示了VirtualLab Fusion中的橢圓偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂層上的使用。對(duì)于系統(tǒng)的參數(shù)，我們參考Woollam等人的工作 "可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）概述。I. 基本理論和典型應(yīng)用"，并研究該方法對(duì)輕微變化的涂層厚度有多敏感。
任務(wù)描述
鍍膜樣品
關(guān)于配置堆棧的更多信息。
利用界面配置光柵結(jié)構(gòu)
一般光柵組件能夠?qū)χ芷谛越Y(jié)構(gòu)進(jìn)行建模。在各向同性的情況下，使用一個(gè)非常小的周期，以確保只有0階會(huì)傳播。二氧化硅層也是根據(jù)參考文獻(xiàn)來定義的。
- 涂層厚度：10納米
- 涂層材料。二氧化硅
- 折射率：擴(kuò)展的Cauchy模型。
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- 基板材料：晶體硅
- 入射角度。75°
橢圓偏振分析儀
橢圓偏振分析儀用于計(jì)算相位差??，以及反射光束的振幅分量Ψ。
有關(guān)該分析儀的更多信息可在這里找到。
橢圓偏振分析儀
總結(jié) - 組件...
橢圓偏振系數(shù)測(cè)量
橢圓偏振分析儀測(cè)量反射系數(shù)（s-和p-極化分量）的比率??，并輸出相位差??，以及振幅分量Ψ，根據(jù)
在VirtualLab Fusion中，復(fù)數(shù)系數(shù)??p和??s是通過應(yīng)用嚴(yán)格耦合波分析（RCWA），也被稱為傅里葉模態(tài)法（FMM）來計(jì)算。因此，在研究光柵樣品的情況下，這些系數(shù)也可以是特定衍射階數(shù)的瑞利系數(shù)。
展開 VirtualLab Fusion應(yīng)用：氧化硅膜層的可變角橢圓偏振光譜（VASE）分析
摘要
可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）是一種常用的技術(shù)，由于其對(duì)光學(xué)參數(shù)的微小變化具有高靈敏度，而被用在許多使用薄膜結(jié)構(gòu)的應(yīng)用中，如半導(dǎo)體、光學(xué)涂層、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、平板制造等。在本用例中，我們演示了VirtualLab Fusion中的橢圓偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂層上的使用。對(duì)于系統(tǒng)的參數(shù)，我們參考Woollam等人的工作 "可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）概述。I. 基本理論和典型應(yīng)用"，并研究該方法對(duì)輕微變化的涂層厚度有多敏感。
任務(wù)描述
鍍膜樣品
橢圓偏振分析儀
總結(jié) - 組件...
橢圓偏振系數(shù)測(cè)量
橢圓偏振分析儀測(cè)量反射系數(shù)（s-和p-極化分量）的比率??，并輸出相位差??，以及振幅分量Ψ，根據(jù)
在VirtualLab Fusion中，復(fù)數(shù)系數(shù)??p和??s是通過應(yīng)用嚴(yán)格耦合波分析（RCWA），也被稱為傅里葉模態(tài)法（FMM）來計(jì)算。因此，在研究光柵樣品的情況下，這些系數(shù)也可以是特定衍射階數(shù)的瑞利系數(shù)。
橢圓偏振對(duì)小厚度變化的敏感性
為了評(píng)估橢偏儀對(duì)涂層厚度即使是非常小的變化的敏感性，對(duì)10納米厚的二氧化硅層和10.1納米厚的二氧化硅膜的結(jié)果進(jìn)行了比較。即使是厚度的微小變化，1埃的差異也高于普通橢圓偏振的分辨率（0.02°為??，0.1°為??*）。因此，即使是涂層中的亞納米變化也可以通過橢偏儀來測(cè)量。
* 數(shù)值根據(jù)Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999)
仿真結(jié)果與參考文獻(xiàn)的比較
被研究的SiO2層厚度變化為1埃時(shí)，??和??的差異。
展開 
VirtualLab Fusion應(yīng)用：氧化硅膜層的可變角橢圓偏振光譜（VASE）分析
摘要
可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）是一種常用的技術(shù)，由于其對(duì)光學(xué)參數(shù)的微小變化具有高靈敏度，而被用在許多使用薄膜結(jié)構(gòu)的應(yīng)用中，如半導(dǎo)體、光學(xué)涂層、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、平板制造等。在本用例中，我們演示了VirtualLab Fusion中的橢圓偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂層上的使用。對(duì)于系統(tǒng)的參數(shù)，我們參考Woollam等人的工作 "可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）概述。I. 基本理論和典型應(yīng)用"，并研究該方法對(duì)輕微變化的涂層厚度有多敏感。
任務(wù)描述
鍍膜樣品
橢圓偏振分析儀
總結(jié) - 組件...
橢圓偏振系數(shù)測(cè)量
橢圓偏振分析儀測(cè)量反射系數(shù)（s-和p-極化分量）的比率??，并輸出相位差??，以及振幅分量Ψ，根據(jù)
在VirtualLab Fusion中，復(fù)數(shù)系數(shù)??p和??s是通過應(yīng)用嚴(yán)格耦合波分析（RCWA），也被稱為傅里葉模態(tài)法（FMM）來計(jì)算。因此，在研究光柵樣品的情況下，這些系數(shù)也可以是特定衍射階數(shù)的瑞利系數(shù)。
橢圓偏振對(duì)小厚度變化的敏感性
為了評(píng)估橢偏儀對(duì)涂層厚度即使是非常小的變化的敏感性，對(duì)10納米厚的二氧化硅層和10.1納米厚的二氧化硅膜的結(jié)果進(jìn)行了比較。即使是厚度的微小變化，1埃的差異也高于普通橢圓偏振的分辨率（0.02°為??，0.1°為??*）。因此，即使是涂層中的亞納米變化也可以通過橢偏儀來測(cè)量。
* 數(shù)值根據(jù)Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999)
仿真結(jié)果與參考文獻(xiàn)的比較
被研究的SiO2層厚度變化為1埃時(shí)，??和??的差異。
展開 高效偏振無關(guān)傳輸光柵的分析與設(shè)計(jì)
摘要
眾所周知，光柵，尤其是那些特征尺寸與波長(zhǎng)相當(dāng)?shù)墓鈻牛哂?em>偏振相關(guān)的光學(xué)特性。這使得為任意偏振設(shè)計(jì)具有高衍射效率的光柵變得困難。根據(jù)文獻(xiàn)[T.Clausnitzer等人，Proc.SPIE 5252，174-182（2003）]中報(bào)道的概念，我們展示了如何嚴(yán)格分析光柵的偏振相關(guān)特性，以及如何使用參數(shù)優(yōu)化設(shè)計(jì)具有高衍射效率的偏振無關(guān)光柵。
設(shè)計(jì)任務(wù)
光柵光學(xué)裝置
偏振分析器
優(yōu)化
參數(shù)運(yùn)行
關(guān)于光柵周期選擇的考慮
偏振相關(guān)衍射特性
偏振相關(guān)衍射特性
偏振相關(guān)衍射特性
固定周期二維參數(shù)優(yōu)化
二維參數(shù)優(yōu)化——設(shè)計(jì)#1
二維參數(shù)優(yōu)化——設(shè)計(jì)#2
制造公差分析
變光柵周期三維參數(shù)優(yōu)化
制造公差分析
VirtualLab Fusion 技術(shù)
文件信息
更多閱覽
- 超稀疏介質(zhì)納米線柵偏振器
- 納米柱超表面構(gòu)建塊的嚴(yán)格分析
- 傾斜光柵的參數(shù)優(yōu)化及公差分析
- 偏振分析器
- 利用界面配置光柵結(jié)構(gòu)
展開 VirtualLab Fusion光柵的偏振分析
在下面的示例中，我們將深入介紹偏振分析器——光柵光學(xué)平臺(tái)中的一個(gè)強(qiáng)大工具，允許用戶計(jì)算不同偏振狀態(tài)下光柵級(jí)次的衍射效率，并提供額外選項(xiàng)來研究波長(zhǎng)和入射角的作用——以及傾斜光柵偏振效應(yīng)的研究。
無論這種影響是否有益，快速物理光學(xué)軟件為您提供了幫助：首先，通過了一致的矢量處理，它不僅包括場(chǎng)和光柵本身，也包括可能包含光柵的光學(xué)系統(tǒng)。其次，Virtuallab Fusion提供了對(duì)光柵的矢量特征進(jìn)行詳細(xì)的分析的必要工具。
光柵是許多經(jīng)典和現(xiàn)代光學(xué)系統(tǒng)的基本組成元件，如光譜儀和近眼顯示領(lǐng)域。光柵的一個(gè)特征是對(duì)入射光的偏振敏感性，以及通常情況下較強(qiáng)的矢量特性。
研究衍射級(jí)次的偏振狀態(tài)
此功能用例演示了偏振分析器分析和優(yōu)化光柵結(jié)構(gòu)的能力。
展開 VirtualLab：光柵偏振分析器
非錐形入射的偏振方向
c.p-s坐標(biāo)系
d.TE-TE坐標(biāo)系
入射平面由光柵表面的法向量和入射光線的方向向量定義（在非錐形情況下，光柵向量也在這個(gè)平面內(nèi)）。p-極化狀態(tài)與入射平面平行，而s-極化狀態(tài)與之垂直。對(duì)于TE/TM極化，這也相應(yīng)有效（TM：平行，TE：垂直）。
錐形入射的偏振方向
c.p-s坐標(biāo)系
d.TE-TM坐標(biāo)系
在錐形情況下，光的入射方向不再是由表面法線和光柵矢量定義的平面內(nèi)。同樣，入射光線的偏振狀態(tài)是根據(jù)入射方向和光柵表面的法線矢量形成的入射平面來定義的。
輸出數(shù)據(jù)的規(guī)格
除了兩個(gè)正交偏振方向的效率外，該分析儀還提供其他評(píng)價(jià)函數(shù)，如偏振對(duì)比度和平均效率。
-Ex方向的Ix效率：Ex偏振的整體反射/傳輸效率。
-Ey方向的Iy效率：Ey偏振的整體反射/傳輸效率。
-偏振對(duì)比度：P=Ix/Iy。
-平均效率：A=(Ix+Iy)/2。
內(nèi)置的參數(shù)運(yùn)行功能
-分析器提供了一個(gè)內(nèi)置的Parameter Run功能，用于分析指定范圍內(nèi)的波長(zhǎng)和/或入射角的目標(biāo)函數(shù)。
-此外，一些Advanced Outputs也是可用的，例如，在定義的波長(zhǎng)或角度范圍內(nèi)說明所選優(yōu)點(diǎn)函數(shù)的變化的圖示。
-通過激活相應(yīng)的復(fù)選框（同樣，對(duì)于最小、最大和均勻性誤差），將產(chǎn)生相應(yīng)的附加輸出。
內(nèi)置的參數(shù)運(yùn)行功能
入射角定義的注意事項(xiàng)：
如果您在光學(xué)設(shè)置中創(chuàng)建一個(gè)新的偏振分析器，偏振分析器中的角度定義類型將根據(jù)該光學(xué)設(shè)置中光柵組件的方向定義類型來設(shè)置，即：
-對(duì)于球面角，Theta、Phi和Zeta角可以被改變。
-對(duì)于方向角，Zeta角可以改變。
-對(duì)于笛卡爾角，可以改變Alpha、Beta和Zeta的角度。
展開 光柵偏振分析器
-分析器提供了一個(gè)內(nèi)置的Parameter Run功能，用于分析指定范圍內(nèi)的波長(zhǎng)和/或入射角的目標(biāo)函數(shù)。
例子
-對(duì)于歐拉角，可以改變Psi、Theta和Phi的角度。
-對(duì)于笛卡爾角，可以改變Alpha、Beta和Zeta的角度。
-對(duì)于方向角，Zeta角可以改變。
-對(duì)于球面角，Theta、Phi和Zeta角可以被改變。
如果您在光學(xué)設(shè)置中創(chuàng)建一個(gè)新的偏振分析器，偏振分析器中的角度定義類型將根據(jù)該光學(xué)設(shè)置中光柵組件的方向定義類型來設(shè)置，即：
入射角定義的注意事項(xiàng)：
[VirtualLab] 光柵偏振分析器
非錐形入射的偏振方向
c.p-s坐標(biāo)系
d.TE-TE坐標(biāo)系
入射平面由光柵表面的法向量和入射光線的方向向量定義（在非錐形情況下，光柵向量也在這個(gè)平面內(nèi)）。p-極化狀態(tài)與入射平面平行，而s-極化狀態(tài)與之垂直。對(duì)于TE/TM極化，這也相應(yīng)有效（TM：平行，TE：垂直）。
錐形入射的偏振方向
c.p-s坐標(biāo)系
d.TE-TM坐標(biāo)系
在錐形情況下，光的入射方向不再是由表面法線和光柵矢量定義的平面內(nèi)。同樣，入射光線的偏振狀態(tài)是根據(jù)入射方向和光柵表面的法線矢量形成的入射平面來定義的。
輸出數(shù)據(jù)的規(guī)格
除了兩個(gè)正交偏振方向的效率外，該分析儀還提供其他評(píng)價(jià)函數(shù)，如偏振對(duì)比度和平均效率。
-Ex方向的Ix效率：Ex偏振的整體反射/傳輸效率。
-Ey方向的Iy效率：Ey偏振的整體反射/傳輸效率。
-偏振對(duì)比度：P=Ix/Iy。
-平均效率：A=(Ix+Iy)/2。
內(nèi)置的參數(shù)運(yùn)行功能
-分析器提供了一個(gè)內(nèi)置的Parameter Run功能，用于分析指定范圍內(nèi)的波長(zhǎng)和/或入射角的目標(biāo)函數(shù)。
-此外，一些Advanced Outputs也是可用的，例如，在定義的波長(zhǎng)或角度范圍內(nèi)說明所選優(yōu)點(diǎn)函數(shù)的變化的圖示。
展開 TechWiz LCD 1D應(yīng)用：偏振狀態(tài)分析
LCD的組成有具有折射率各向異性的液晶并夾在兩個(gè)偏振器之間，來控制顏色和亮度。偏振分析使分析觀測(cè)角度光特性的關(guān)鍵。考慮到液晶分子的光學(xué)各向異性，TechWiz Polar可根據(jù)偏振器和補(bǔ)償膜精確地分析光的偏振狀態(tài)。
橢圓偏振分析器
當(dāng)線偏振光(分解為一個(gè)偏振平行(??p,i)和一個(gè)垂直于入射面(??s,i)的波)與電介質(zhì)相互作用時(shí)，偏振態(tài)會(huì)發(fā)生變化。從入射波和反射(或透射)波之間的相移(??)，以及反射(或透射)振幅的比值(tan(??))，可以推導(dǎo)出介質(zhì)的介電特性(??, ??)。
橢圓偏振儀的基本原理
橢圓偏振儀是一種光學(xué)測(cè)量方法，通常用于確定薄膜的介電特性。測(cè)量涉及確定不同波長(zhǎng)和入射角下從樣品反射或透射時(shí)光偏振態(tài)的變化。因此，它可用于表征成分、粗糙度、厚度、結(jié)晶性能、導(dǎo)電性和其他材料特性。它對(duì)入射輻射與所研究材料相互作用的光學(xué)響應(yīng)變化非常敏感。此用例演示了橢圓偏振儀的基本原理，并說明了 VirtualLab Fusion中內(nèi)置橢圓偏振分析器的使用。
級(jí)次選擇
分析器在計(jì)算過程中配置光學(xué)設(shè)置的方向和位置。因此，不需要配置光源的位置，光學(xué)系統(tǒng)中的探測(cè)器或光源中的偏振態(tài)。
該堆棧可以由單個(gè)或一定數(shù)量的層組成，也可以由1D或2D周期結(jié)構(gòu)(光柵)組成。
橢偏分析器可以計(jì)算光在所定義堆棧上反射或透射的結(jié)果。
展開 [VirtualLab] 橢圓偏振分析器
測(cè)量涉及確定不同波長(zhǎng)和入射角下從樣品反射或透射時(shí)光偏振態(tài)的變化。因此，它可用于表征成分、粗糙度、厚度、結(jié)晶性能、導(dǎo)電性和其他材料特性。它對(duì)入射輻射與所研究材料相互作用的光學(xué)響應(yīng)變化非常敏感。此用例演示了橢圓偏振儀的基本原理，并說明了 VirtualLab Fusion中內(nèi)置橢圓偏振分析器的使用。
橢圓偏振儀的基本原理
當(dāng)線偏振光(分解為一個(gè)偏振平行(??p,i)和一個(gè)垂直于入射面(??s,i)的波)與電介質(zhì)相互作用時(shí)，偏振態(tài)會(huì)發(fā)生變化。從入射波和反射(或透射)波之間的相移(??)，以及反射(或透射)振幅的比值(tan(??))，可以推導(dǎo)出介質(zhì)的介電特性(??, ??)。
橢圓偏振儀的基本原理
注意：類似的考慮適用于透射情況，但為了簡(jiǎn)單起見，只討論反射。
將橢偏分析器加入系統(tǒng)
分析輸出
橢偏分析器可以計(jì)算光在所定義堆棧上反射或透射的結(jié)果。
該堆棧可以由單個(gè)或一定數(shù)量的層組成，也可以由1D或2D周期結(jié)構(gòu)(光柵)組成。
分析器在計(jì)算過程中配置光學(xué)設(shè)置的方向和位置。因此，不需要配置光源的位置，光學(xué)系統(tǒng)中的探測(cè)器或光源中的偏振態(tài)。
級(jí)次選擇
對(duì)于一個(gè)層堆棧，如果沒有橫向周期性，則應(yīng)選擇級(jí)次(0,0)。
如果使用光柵結(jié)構(gòu)作為樣品，可以通過在x和y上定義所研究的衍射級(jí)次的指數(shù)，來選擇所考慮的衍射級(jí)次。
對(duì)于一維周期光柵，第二指數(shù)應(yīng)為零。
輸出
角度定義
入射角可以用度(Deg)或弧度(Rad)來定義。
TM相對(duì)于TE的相移是一個(gè)相移補(bǔ)償器，如果引入到橢偏分析中，它只會(huì)移動(dòng)p和s偏振之間的相對(duì)相位差(??)，而不會(huì)對(duì)p和s偏振分量的實(shí)際振幅產(chǎn)生影響(Ψ)。
波長(zhǎng)和入射角的掃描
橢偏分析器包括一個(gè)選項(xiàng)，通過定義變化的范圍、步長(zhǎng)和步數(shù)來掃描波長(zhǎng)和入射角參數(shù)。
展開 SiO2膜層的可變角橢圓偏振光譜（VASE）分析
摘要
可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）是一種常用的技術(shù)，由于其對(duì)光學(xué)參數(shù)的微小變化具有高靈敏度，而被用在許多使用薄膜結(jié)構(gòu)的應(yīng)用中，如半導(dǎo)體、光學(xué)涂層、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、平板制造等。在本用例中，我們演示了VirtualLab Fusion中的橢圓偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂層上的使用。對(duì)于系統(tǒng)的參數(shù)，我們參考Woollam等人的工作 "可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）概述。I. 基本理論和典型應(yīng)用"，并研究該方法對(duì)輕微變化的涂層厚度有多敏感。
VirtualLab：橢圓偏振分析器
測(cè)量涉及確定不同波長(zhǎng)和入射角下從樣品反射或透射時(shí)光偏振態(tài)的變化。因此，它可用于表征成分、粗糙度、厚度、結(jié)晶性能、導(dǎo)電性和其他材料特性。它對(duì)入射輻射與所研究材料相互作用的光學(xué)響應(yīng)變化非常敏感。此用例演示了橢圓偏振儀的基本原理，并說明了 VirtualLab Fusion中內(nèi)置橢圓偏振分析器的使用。
橢圓偏振儀的基本原理
當(dāng)線偏振光(分解為一個(gè)偏振平行(??p,i)和一個(gè)垂直于入射面(??s,i)的波)與電介質(zhì)相互作用時(shí)，偏振態(tài)會(huì)發(fā)生變化。從入射波和反射(或透射)波之間的相移(??)，以及反射(或透射)振幅的比值(tan(??))，可以推導(dǎo)出介質(zhì)的介電特性(??, ??)。
橢圓偏振儀的基本原理
注意：類似的考慮適用于透射情況，但為了簡(jiǎn)單起見，只討論反射。
將橢偏分析器加入系統(tǒng)
分析輸出
橢偏分析器可以計(jì)算光在所定義堆棧上反射或透射的結(jié)果。
該堆棧可以由單個(gè)或一定數(shù)量的層組成，也可以由1D或2D周期結(jié)構(gòu)(光柵)組成。
分析器在計(jì)算過程中配置光學(xué)設(shè)置的方向和位置。因此，不需要配置光源的位置，光學(xué)系統(tǒng)中的探測(cè)器或光源中的偏振態(tài)。
級(jí)次選擇
對(duì)于一個(gè)層堆棧，如果沒有橫向周期性，則應(yīng)選擇級(jí)次(0,0)。
如果使用光柵結(jié)構(gòu)作為樣品，可以通過在x和y上定義所研究的衍射級(jí)次的指數(shù)，來選擇所考慮的衍射級(jí)次。
對(duì)于一維周期光柵，第二指數(shù)應(yīng)為零。
輸出
角度定義
入射角可以用度(Deg)或弧度(Rad)來定義。
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