雙折射仿真的案例
[VirtualLab] 各向異性方解石晶體的雙折射效應(yīng)
[VirtualLab] 各向異性方解石晶體的雙折射效應(yīng)
摘要
雙折射效應(yīng)是各向異性材料最重要的光學(xué)特性，并廣泛應(yīng)用于多種光學(xué)器件。當(dāng)入射光波撞擊各向異性材料，會(huì)以不同的偏振態(tài)分束到不同路徑，即眾所周知的尋常光束和異常光束。在本示例中，描述了如何利用VirtualLab Fusion對(duì)雙折射進(jìn)行仿真，并分析入射偏振態(tài)和晶體厚度對(duì)雙折射效應(yīng)的影響。
2. 系統(tǒng)建模
3. 單軸晶體的雙折射現(xiàn)象
當(dāng)光束沿晶體光軸軸方向傳播 (其場(chǎng)向量因此在垂直于光軸的平面上)至晶體，不會(huì)發(fā)生雙折射現(xiàn)象，并將以單一速度通過(guò)晶體。然而，當(dāng)如何光束的傳輸方向與光軸存在夾角，將會(huì)隨其進(jìn)入晶體產(chǎn)生兩種透射模態(tài)(尋常和異常)。兩種模態(tài)在晶體中具有不同的速度，且偏振方向相互垂直。這種就是著名的雙透射或雙折射現(xiàn)象。
探測(cè)器上的場(chǎng)追跡結(jié)果。注意，為適應(yīng)不同偏振方向?qū)μ綔y(cè)器進(jìn)行了旋轉(zhuǎn)
4. 對(duì)于不同初始偏振態(tài)的雙折射
5. 不同晶體厚度的雙折射
6. 文件信息
了解更多
- Optically Anisotropic Media in VirtualLab Fusion
- Conical Refraction in Biaxial Crystals
- Polarization Conversion in Uniaxial Crystals
展開(kāi) Ansys | 雙折射是什么？
然而，丙烯酸類(lèi)和PMMA等聚合物更容易產(chǎn)生應(yīng)力雙折射。該效應(yīng)在玻璃中并不顯著，但塑料光學(xué)元件可能發(fā)生形變，并在分子層面改變光與材料的相互作用。因此，在智能手機(jī)、抬頭顯示器（HUD）和AR/VR頭顯設(shè)備等高性能技術(shù)中使用的所有塑料透鏡，都需要考慮應(yīng)力雙折射。
光學(xué)器件中的應(yīng)力雙折射主要有兩大來(lái)源：制造過(guò)程和安裝過(guò)程。在制造過(guò)程中，注塑成型等工藝會(huì)導(dǎo)致透鏡冷卻時(shí)其內(nèi)部產(chǎn)生殘余應(yīng)力，因?yàn)橥饩壚鋮s速度比內(nèi)部更快。
此外，將透鏡固定到其支架或外殼中時(shí)，該過(guò)程產(chǎn)生的機(jī)械應(yīng)力會(huì)改變塑料透鏡內(nèi)部的折射率分布。由于這些應(yīng)力會(huì)改變材料的固有光學(xué)屬性，因此必須在仿真和建模中予以考慮，以確保最佳透鏡性能并最大限度地減少光學(xué)損耗，例如亮度和強(qiáng)度的衰減。
即使整體光透射損耗只有幾個(gè)百分點(diǎn)，若未加考慮，也可能導(dǎo)致圖像質(zhì)量和亮度超出指定范圍。這種影響在HUD和AR/VR頭顯設(shè)備中尤為明顯，其會(huì)導(dǎo)致低對(duì)比度圖像，因此必須通過(guò)增加系統(tǒng)功耗來(lái)補(bǔ)償。但對(duì)于頭顯設(shè)備而言，這并不是理想選擇，因?yàn)檫@會(huì)產(chǎn)生額外熱量，不僅會(huì)讓佩戴者感到不適，還會(huì)更快地耗盡電池電量。
雙折射始終會(huì)造成一定程度的光學(xué)誤差，但制造商很少提供關(guān)于其如何影響材料光學(xué)性能的信息。隨著工程師開(kāi)發(fā)更先進(jìn)的光學(xué)組件，了解雙折射對(duì)不同材料性能的影響將變得越來(lái)越重要。仿真與計(jì)算建模能夠通過(guò)考慮應(yīng)力雙折射等多物理場(chǎng)效應(yīng)，提供設(shè)計(jì)洞察，成為解鎖新一代光學(xué)設(shè)計(jì)的關(guān)鍵。
雙折射仿真
先進(jìn)光學(xué)系統(tǒng)的開(kāi)發(fā)、原型設(shè)計(jì)、測(cè)試和生產(chǎn)成本日益攀升。因此，減少物理原型測(cè)試周期對(duì)于在預(yù)算范圍內(nèi)推進(jìn)產(chǎn)品開(kāi)發(fā)至關(guān)重要。如果能確保首個(gè)物理原型就接近預(yù)期規(guī)范，便可以助力節(jié)省時(shí)間、精力和資金。
展開(kāi) 各向異性方解石晶體的雙折射效應(yīng)
雙折射效應(yīng)是各向異性材料最重要的光學(xué)特性，并廣泛應(yīng)用于多種光學(xué)器件。當(dāng)入射光波撞擊各向異性材料，會(huì)以不同的偏振態(tài)分束到不同路徑，即眾所周知的尋常光束和異常光束。在本示例中，描述了如何利用VirtualLab Fusion對(duì)雙折射進(jìn)行仿真，并分析入射偏振態(tài)和晶體厚度對(duì)雙折射效應(yīng)的影響。
1. 摘要
各向異性方解石晶體的雙折射效應(yīng)
雙折射效應(yīng)是各向異性材料最重要的光學(xué)特性，并廣泛應(yīng)用于多種光學(xué)器件。當(dāng)入射光波撞擊各向異性材料，會(huì)以不同的偏振態(tài)分束到不同路徑，即眾所周知的尋常光束和異常光束。在本示例中，描述了如何利用VirtualLab Fusion對(duì)雙折射進(jìn)行仿真，并分析入射偏振態(tài)和晶體厚度對(duì)雙折射效應(yīng)的影響。
1. 摘要
VirtualLab：各向異性方解石晶體的雙折射效應(yīng)
1.摘要
雙折射效應(yīng)是各向異性材料最重要的光學(xué)特性，并廣泛應(yīng)用于多種光學(xué)器件。當(dāng)入射光波撞擊各向異性材料，會(huì)以不同的偏振態(tài)分束到不同路徑，即眾所周知的尋常光束和異常光束。在本示例中，描述了如何利用VirtualLab Fusion對(duì)雙折射進(jìn)行仿真，并分析入射偏振態(tài)和晶體厚度對(duì)雙折射效應(yīng)的影響。
2.系統(tǒng)建模
3.單軸晶體的雙折射現(xiàn)象
當(dāng)光束沿晶體光軸軸方向傳播 (其場(chǎng)向量因此在垂直于光軸的平面上)至晶體，不會(huì)發(fā)生雙折射現(xiàn)象，并將以單一速度通過(guò)晶體。然而，當(dāng)如何光束的傳輸方向與光軸存在夾角，將會(huì)隨其進(jìn)入晶體產(chǎn)生兩種透射模態(tài)(尋常和異常)。兩種模態(tài)在晶體中具有不同的速度，且偏振方向相互垂直。這種就是著名的雙透射或雙折射現(xiàn)象。
探測(cè)器上的場(chǎng)追跡結(jié)果。注意，為適應(yīng)不同偏振方向方向探對(duì)探測(cè)器進(jìn)行了旋轉(zhuǎn)
4.對(duì)于不同初始偏振態(tài)的雙折射
5.不同晶體厚度的雙折射
6.文件信息
了解更多
- Optically Anisotropic Media in VirtualLab Fusion
- Conical Refraction in Biaxial Crystals
- Polarization Conversion in Uniaxial Crystals
展開(kāi) 使用VirtualLab Fusion仿真多層雙折射反射偏振器
摘要
多層雙折射反射偏光片在液晶顯示器 (LCD) 應(yīng)用中具有很大優(yōu)勢(shì)。他們可以回收背光來(lái)提高 LCD 的光學(xué)效率。在此用例中，我們重現(xiàn)了文獻(xiàn)Li et. al. J. Display T echnol. 5, 335-340 (2009) 中的實(shí)驗(yàn)，探討了 VirtualLab Fusion 中交替雙折射層的數(shù)量與布拉格反射條件之間的關(guān)系，并進(jìn)一步研究了反射效率隨不同波長(zhǎng)和入射角的變化。
任務(wù)描述
多層堆棧的建模
分層介質(zhì)組件用于對(duì)多層疊層進(jìn)行建模。
A層：雙折射單軸層（BL038）
B層：各向同性層(NOA81)
建立布拉格條件的周期層數(shù)
建立布拉格條件的周期層數(shù)
多層反射偏振器的建模
多棧方式擴(kuò)展帶寬
不同入射角反射效率的研究
走進(jìn)VirtualLab Fusion
VirtualLab Fusion工作流程
? 設(shè)置平面波光源
– 基本光源模型 [教程視頻]
? 設(shè)置各向異性層組件
– VirtualLab Fusion 中的光學(xué)各向異性介質(zhì) [用例]
? 使用參數(shù)運(yùn)行研究反射效率隨不同波長(zhǎng)和入射角的變化
文件信息
更多閱覽
- Polarization Conversion in Uniaxial Crystals
- Optically Anisotropic Media in VirtualLab Fusion
- Conical Refraction in Biaxial Crystals
展開(kāi) 使用VirtualLab Fusion仿真多層雙折射反射偏振器
摘要
多層雙折射反射偏光片在液晶顯示器 (LCD) 應(yīng)用中具有很大優(yōu)勢(shì)。 他們可以回收背光來(lái)提高 LCD 的光學(xué)效率。 在此用例中，我們重現(xiàn)了文獻(xiàn)Li et. al. J. Display T echnol. 5, 335-340 (2009) 中的實(shí)驗(yàn)，探討了 VirtualLab Fusion 中交替雙折射層的數(shù)量與布拉格反射條件之間的關(guān)系，并進(jìn)一步研究了反射效率隨不同波長(zhǎng)和入射角的變化。
任務(wù)描述
多層堆棧的建模
分層介質(zhì)組件用于對(duì)多層疊層進(jìn)行建模。
雙折射晶體偏振干涉效應(yīng)
? 雙折射晶體和偏振光干涉
? 光源偏振設(shè)置
? 雙折射材料方向和其他設(shè)定
? 干涉結(jié)果和光線性質(zhì)查看
? 漸變折射率(GRIN)材料
? 腳本設(shè)置漸變折射率材料
? 定性模擬結(jié)果
雙折射晶體和偏振光干涉
偏振光干涉現(xiàn)象在實(shí)際中有很多應(yīng)用，這里要模擬的是一種典型的雙折射干涉實(shí)驗(yàn)，設(shè)置如下圖所示：左側(cè)是偏振光源，偏振方向是在xy平面且與x軸夾角45度，所有光線的反向延長(zhǎng)線指向一點(diǎn)。接下來(lái)光線經(jīng)過(guò)方解石平板，厚2mm，光軸方向沿z 軸。然后光線通過(guò)偏振片，偏振片方向與光源方向垂直（xy 平面，與x 夾角-45度），偏振片是通過(guò)設(shè)置偏振鍍膜來(lái)實(shí)現(xiàn)的。最右邊是接收分析面，光線在這里停止，用來(lái)計(jì)算光強(qiáng)。
圖1. 系統(tǒng)設(shè)置
下面設(shè)置雙折射材料。在材料文件夾下右擊，選擇新建材料（create a new material），選擇類(lèi)型為取樣雙折射材料或旋光性物質(zhì)（sampled birefringent and/or optically active material），波長(zhǎng)設(shè)置為0.5875618，o光和e光的折射率分別設(shè)為1.66 和 1.49，光軸方向設(shè)置為z軸（0，0，1）。
圖2. 雙折射材料
偏振片是通過(guò)偏振鍍膜來(lái)實(shí)現(xiàn)的，如下新建偏振鍍膜。右擊鍍膜文件夾，新建鍍膜，類(lèi)型選擇偏振/波片鍍膜瓊斯矩陣(Polarizer/Waveplate Coating jones matrix)，然后默認(rèn)的就是沿x軸偏振鍍膜。
圖3. 偏振鍍膜
右擊光源文件夾并選擇新建詳細(xì)光源。命名為Diverging beam，光源的類(lèi)型選擇為六邊形平面，方向選擇從某點(diǎn)發(fā)出，并且把這一點(diǎn)選在z軸負(fù)軸的某一點(diǎn)(0,0,-20)。
展開(kāi) 雙折射晶體偏振干涉效應(yīng)
?雙折射晶體和偏振光干涉
?光源偏振設(shè)置
?雙折射材料方向和其他設(shè)定
?干涉結(jié)果和光線性質(zhì)查看
?漸變折射率(GRIN)材料
?腳本設(shè)置漸變折射率材料
?定性模擬結(jié)果
雙折射晶體和偏振光干涉
偏振光干涉現(xiàn)象在實(shí)際中有很多應(yīng)用，這里要模擬的是一種典型的雙折射干涉實(shí)驗(yàn)，設(shè)置如下圖所示：左側(cè)是偏振光源，偏振方向是在xy平面且與x軸夾角45度，所有光線的反向延長(zhǎng)線指向一點(diǎn)。接下來(lái)光線經(jīng)過(guò)方解石平板，厚2mm，光軸方向沿z 軸。然后光線通過(guò)偏振片，偏振片方向與光源方向垂直（xy 平面，與x 夾角-45度），偏振片是通過(guò)設(shè)置偏振鍍膜來(lái)實(shí)現(xiàn)的。最右邊是接收分析面，光線在這里停止，用來(lái)計(jì)算光強(qiáng)。
圖1.系統(tǒng)設(shè)置
下面設(shè)置雙折射材料。在材料文件夾下右擊，選擇新建材料（create a new material），選擇類(lèi)型為取樣雙折射材料或旋光性物質(zhì)（sampled birefringent and/or optically active material），波長(zhǎng)設(shè)置為0.5875618，o光和e光的折射率分別設(shè)為1.66 和 1.49，光軸方向設(shè)置為z軸（0，0，1）。
圖2.雙折射材料
偏振片是通過(guò)偏振鍍膜來(lái)實(shí)現(xiàn)的，如下新建偏振鍍膜。右擊鍍膜文件夾，新建鍍膜，類(lèi)型選擇偏振/波片鍍膜瓊斯矩陣(Polarizer/Waveplate Coating jones matrix)，然后默認(rèn)的就是沿x軸偏振鍍膜。
圖3.偏振鍍膜
右擊光源文件夾并選擇新建詳細(xì)光源。命名為Diverging beam，光源的類(lèi)型選擇為六邊形平面，方向選擇從某點(diǎn)發(fā)出，并且把這一點(diǎn)選在z軸負(fù)軸的某一點(diǎn)(0,0,-20)。
展開(kāi) FRED：雙折射晶體偏振干涉效應(yīng)
□
雙折射晶體和偏振光干涉
□ 光源偏振設(shè)置
□ 雙折射材料方向和其他設(shè)定
□ 干涉結(jié)果和光線性質(zhì)查看
□ 漸變折射率(GRIN)材料
□ 腳本設(shè)置漸變折射率材料
□ 定性模擬結(jié)果
雙折射晶體和偏振光干涉
偏振光干涉現(xiàn)象在實(shí)際中有很多應(yīng)用，這里要模擬的是一種典型的雙折射干涉實(shí)驗(yàn)，設(shè)置如下圖所示：左側(cè)是偏振光源，偏振方向是在xy平面且與x軸夾角45度，所有光線的反向延長(zhǎng)線指向一點(diǎn)。接下來(lái)光線經(jīng)過(guò)方解石平板，厚2mm，光軸方向沿z 軸。然后光線通過(guò)偏振片，偏振片方向與光源方向垂直（xy 平面，與x 夾角-45度），偏振片是通過(guò)設(shè)置偏振鍍膜來(lái)實(shí)現(xiàn)的。最右邊是接收分析面，光線在這里停止，用來(lái)計(jì)算光強(qiáng)。
圖1.系統(tǒng)設(shè)置
下面設(shè)置雙折射材料。在材料文件夾下右擊，選擇新建材料（create a new material），選擇類(lèi)型為取樣雙折射材料或旋光性物質(zhì)（sampled birefringent and/or optically active material），波長(zhǎng)設(shè)置為0.5875618，o光和e光的折射率分別設(shè)為1.66 和 1.49，光軸方向設(shè)置為z軸（0，0，1）。
圖2.雙折射材料
偏振片是通過(guò)偏振鍍膜來(lái)實(shí)現(xiàn)的，如下新建偏振鍍膜。右擊鍍膜文件夾，新建鍍膜，類(lèi)型選擇偏振/波片鍍膜瓊斯矩陣(Polarizer/Waveplate Coating jones matrix)，然后默認(rèn)的就是沿x軸偏振鍍膜。
圖3.偏振鍍膜
右擊光源文件夾并選擇新建詳細(xì)光源。
展開(kāi) 【FRED】雙折射晶體偏振干涉效應(yīng)
? 雙折射晶體和偏振光干涉
? 光源偏振設(shè)置
? 雙折射材料方向和其他設(shè)定
? 干涉結(jié)果和光線性質(zhì)查看
? 漸變折射率(GRIN)材料
? 腳本設(shè)置漸變折射率材料
? 定性模擬結(jié)果
雙折射晶體和偏振光干涉
偏振光干涉現(xiàn)象在實(shí)際中有很多應(yīng)用，這里要模擬的是一種典型的雙折射干涉實(shí)驗(yàn)，設(shè)置如下圖所示：左側(cè)是偏振光源，偏振方向是在xy平面且與x軸夾角45度，所有光線的反向延長(zhǎng)線指向一點(diǎn)。接下來(lái)光線經(jīng)過(guò)方解石平板，厚2mm，光軸方向沿z 軸。然后光線通過(guò)偏振片，偏振片方向與光源方向垂直（xy 平面，與x 夾角-45度），偏振片是通過(guò)設(shè)置偏振鍍膜來(lái)實(shí)現(xiàn)的。最右邊是接收分析面，光線在這里停止，用來(lái)計(jì)算光強(qiáng)。
圖1. 系統(tǒng)設(shè)置
下面設(shè)置雙折射材料。在材料文件夾下右擊，選擇新建材料（create a new material），選擇類(lèi)型為取樣雙折射材料或旋光性物質(zhì)（sampled birefringent and/or optically active material），波長(zhǎng)設(shè)置為0.5875618，o光和e光的折射率分別設(shè)為1.66 和 1.49，光軸方向設(shè)置為z軸（0，0，1）。
圖2. 雙折射材料
偏振片是通過(guò)偏振鍍膜來(lái)實(shí)現(xiàn)的，如下新建偏振鍍膜。右擊鍍膜文件夾，新建鍍膜，類(lèi)型選擇偏振/波片鍍膜瓊斯矩陣(Polarizer/Waveplate Coating jones matrix)，然后默認(rèn)的就是沿x軸偏振鍍膜。
圖3. 偏振鍍膜
右擊光源文件夾并選擇新建詳細(xì)光源。命名為Diverging beam，光源的類(lèi)型選擇為六邊形平面，方向選擇從某點(diǎn)發(fā)出，并且把這一點(diǎn)選在z軸負(fù)軸的某一點(diǎn)(0,0,-20)。
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雙折射晶體偏振干涉效應(yīng)
? 雙折射晶體和偏振光干涉
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? 干涉結(jié)果和光線性質(zhì)查看
? 漸變折射率(GRIN)材料
? 腳本設(shè)置漸變折射率材料
? 定性模擬結(jié)果
雙折射晶體和偏振光干涉
偏振光干涉現(xiàn)象在實(shí)際中有很多應(yīng)用，這里要模擬的是一種典型的雙折射干涉實(shí)驗(yàn)，設(shè)置如下圖所示：左側(cè)是偏振光源，偏振方向是在xy平面且與x軸夾角45度，所有光線的反向延長(zhǎng)線指向一點(diǎn)。接下來(lái)光線經(jīng)過(guò)方解石平板，厚2mm，光軸方向沿z 軸。然后光線通過(guò)偏振片，偏振片方向與光源方向垂直（xy 平面，與x 夾角-45度），偏振片是通過(guò)設(shè)置偏振鍍膜來(lái)實(shí)現(xiàn)的。最右邊是接收分析面，光線在這里停止，用來(lái)計(jì)算光強(qiáng)。
圖1. 系統(tǒng)設(shè)置
下面設(shè)置雙折射材料。在材料文件夾下右擊，選擇新建材料（create a new material），選擇類(lèi)型為取樣雙折射材料或旋光性物質(zhì)（sampled birefringent and/or optically active material），波長(zhǎng)設(shè)置為0.5875618，o光和e光的折射率分別設(shè)為1.66 和 1.49，光軸方向設(shè)置為z軸（0，0，1）。
圖2. 雙折射材料
偏振片是通過(guò)偏振鍍膜來(lái)實(shí)現(xiàn)的，如下新建偏振鍍膜。右擊鍍膜文件夾，新建鍍膜，類(lèi)型選擇偏振/波片鍍膜瓊斯矩陣(Polarizer/Waveplate Coating jones matrix)，然后默認(rèn)的就是沿x軸偏振鍍膜。
圖3. 偏振鍍膜
右擊光源文件夾并選擇新建詳細(xì)光源。命名為Diverging beam，光源的類(lèi)型選擇為六邊形平面，方向選擇從某點(diǎn)發(fā)出，并且把這一點(diǎn)選在z軸負(fù)軸的某一點(diǎn)(0,0,-20)。
展開(kāi) 曲面上的雙折射效應(yīng)
由于雙折射效應(yīng)強(qiáng)烈依賴(lài)于晶軸相對(duì)于入射光方向的取向，因此當(dāng)涂層應(yīng)用于曲面時(shí)，對(duì)此類(lèi)元件的討論特別令人關(guān)注。
各向異性涂層的仿真與分析
本用例介紹了在表面上添加各向異性涂層的特性，并分別研究了λ/4涂層在平面和曲面上的偏振轉(zhuǎn)換。
各向異性方解石晶體的雙折射效應(yīng)
本用例演示了利用VirtualLab Fusion模擬雙折射，并研究了輸入偏振和晶體厚度的影響。
FRED 雙折射晶體偏振干涉效應(yīng)
?雙折射晶體和偏振光干涉
?光源偏振設(shè)置
?雙折射材料方向和其他設(shè)定
?干涉結(jié)果和光線性質(zhì)查看
?漸變折射率(GRIN)材料
?腳本設(shè)置漸變折射率材料
?定性模擬結(jié)果
雙折射晶體和偏振光干涉
偏振光干涉現(xiàn)象在實(shí)際中有很多應(yīng)用，這里要模擬的是一種典型的雙折射干涉實(shí)驗(yàn)，設(shè)置如下圖所示：左側(cè)是偏振光源，偏振方向是在xy平面且與x軸夾角45度，所有光線的反向延長(zhǎng)線指向一點(diǎn)。接下來(lái)光線經(jīng)過(guò)方解石平板，厚2mm，光軸方向沿z 軸。然后光線通過(guò)偏振片，偏振片方向與光源方向垂直（xy 平面，與x 夾角-45度），偏振片是通過(guò)設(shè)置偏振鍍膜來(lái)實(shí)現(xiàn)的。最右邊是接收分析面，光線在這里停止，用來(lái)計(jì)算光強(qiáng)。
圖1.系統(tǒng)設(shè)置
下面設(shè)置雙折射材料。在材料文件夾下右擊，選擇新建材料（create a new material），選擇類(lèi)型為取樣雙折射材料或旋光性物質(zhì)（sampled birefringent and/or optically active material），波長(zhǎng)設(shè)置為0.5875618，o光和e光的折射率分別設(shè)為1.66 和 1.49，光軸方向設(shè)置為z軸（0，0，1）。
圖2.雙折射材料
偏振片是通過(guò)偏振鍍膜來(lái)實(shí)現(xiàn)的，如下新建偏振鍍膜。右擊鍍膜文件夾，新建鍍膜，類(lèi)型選擇偏振/波片鍍膜瓊斯矩陣(Polarizer/Waveplate Coating jones matrix)，然后默認(rèn)的就是沿x軸偏振鍍膜。
圖3.偏振鍍膜
右擊光源文件夾并選擇新建詳細(xì)光源。命名為Diverging beam，光源的類(lèi)型選擇為六邊形平面，方向選擇從某點(diǎn)發(fā)出，并且把這一點(diǎn)選在z軸負(fù)軸的某一點(diǎn)(0,0,-20)。
展開(kāi) 雙折射材料溫度敏感性分析
本文演示了一個(gè)雙折射材料的折射率隨溫度變化而變化腳本。
雙折射簡(jiǎn)介：
雙折射（birefringence）是指一條入射光線產(chǎn)生兩條折射光線的現(xiàn)象。
尋常光線（o光線）——遵守折射定律，且在入射面內(nèi) ；
非常光線（e光線）——不遵守折射定律，一般不在入射面內(nèi)；
光軸—晶體中存在的一個(gè)特殊方向，光在晶體中沿此方向行進(jìn)時(shí)，不產(chǎn)生雙折射現(xiàn)象，對(duì)于單軸晶體，則o,e光的傳播方向相同，且其傳播速度也相同。
步驟1：創(chuàng)建雙折射材料KDP（磷酸二氫鉀晶體），命名為KDP Baseline。在樹(shù)形文件夾中選擇Materials>Create a New Material>Sampled Birefringent and/or Optically Active Material，按照如圖所示的數(shù)據(jù)輸入如下數(shù)值（KDP材料的創(chuàng)建方法請(qǐng)見(jiàn)本文后的備注）。
注意：axis選項(xiàng)為軸向方向，在OXY平面為45°角。
步驟2：復(fù)制KDP BaseLine到Materials樹(shù)形文件夾下，具體操作為鼠標(biāo)左鍵選中KDPBaseline，右鍵選擇Copy，并在Materilas 下選擇paste，并命名為KDP。
步驟3：創(chuàng)建一個(gè)折射率隨溫度變化20k后的折射率變化模型，我們利用FRED軟件自帶的VB腳本實(shí)現(xiàn)此功能。在樹(shù)形文件夾選擇Embedded Scripts，右鍵選擇Create a New Embedded Scrips，注意刪除腳本編輯器里面的所有內(nèi)容，然后粘貼如下的程序到此編輯器中。
步驟4：在腳本編輯器中按下Ctrl +B運(yùn)行腳本，最后我們觀測(cè)KDP材料的折射率變化。
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