高數(shù)值孔徑聚焦的案例
VirtualLab運用：使用一個高數(shù)值孔徑離軸拋物面反射鏡對飛秒脈沖聚焦
激光系統(tǒng)＞飛秒脈沖建模
任務(wù)/系統(tǒng)描述
亮點
?飛秒脈沖傳播的高速仿真
?完全矢量分析（例如計算EZ）
說明：光源
說明：離軸拋物面反射鏡
說明：探測器
結(jié)果：3D光線追跡
結(jié)果：全矢量光場評價
由于使用高數(shù)值孔徑聚焦，初始可忽略的場分量有很大的占比。
對于載波（800nm）：
亮點
?對飛秒脈沖傳播的高速仿真
?全矢量分析
結(jié)果：光源平面的脈沖評價
結(jié)果：焦平面的脈沖評價
文件&技術(shù)信息
高數(shù)值孔徑透鏡系統(tǒng)里高級PSF計算
摘要
眾所周知，光的矢量性質(zhì)在高數(shù)值孔徑聚焦條件下不可忽視。在這個案例中，展示了由高數(shù)值孔徑非球面透鏡聚焦的線性偏振高斯光束，顯示了焦平面上非均勻的PSF。通過檢查焦平面上的電磁場分量，可以發(fā)現(xiàn)不均勻性是由相對強的Ez分量引起。
建模任務(wù)
結(jié)果
文件信息
分析高數(shù)值孔徑物鏡的聚焦
高數(shù)值孔徑物鏡廣泛用于光學(xué)光刻、顯微鏡等。因此，在聚焦模擬中考慮光的矢量性質(zhì)是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持這種鏡頭的光線和光場追跡分析。 通過光場追跡，可以清楚地展示不對稱焦斑，這源于矢量效應(yīng)。 照相機探測器和電磁場探測器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，并且可以深入了解矢量效應(yīng)。
摘要
?接下來，我們將演示如何按照VirtualLab中推薦的工作流程對樣本系統(tǒng)進(jìn)行模擬。
?樣品系統(tǒng)預(yù)設(shè)為包含高數(shù)值孔徑物鏡。
概覽
如何計算包含矢量效應(yīng)的焦點的強度分布？
如何進(jìn)行整個系統(tǒng)的光線追跡分析？
沿x方向線偏振
光斑直徑： 3mm
波長 2.08 nm
入射平面波
展開 分析高數(shù)值孔徑物鏡的聚焦特性
高數(shù)值孔徑的物鏡廣泛用于光刻、顯微等方面。 因此，在仿真聚焦時考慮光的矢量性質(zhì)是至關(guān)重要的。VirtualLab可以支持此類透鏡的光線和場追跡分析。通過場追跡分析，可以清楚地顯示出由于矢量效應(yīng)引起的非對稱焦點。相機探測器和電磁場探測器可以方便地研究聚焦區(qū)域的場，也可以深入研究矢量效應(yīng)。
摘要
分析高數(shù)值孔徑物鏡的聚焦特性
摘要
高數(shù)值孔徑的物鏡廣泛用于光刻、顯微等方面。 因此，在仿真聚焦時考慮光的矢量性質(zhì)是至關(guān)重要的。VirtualLab可以支持此類透鏡的光線和場追跡分析。通過場追跡分析，可以清楚地顯示出由于矢量效應(yīng)引起的非對稱焦點。相機探測器和電磁場探測器可以方便地研究聚焦區(qū)域的場，也可以深入研究矢量效應(yīng)。
建模任務(wù)
概述
?案例系統(tǒng)已預(yù)先設(shè)置了高數(shù)值孔徑物鏡。
?接下來，我們演示如何按照VirtualLab中建議的工作流程在示例系統(tǒng)上執(zhí)行仿真。
光線追跡仿真
?首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”作為模擬引擎。
?單擊go！
?獲得了3D光線追跡結(jié)果。
光線追跡仿真
?然后，選擇“光線追跡”作為模擬引擎。
?單擊go！
?結(jié)果得到點圖（二維光線追跡結(jié)果）。
場追跡仿真
?切換到場追跡，然后選擇“第二代場追跡”作為模擬引擎。
?單擊go！
場追跡仿真（相機探測器）
?上圖僅顯示Ex和Ey場分量積分的強度。
?下圖顯示Ex、Ey和Ez分量積分的強度：由于在高數(shù)值孔徑情況下Ez分量相對較大，因此可見明顯的不對稱性。
場追跡仿真（電磁場探測器）
?使用電磁場探測器可獲得所有電磁場分量。
場追跡仿真（電磁場探測器）
?使用電磁場探測器可獲得所有電磁場分量。
展開 高數(shù)值孔徑(NA)物鏡的聚焦分析
摘要 高NA物鏡廣泛用于光刻，顯微等技術(shù)。因此，聚焦仿真中考慮光的矢量性質(zhì)至關(guān)重要。VirtualLab可以非常便捷地對此類鏡頭進(jìn)行光線追跡和場追跡分析。通過場追跡，可以清楚地觀察由于矢量效應(yīng)引起的聚焦光斑失對稱現(xiàn)象。利用相機探測器和電磁場探測器能夠?qū)?em>聚焦區(qū)域進(jìn)行靈活全面的研究，進(jìn)而加深對矢量效應(yīng)的理解。
2. 建模任務(wù)
3. 概述
? 示例系統(tǒng)包含了高數(shù)值孔徑物鏡? 下一步，我們將闡述如何遵循VirtualLab中推薦的工作流程執(zhí)行示例系統(tǒng)的仿真。
4. 光線追跡仿真 ? 首先，選擇“Ray Tracing System Analyzer”作為仿真引擎。? 點擊“Go!”。? 隨即獲得3D光線追跡結(jié)果
? 然后，選擇“Ray Tracing”作為仿真引擎。? 點擊“Go!”。? 隨即獲得點列圖(2D光線追跡結(jié)果)。
5. 場追跡仿真
? 轉(zhuǎn)換到場追跡，并選擇“Field Tracing 2nd Generation”作為仿真引擎。? 點擊“Go!”。
6. 場追跡結(jié)果(相機探測器) ? 上圖所示為僅通過疊加Ex和Ey場分量得到的強度分布。? 下圖所示為通過疊加Ex，Ey和Ez分量得到的強度分布：由于在高NA條件下相對較大Ez分量，導(dǎo)致聚焦光斑明顯的失對稱性。
7. 場追跡結(jié)果(電磁場探測器)? 利用電磁場探測器，我們可以獲得多有電磁場分量的結(jié)果
8. 文件信息
展開 分析高數(shù)值孔徑物鏡的聚焦
摘要
高數(shù)值孔徑物鏡廣泛用于光學(xué)光刻、顯微鏡等。因此，在聚焦模擬中考慮光的矢量性質(zhì)是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持這種鏡頭的光線和光場追跡分析。 通過光場追跡，可以清楚地展示不對稱焦斑，這源于矢量效應(yīng)。 照相機探測器和電磁場探測器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，并且可以深入了解矢量效應(yīng)。
建模任務(wù)
入射平面波
波長 2.08 nm
光斑直徑： 3mm
沿x方向線偏振
如何進(jìn)行整個系統(tǒng)的光線追跡分析？
如何計算包含矢量效應(yīng)的焦點的強度分布？
概覽
?樣品系統(tǒng)預(yù)設(shè)為包含高數(shù)值孔徑物鏡。
?接下來，我們將演示如何按照VirtualLab中推薦的工作流程對樣本系統(tǒng)進(jìn)行模擬。
光線追跡模擬
?首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作為模擬引擎。
?點擊Go！
?獲得3D光線追跡結(jié)果。
光線追跡模擬
?然后，選擇“光線追跡”（Ray Tracing）作為模擬引擎。
?單擊Go！
?結(jié)果，獲得點圖（2D光線追跡結(jié)果）。
光場追跡模擬
?切換到“第二代場追跡”（Field Tracing 2nd Generation）作為模擬引擎。
?單擊Go！
光場追跡結(jié)果（照相機探測器）
?上圖僅顯示Ex和Ey場分量的強度。
?下圖通過整合Ex、Ey和Ez分量顯示強度：由于高數(shù)值孔徑情況下相對較大的Ez分量，可以看到明顯的不對稱性。
展開 [VirtualLab] 分析高數(shù)值孔徑物鏡的聚焦特性
摘要
高數(shù)值孔徑的物鏡廣泛用于光刻、顯微等方面。 因此，在仿真聚焦時考慮光的矢量性質(zhì)是至關(guān)重要的。VirtualLab可以支持此類透鏡的光線和場追跡分析。通過場追跡分析，可以清楚地顯示出由于矢量效應(yīng)引起的非對稱焦點。相機探測器和電磁場探測器可以方便地研究聚焦區(qū)域的場，也可以深入研究矢量效應(yīng)。
建模任務(wù)
概述
?案例系統(tǒng)已預(yù)先設(shè)置了高數(shù)值孔徑物鏡。
?接下來，我們演示如何按照VirtualLab中建議的工作流程在示例系統(tǒng)上執(zhí)行仿真。
光線追跡仿真
?首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”作為模擬引擎。
?單擊go！
?獲得了3D光線追跡結(jié)果。
光線追跡仿真
?然后，選擇“光線追跡”作為模擬引擎。
?單擊go！
?結(jié)果得到點圖（二維光線追跡結(jié)果）。
場追跡仿真
?切換到場追跡，然后選擇“第二代場追跡”作為模擬引擎。
?單擊go！
場追跡仿真（相機探測器）
?上圖僅顯示Ex和Ey場分量積分的強度。
?下圖顯示Ex、Ey和Ez分量積分的強度：由于在高數(shù)值孔徑情況下Ez分量相對較大，因此可見明顯的不對稱性。
場追跡仿真（電磁場探測器）
?使用電磁場探測器可獲得所有電磁場分量。
場追跡仿真（電磁場探測器）
?使用電磁場探測器可獲得所有電磁場分量。
展開 高數(shù)值孔徑(NA)物鏡的聚焦分析
摘要
高NA物鏡廣泛用于光刻，顯微等技術(shù)。因此，聚焦仿真中考慮光的矢量性質(zhì)至關(guān)重要。VirtualLab可以非常便捷地對此類鏡頭進(jìn)行光線追跡和場追跡分析。通過場追跡，可以清楚地觀察由于矢量效應(yīng)引起的聚焦光斑失對稱現(xiàn)象。利用相機探測器和電磁場探測器能夠?qū)?em>聚焦區(qū)域進(jìn)行靈活全面的研究，進(jìn)而加深對矢量效應(yīng)的理解。
2. 建模任務(wù)
3. 概述
? 示例系統(tǒng)包含了高數(shù)值孔徑物鏡
? 下一步，我們將闡述如何遵循VirtualLab中推薦的工作流程執(zhí)行示例系統(tǒng)的仿真。
4. 光線追跡仿真
? 首先，選擇“Ray Tracing System Analyzer”作為仿真引擎。
? 點擊“Go!”。
? 隨即獲得3D光線追跡結(jié)果
? 然后，選擇“Ray Tracing”作為仿真引擎。
? 點擊“Go!”。
? 隨即獲得點列圖(2D光線追跡結(jié)果)。
5. 場追跡仿真
? 轉(zhuǎn)換到場追跡，并選擇“Field Tracing 2nd Generation”作為仿真引擎。
? 點擊“Go!”。
6. 場追跡結(jié)果(相機探測器)
? 上圖所示為僅通過疊加Ex和Ey場分量得到的強度分布。
? 下圖所示為通過疊加Ex，Ey和Ez分量得到的強度分布：由于在高NA條件下相對較大Ez分量，導(dǎo)致聚焦光斑明顯的失對稱性。
7. 場追跡結(jié)果(電磁場探測器)
? 利用電磁場探測器，我們可以獲得多有電磁場分量的結(jié)果
8.
展開 [VirtualLab] 分析高數(shù)值孔徑物鏡的聚焦
摘要
高數(shù)值孔徑物鏡廣泛用于光學(xué)光刻、顯微鏡等。因此，在聚焦模擬中考慮光的矢量性質(zhì)是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持這種鏡頭的光線和光場追跡分析。 通過光場追跡，可以清楚地展示不對稱焦斑，這源于矢量效應(yīng)。 照相機探測器和電磁場探測器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，并且可以深入了解矢量效應(yīng)。
建模任務(wù)
入射平面波
波長 2.08 nm
光斑直徑： 3mm
沿x方向線偏振
如何進(jìn)行整個系統(tǒng)的光線追跡分析？
如何計算包含矢量效應(yīng)的焦點的強度分布？
概覽
?樣品系統(tǒng)預(yù)設(shè)為包含高數(shù)值孔徑物鏡。
?接下來，我們將演示如何按照VirtualLab中推薦的工作流程對樣本系統(tǒng)進(jìn)行模擬。
光線追跡模擬
?首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作為模擬引擎。
?點擊Go！
?獲得3D光線追跡結(jié)果。
光線追跡模擬
?然后，選擇“光線追跡”（Ray Tracing）作為模擬引擎。
?單擊Go！
?結(jié)果，獲得點圖（2D光線追跡結(jié)果）。
光場追跡模擬
?切換到“第二代場追跡”（Field Tracing 2nd Generation）作為模擬引擎。
?單擊Go！
光場追跡結(jié)果（照相機探測器）
?上圖僅顯示Ex和Ey場分量的強度。
?下圖通過整合Ex、Ey和Ez分量顯示強度：由于高數(shù)值孔徑情況下相對較大的Ez分量，可以看到明顯的不對稱性。
展開 分析高數(shù)值孔徑物鏡的聚焦特性
摘要
高數(shù)值孔徑的物鏡廣泛用于光刻、顯微等方面。 因此，在仿真聚焦時考慮光的矢量性質(zhì)是至關(guān)重要的。VirtualLab可以支持此類透鏡的光線和場追跡分析。通過場追跡分析，可以清楚地顯示出由于矢量效應(yīng)引起的非對稱焦點。相機探測器和電磁場探測器可以方便地研究聚焦區(qū)域的場，也可以深入研究矢量效應(yīng)。
建模任務(wù)
概述
?案例系統(tǒng)已預(yù)先設(shè)置了高數(shù)值孔徑物鏡。
?接下來，我們演示如何按照VirtualLab中建議的工作流程在示例系統(tǒng)上執(zhí)行仿真。
光線追跡仿真
?首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”作為模擬引擎。
?單擊go！
?獲得了3D光線追跡結(jié)果。
光線追跡仿真
?然后，選擇“光線追跡”作為模擬引擎。
?單擊go！
?結(jié)果得到點圖（二維光線追跡結(jié)果）。
場追跡仿真
?切換到場追跡，然后選擇“第二代場追跡”作為模擬引擎。
?單擊go！
場追跡仿真（相機探測器）
?上圖僅顯示Ex和Ey場分量積分的強度。
?下圖顯示Ex、Ey和Ez分量積分的強度：由于在高數(shù)值孔徑情況下Ez分量相對較大，因此可見明顯的不對稱性。
場追跡仿真（電磁場探測器）
?使用電磁場探測器可獲得所有電磁場分量。
場追跡仿真（電磁場探測器）
?使用電磁場探測器可獲得所有電磁場分量。
展開 
分析高數(shù)值孔徑物鏡的聚焦特性
摘要
高數(shù)值孔徑的物鏡廣泛用于光刻、顯微等方面。 因此，在仿真聚焦時考慮光的矢量性質(zhì)是至關(guān)重要的。VirtualLab可以支持此類透鏡的光線和場追跡分析。通過場追跡分析，可以清楚地顯示出由于矢量效應(yīng)引起的非對稱焦點。相機探測器和電磁場探測器可以方便地研究聚焦區(qū)域的場，也可以深入研究矢量效應(yīng)。
建模任務(wù)
概述
?案例系統(tǒng)已預(yù)先設(shè)置了高數(shù)值孔徑物鏡。
?接下來，我們演示如何按照VirtualLab中建議的工作流程在示例系統(tǒng)上執(zhí)行仿真。
光線追跡仿真
?首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”作為模擬引擎。
?單擊go！
?獲得了3D光線追跡結(jié)果。
光線追跡仿真
?然后，選擇“光線追跡”作為模擬引擎。
?單擊go！
?結(jié)果得到點圖（二維光線追跡結(jié)果）。
場追跡仿真
?切換到場追跡，然后選擇“第二代場追跡”作為模擬引擎。
?單擊go！
場追跡仿真（相機探測器）
?上圖僅顯示Ex和Ey場分量積分的強度。
?下圖顯示Ex、Ey和Ez分量積分的強度：由于在高數(shù)值孔徑情況下Ez分量相對較大，因此可見明顯的不對稱性。
場追跡仿真（電磁場探測器）
?使用電磁場探測器可獲得所有電磁場分量。
場追跡仿真（電磁場探測器）
?使用電磁場探測器可獲得所有電磁場分量。
展開 [VirtualLab] 高數(shù)值孔徑(NA)物鏡的聚焦分析
摘要
高NA物鏡廣泛用于光刻，顯微等技術(shù)。因此，聚焦仿真中考慮光的矢量性質(zhì)至關(guān)重要。VirtualLab可以非常便捷地對此類鏡頭進(jìn)行光線追跡和場追跡分析。通過場追跡，可以清楚地觀察由于矢量效應(yīng)引起的聚焦光斑失對稱現(xiàn)象。利用相機探測器和電磁場探測器能夠?qū)?em>聚焦區(qū)域進(jìn)行靈活全面的研究，進(jìn)而加深對矢量效應(yīng)的理解。
2. 建模任務(wù)
3. 概述
? 示例系統(tǒng)包含了高數(shù)值孔徑物鏡
? 下一步，我們將闡述如何遵循VirtualLab中推薦的工作流程執(zhí)行示例系統(tǒng)的仿真。
4. 光線追跡仿真
? 首先，選擇“Ray Tracing System Analyzer”作為仿真引擎。
? 點擊“Go!”。
? 隨即獲得3D光線追跡結(jié)果
? 然后，選擇“Ray Tracing”作為仿真引擎。
? 點擊“Go!”。
? 隨即獲得點列圖(2D光線追跡結(jié)果)。
5. 場追跡仿真
? 轉(zhuǎn)換到場追跡，并選擇“Field Tracing 2nd Generation”作為仿真引擎。
? 點擊“Go!”。
6. 場追跡結(jié)果(相機探測器)
? 上圖所示為僅通過疊加Ex和Ey場分量得到的強度分布。
? 下圖所示為通過疊加Ex，Ey和Ez分量得到的強度分布：由于在高NA條件下相對較大Ez分量，導(dǎo)致聚焦光斑明顯的失對稱性。
7. 場追跡結(jié)果(電磁場探測器)
? 利用電磁場探測器，我們可以獲得多有電磁場分量的結(jié)果
8.
展開 VirtualLab Fusion：分析高數(shù)值孔徑物鏡的聚焦特性
摘要
高數(shù)值孔徑的物鏡廣泛用于光刻、顯微等方面。 因此，在仿真聚焦時考慮光的矢量性質(zhì)是至關(guān)重要的。VirtualLab可以支持此類透鏡的光線和場追跡分析。通過場追跡分析，可以清楚地顯示出由于矢量效應(yīng)引起的非對稱焦點。相機探測器和電磁場探測器可以方便地研究聚焦區(qū)域的場，也可以深入研究矢量效應(yīng)。
建模任務(wù)
概述
?案例系統(tǒng)已預(yù)先設(shè)置了高數(shù)值孔徑物鏡。
?接下來，我們演示如何按照VirtualLab中建議的工作流程在示例系統(tǒng)上執(zhí)行仿真。
光線追跡仿真
?首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”作為模擬引擎。
?單擊go！
?獲得了3D光線追跡結(jié)果。
光線追跡仿真
?然后，選擇“光線追跡”作為模擬引擎。
?單擊go！
?結(jié)果得到點圖（二維光線追跡結(jié)果）。
場追跡仿真
?切換到場追跡，然后選擇“第二代場追跡”作為模擬引擎。
?單擊go！
場追跡仿真（相機探測器）
?上圖僅顯示Ex和Ey場分量積分的強度。
?下圖顯示Ex、Ey和Ez分量積分的強度：由于在高數(shù)值孔徑情況下Ez分量相對較大，因此可見明顯的不對稱性。
場追跡仿真（電磁場探測器）
?使用電磁場探測器可獲得所有電磁場分量。
場追跡仿真（電磁場探測器）
?使用電磁場探測器可獲得所有電磁場分量。
展開 使用高數(shù)值孔徑透鏡進(jìn)行脈沖聚焦
在此，我們在空間、時間與場分布上研究了該脈沖傳播通過高數(shù)值孔徑透鏡的影響。
摘要
