鍍膜設(shè)備的案例
2026第十一屆上海國(guó)際車載顯示及天幕技術(shù)展覽會(huì)
、AR-HUD、P-HUD、DLP、MEMS LSP、TFT-LCD、LCOS/光波導(dǎo)、芯片、自由曲面鏡/球、鍍膜設(shè)備、自由曲面檢測(cè)設(shè)備、擋風(fēng)玻璃、楔形膜PVB、塑料原料、高性能光學(xué)膜、散熱材料、膠帶、吸光材料、光學(xué)檢測(cè)、軟件等；
天幕/車窗顯示：PDLC調(diào)光、EC調(diào)光、SPD調(diào)光、DLC調(diào)光、玻璃、玻璃夾膠材料、鍍膜設(shè)備、鍍膜材料、玻璃熱彎設(shè)備、車窗透明顯示等；
PVD納米涂層有幾類？有什么優(yōu)勢(shì)？
PVD是英文Physical Vapor Deposition（物理氣相沉積）的縮寫，是指在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用真空鍍膜設(shè)備氣體放電使鈦板蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場(chǎng)的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。PVD鍍 膜通常稱謂：金屬表面處理,鍍膜,鍍鈦,真空鍍膜，鍍鉻，鍍鈦加工，PVD，表面處理，鈦板，表面處理加工,真空鍍膜加工，表面 處理等.
1.精密衡壓模具經(jīng)真空涂層被覆后表面可擁有極低的摩擦系數(shù)，減少加工受力。模具經(jīng)真空涂層被覆后表面硬度可提高5到10倍，可大幅減少表面磨耗，特別是用于高精密加工時(shí)可獲得非常優(yōu)異的表面質(zhì)量。冷沖成形及拉伸模具經(jīng)真空涂層被覆后可顯著降低摩擦力，明顯減少加工中產(chǎn)生的刮痕及磨耗。因此可增加壽命，大幅降低成本.
優(yōu)點(diǎn)：
摩擦系數(shù)降低，減小加工受力
提高表面硬度，大大延長(zhǎng)模具壽命
防止產(chǎn)品拉毛、拉傷，提升產(chǎn)品質(zhì)量
省去卸模、拋光再裝模的煩惱，提高效率
2.塑料模具由于其結(jié)構(gòu)復(fù)雜決定了加工難度大，故造價(jià)相對(duì)較高，所以提高模具的壽命就是一個(gè)主要課題，尤其鏡面和蝕紋面，就特別容易磨損，這一直是一件令人十分苦惱的事情。經(jīng)過(guò)真空涂層的塑料模具表面硬度的提高，使得抗磨耗性顯著提高；而且因模具表面光潔度的增強(qiáng)和摩擦系數(shù)的降低使得膠料的流動(dòng)性更好以及塑料產(chǎn)品更易脫模。同時(shí)真空涂層更因其特殊的晶格結(jié)構(gòu)在模具表面形成致密的保護(hù)層，可以非常有效的解決腐蝕的弊病。更為重要的是，由于我們的涂層完全不會(huì)改變模具的表面狀況，無(wú)論是鏡面還是蝕紋面，甚至要求極高的CD模具
優(yōu)點(diǎn)：
耐磨性更高，模具壽命大大延長(zhǎng)
膠料的可流動(dòng)時(shí)間更長(zhǎng)，填模效果更佳
塑料產(chǎn)品表面質(zhì)量提高，不良率降低
脫模更容易，甚至可避免使用脫模劑
有效防止腐蝕性原料侵蝕模具基體
模具易于清潔，且清潔周期更長(zhǎng)
3.
展開 壓鑄模具做了納米涂層有什么優(yōu)勢(shì)？納米涂層是什么？
PVD是英文Physical Vapor Deposition（物理氣相沉積）的縮寫，是指在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用真空鍍膜設(shè)備氣體放電使鈦板蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場(chǎng)的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。PVD鍍 膜通常稱謂：金屬表面處理,鍍膜,鍍鈦,真空鍍膜，鍍鉻，鍍鈦加工，PVD，表面處理，鈦板，表面處理加工,真空鍍膜加工，表面 處理等.
1.精密衡壓模具經(jīng)真空涂層被覆后表面可擁有極低的摩擦系數(shù)，減少加工受力。模具經(jīng)真空涂層被覆后表面硬度可提高5到10倍，可大幅減少表面磨耗，特別是用于高精密加工時(shí)可獲得非常優(yōu)異的表面質(zhì)量。冷沖成形及拉伸模具經(jīng)真空涂層被覆后可顯著降低摩擦力，明顯減少加工中產(chǎn)生的刮痕及磨耗。因此可增加壽命，大幅降低成本.
優(yōu)點(diǎn)：
摩擦系數(shù)降低，減小加工受力
提高表面硬度，大大延長(zhǎng)模具壽命
防止產(chǎn)品拉毛、拉傷，提升產(chǎn)品質(zhì)量
省去卸模、拋光再裝模的煩惱，提高效率
2.塑料模具由于其結(jié)構(gòu)復(fù)雜決定了加工難度大，故造價(jià)相對(duì)較高，所以提高模具的壽命就是一個(gè)主要課題，尤其鏡面和蝕紋面，就特別容易磨損，這一直是一件令人十分苦惱的事情。經(jīng)過(guò)真空涂層的塑料模具表面硬度的提高，使得抗磨耗性顯著提高；而且因模具表面光潔度的增強(qiáng)和摩擦系數(shù)的降低使得膠料的流動(dòng)性更好以及塑料產(chǎn)品更易脫模。同時(shí)真空涂層更因其特殊的晶格結(jié)構(gòu)在模具表面形成致密的保護(hù)層，可以非常有效的解決腐蝕的弊病。更為重要的是，由于我們的涂層完全不會(huì)改變模具的表面狀況，無(wú)論是鏡面還是蝕紋面，甚至要求極高的CD模具
優(yōu)點(diǎn)：
耐磨性更高，模具壽命大大延長(zhǎng)
膠料的可流動(dòng)時(shí)間更長(zhǎng)，填模效果更佳
塑料產(chǎn)品表面質(zhì)量提高，不良率降低
脫模更容易，甚至可避免使用脫模劑
有效防止腐蝕性原料侵蝕模具基體
模具易于清潔，且清潔周期更長(zhǎng)
3.
展開 2026大灣區(qū)工業(yè)鉆石展覽會(huì)（亞鉆展及論壇）
工業(yè)鉆石超精密加工&制備、加工設(shè)備展區(qū)
1、金剛石合成設(shè)備：氫氣發(fā)生器、高溫高壓壓機(jī)、微波 CVD/ 熱絲 CVD 等制備設(shè)備、鍍膜設(shè)備、真空設(shè)備、腔體等；
2、金剛石、超硬材料制品磨制造設(shè)備：選形機(jī)、篩分機(jī)、磁選機(jī)、混料機(jī)、成型機(jī)、冷機(jī)、熱壓機(jī)、燒結(jié)爐、破碎及磨粉機(jī)、焊接機(jī)、砂輪加工設(shè)備等；
3、超精密加工相關(guān)裝備及工具：磨床、磨削中心、電加工設(shè)備、研磨機(jī)、拋光機(jī)、激光切割 /加工設(shè)備、珩磨機(jī)、精研機(jī)、磨削機(jī)器人及各類附件及相關(guān)輔助材料和制品等；金屬成形機(jī)床、金屬切割與焊接設(shè)備、數(shù)控系統(tǒng)及功能部件、工業(yè)自動(dòng)化、機(jī)床附件及零部件；UPC 微納成形刀具、超精密單晶金剛石刀具、射流噴嘴、拉絲模等工具。
█展位收費(fèi)：
參展項(xiàng)目，規(guī)格及要求，國(guó)內(nèi)企業(yè)，合資企業(yè)，外資企業(yè)
標(biāo)準(zhǔn)展位，3m x 3m，17800元/個(gè)/展期，22800元/個(gè)/展期，5000美元/個(gè)/展期
雙開展位，3m x 3m，19800元/個(gè)/展期，25800元/個(gè)/展期，5500美元/個(gè)/展期
室內(nèi)空地，36m2起訂，1800元/ m2/展期，2300元/ m2/展期，550美元/ m2/展期
█展位說(shuō)明：
1、標(biāo)準(zhǔn)展位配置：中英文楣板、日光燈兩盞、隔板（高度250cm,可用高度246cm)、洽談桌一張、椅子兩把、可容400W/220V電源插座一個(gè)及地毯；
2、訂光地的展商自行負(fù)責(zé)展位布置的所需費(fèi)用，詳見(jiàn)參展商手冊(cè)。
展開 
基于Optilayer的T6/R4分光鏡優(yōu)化設(shè)計(jì)
結(jié)果
使用膜堆功能查看設(shè)計(jì)的光學(xué)薄膜雙面鍍膜后的光譜見(jiàn)圖10所示，滿足設(shè)計(jì)要求，設(shè)計(jì)合理。
圖10 雙面鍍膜后的光譜
真空泵概述及維護(hù)
如：真空冶煉，電力電容器，變壓器，真空浸漬處理，真空鍍膜設(shè)備中的預(yù)抽等。
10、Zj系列羅茨真空泵
是一種旋轉(zhuǎn)式變?nèi)菡婵毡庙氂星凹?jí)泵配合方可使用在較寬的壓力范圍內(nèi)有較大的抽速對(duì)被抽除氣體中含有灰塵和水蒸汽不敏感廣泛用于冶金、化工、食品、電子鍍膜等行業(yè)。
11、真空泵的維護(hù)
（1）檢查油的位置。
（2）經(jīng)常檢查油質(zhì)情況，發(fā)現(xiàn)油變質(zhì)應(yīng)及時(shí)更換新油。
（3）換油期限按實(shí)際使用條件和能否滿足性能要求等情況考慮，由用戶酌情決定。新真空泵，抽除清潔干燥的氣體時(shí)，建議在工作100小時(shí)左右換油一次。
（4）一般情況下，真空泵工作2000小時(shí)后應(yīng)進(jìn)行檢修，檢查桷膠密封件老化程度，檢查排氣閥片是否開裂，清理沉淀在閥片及排氣閥座上的污物。清洗整個(gè)真空泵腔內(nèi)的零件，如轉(zhuǎn)子、旋片、彈簧等真空泵要停止使用時(shí)，先關(guān)閉閘閥、壓力表，然后停止電機(jī)。
（5）真空泵在工作第一個(gè)月內(nèi)，經(jīng)100小時(shí)更換潤(rùn)滑油，以后每個(gè)500小時(shí)，換油一次。
（6）經(jīng)常調(diào)整填料壓蓋，保證填料室內(nèi)的滴漏情況正常（以成滴漏出為宜）。
（7）定期檢查軸套的磨損情況，磨損較大后應(yīng)及時(shí)更換。
（8）真空泵在寒冬季節(jié)使用時(shí)，停車后，需將泵體下部放水螺塞擰開將介質(zhì)放凈。防止凍裂。
（9）真空泵長(zhǎng)期停用，需將泵全部拆開，擦干水分，將轉(zhuǎn)動(dòng)部位及結(jié)合處涂以油脂裝好，妥善保管。
展開 天天為＂芯＂而鬧，一文看晶圓制造主要設(shè)備一覽
PVD鍍膜技術(shù)主要分為三類，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。對(duì)應(yīng)于PVD技術(shù)的三個(gè)分類，相應(yīng)的真空鍍膜設(shè)備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)、真空濺射鍍膜機(jī)和真空離子鍍膜機(jī)這三種。
CVD是英文Chemical Vapor Deposition的縮寫，中文意思為“化學(xué)氣相沉積”，是半導(dǎo)體工業(yè)中應(yīng)用最為廣泛的用來(lái)沉積多種材料的技術(shù)，其可用于沉積大范圍的絕緣材料、大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料。從理論上來(lái)說(shuō)，化學(xué)氣相沉積法時(shí)將兩種或兩種以上的氣態(tài)原材料導(dǎo)入到一個(gè)反應(yīng)室內(nèi)，然后他們相互之間發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，形成一種新的材料，沉積到晶片表面上。
在集成電路制成中，經(jīng)常使用的CVD技術(shù)有：大氣壓化學(xué)氣相沉積（APCVD）、低氣壓化學(xué)氣相沉積（LPCVD）、等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）以及新型氣相外延生長(zhǎng)技術(shù)金屬有機(jī)化合物化學(xué)氣相沉積（MOCVD）等。相應(yīng)的設(shè)備也就有APCVD設(shè)備，LPCVD設(shè)備，PECVD設(shè)備以及MOCVD設(shè)備。
2. 刻蝕設(shè)備
刻蝕是采用物理或者化學(xué)的方法，通過(guò)掩膜圖形使薄膜材料選擇性銷蝕的技術(shù)，是薄膜制備的“反”過(guò)程。
刻蝕分為濕法刻蝕和干法刻蝕兩類。濕法刻蝕是將硅片浸泡在可與被刻蝕薄膜進(jìn)行反應(yīng)的溶液中，用化學(xué)方法除去不要部分的薄膜。早期制造業(yè)以濕法為主。當(dāng)半導(dǎo)體制造業(yè)進(jìn)入微米、亞微米時(shí)代以后，要求刻蝕的線寬越來(lái)越細(xì)，傳統(tǒng)的濕法化學(xué)刻蝕因其固有的橫向鉆蝕，無(wú)法控制線寬，甚至造成斷裂，已不再適應(yīng)科研及生產(chǎn)的要求，取而代之的是以等離子體技術(shù)為基礎(chǔ)的干法刻蝕方法。這種方法是將被加工的硅片置于等離子體中，在帶有腐蝕性、具有一定能量離子的轟擊下，反應(yīng)生成氣態(tài)物質(zhì)，去除被刻薄膜，此種方法具有各向異性。
展開 天天為＂芯＂而鬧，一文看晶圓制造主要設(shè)備一覽
PVD鍍膜技術(shù)主要分為三類，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。對(duì)應(yīng)于PVD技術(shù)的三個(gè)分類，相應(yīng)的真空鍍膜設(shè)備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)、真空濺射鍍膜機(jī)和真空離子鍍膜機(jī)這三種。
CVD是英文Chemical Vapor Deposition的縮寫，中文意思為“化學(xué)氣相沉積”，是半導(dǎo)體工業(yè)中應(yīng)用最為廣泛的用來(lái)沉積多種材料的技術(shù)，其可用于沉積大范圍的絕緣材料、大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料。從理論上來(lái)說(shuō)，化學(xué)氣相沉積法時(shí)將兩種或兩種以上的氣態(tài)原材料導(dǎo)入到一個(gè)反應(yīng)室內(nèi)，然后他們相互之間發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，形成一種新的材料，沉積到晶片表面上。
在集成電路制成中，經(jīng)常使用的CVD技術(shù)有：大氣壓化學(xué)氣相沉積（APCVD）、低氣壓化學(xué)氣相沉積（LPCVD）、等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）以及新型氣相外延生長(zhǎng)技術(shù)金屬有機(jī)化合物化學(xué)氣相沉積（MOCVD）等。相應(yīng)的設(shè)備也就有APCVD設(shè)備，LPCVD設(shè)備，PECVD設(shè)備以及MOCVD設(shè)備。
2. 刻蝕設(shè)備
刻蝕是采用物理或者化學(xué)的方法，通過(guò)掩膜圖形使薄膜材料選擇性銷蝕的技術(shù)，是薄膜制備的“反”過(guò)程。
刻蝕分為濕法刻蝕和干法刻蝕兩類。濕法刻蝕是將硅片浸泡在可與被刻蝕薄膜進(jìn)行反應(yīng)的溶液中，用化學(xué)方法除去不要部分的薄膜。早期制造業(yè)以濕法為主。當(dāng)半導(dǎo)體制造業(yè)進(jìn)入微米、亞微米時(shí)代以后，要求刻蝕的線寬越來(lái)越細(xì)，傳統(tǒng)的濕法化學(xué)刻蝕因其固有的橫向鉆蝕，無(wú)法控制線寬，甚至造成斷裂，已不再適應(yīng)科研及生產(chǎn)的要求，取而代之的是以等離子體技術(shù)為基礎(chǔ)的干法刻蝕方法。這種方法是將被加工的硅片置于等離子體中，在帶有腐蝕性、具有一定能量離子的轟擊下，反應(yīng)生成氣態(tài)物質(zhì)，去除被刻薄膜，此種方法具有各向異性。
展開 2026上海國(guó)際精密陶瓷暨IGBT產(chǎn)業(yè)鏈展覽會(huì)
3、陶瓷基板及封裝外殼：陶瓷封裝外殼、DPC、DBC、AMB、HTCC基板、LTCC基板、薄膜電路板、厚膜電路板、陶瓷封裝基座、熱沉、氧化鋁、氮化鋁、氮化硅、氧化鈹、莫來(lái)石粉體及基板等；
4、金屬材料：銀粉、金粉、銅粉、鎳粉、焊料（焊片、焊膏）、MLCC用內(nèi)/外電極漿料、LTCC銀漿、金漿、鎢鉬漿料、銅漿、靶材、無(wú)氧銅帶、可伐合金、金屬?zèng)_壓件等；
5、助劑：陶瓷和導(dǎo)電漿料用分散劑、黏合劑、增塑劑、絮凝劑、礦化劑、消泡劑、潤(rùn)滑劑、燒結(jié)助劑等；
6、陶瓷加工設(shè)備：砂磨機(jī)、球磨機(jī)、真空脫泡機(jī)、三輥機(jī)、噴霧造粒機(jī)、干壓機(jī)、流延機(jī)、注塑機(jī)、3D打印機(jī)、模具、干燥設(shè)備、研磨機(jī)、精雕機(jī)、裁片機(jī)、激光設(shè)備、打孔機(jī)、填孔機(jī)、絲網(wǎng)印刷機(jī)、疊層機(jī)、層壓機(jī)、等靜壓機(jī)、熱切機(jī)、整平機(jī)、排膠爐、燒結(jié)爐、釬焊設(shè)備、電鍍設(shè)備、化學(xué)鍍、噴銀機(jī)、浸銀機(jī)、端銀機(jī)、真空鍍膜設(shè)備、顯影設(shè)備、去膜設(shè)備、蝕刻機(jī)、濕制程設(shè)備、等離子清洗、超聲波清洗、自動(dòng)化設(shè)備、剝離強(qiáng)度測(cè)試儀、AOI檢測(cè)設(shè)備、打標(biāo)機(jī)；
二、IGBT產(chǎn)業(yè)鏈：
2、1、材料：碳化硅，陶瓷襯板（DBC、AMB）、封裝管殼、鍵合絲、散熱基板（銅、鋁碳化硅AlSiC）、導(dǎo)熱硅凝膠、環(huán)氧灌封膠、焊料（預(yù)制焊片）、銀膜/銀膏、散熱器（銅、鋁）、功率引出端子（銅端子）、外殼（工程塑料PPS、PBT、高溫尼龍）、清洗劑等；
2、2、設(shè)備及配件：真空焊接爐、貼片機(jī)、固晶機(jī)、引線鍵合機(jī)、X-ray、推拉力測(cè)試機(jī)、等離子清洗設(shè)備、點(diǎn)膠機(jī)、絲網(wǎng)印刷機(jī)、超聲波掃描設(shè)備、動(dòng)靜態(tài)測(cè)試機(jī)、點(diǎn)/灌膠機(jī)、銀燒結(jié)設(shè)備、垂直固化爐、甲酸真空共晶爐、自動(dòng)封蓋設(shè)備、高速插針機(jī)、彎折設(shè)備、超聲波焊接機(jī)、視覺(jué)檢測(cè)設(shè)備、推拉力測(cè)試機(jī)、高低溫沖擊設(shè)備、功率循環(huán)測(cè)試設(shè)備、打標(biāo)機(jī)、檢驗(yàn)平臺(tái)、治具等；
█展位收費(fèi)：
展開 晉華被美國(guó)禁運(yùn)，受傷的不止中國(guó)
首先是中電科，在集成電路晶圓制造的七大領(lǐng)域設(shè)備中，中電科電子裝備公司在離子注入機(jī)和CMP（化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)）；北方華創(chuàng)，產(chǎn)品有刻蝕機(jī)、鍍膜設(shè)備、 CVD設(shè)備、 氧化擴(kuò)散設(shè)備、清洗機(jī)、輔助設(shè)備；中微半導(dǎo)體，主要生產(chǎn)MOCVD、刻蝕和封裝設(shè)備；沈陽(yáng)拓荊公司則擁有12英寸PECVD（等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備）、ALD（原子層薄膜沉積設(shè)備）、3D NAND PECVD（三維結(jié)構(gòu)閃存專用PECVD設(shè)備）三個(gè)完整系列產(chǎn)品，上海微電子，主要生產(chǎn)光刻機(jī)，且已經(jīng)能夠提供90nm工藝設(shè)備。
雖然國(guó)內(nèi)有了初步的布局，但與國(guó)際先進(jìn)水平相比，依然相去甚遠(yuǎn)。據(jù)長(zhǎng)城證券統(tǒng)計(jì)，國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備產(chǎn)業(yè)實(shí)力依然薄弱，總體國(guó)產(chǎn)化率不足 15%，且絕大部分企業(yè)無(wú)法達(dá)到國(guó)際上已經(jīng)實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)的 10nm 工藝。部分在 28nm或 14nm 工藝取得突破的設(shè)備廠商，其產(chǎn)品穩(wěn)定性與國(guó)際巨頭仍有較大差距，要實(shí)現(xiàn)大批量進(jìn)入量產(chǎn)線仍需時(shí)日。而對(duì)比中國(guó)設(shè)備廠商和國(guó)外同行，也的確有不小的差距。展望未來(lái)，中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備能夠再接再厲，為中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)未來(lái)發(fā)展增加更多的信心。
回到晉華這件事上來(lái)，希望中美雙方能夠妥善解決這個(gè)問(wèn)題，攜手共建一個(gè)美好未來(lái)。相信這是中國(guó)人民的美好愿望，也是美國(guó)行業(yè)人士所期望見(jiàn)到的。
原創(chuàng)： 李壽鵬
來(lái)源：半導(dǎo)體行業(yè)觀察
展開 晉華被美國(guó)禁運(yùn)，受傷的不止中國(guó)
首先是中電科，在集成電路晶圓制造的七大領(lǐng)域設(shè)備中，中電科電子裝備公司在離子注入機(jī)和CMP（化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)）；北方華創(chuàng)，產(chǎn)品有刻蝕機(jī)、鍍膜設(shè)備、 CVD設(shè)備、 氧化擴(kuò)散設(shè)備、清洗機(jī)、輔助設(shè)備；中微半導(dǎo)體，主要生產(chǎn)MOCVD、刻蝕和封裝設(shè)備；沈陽(yáng)拓荊公司則擁有12英寸PECVD（等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備）、ALD（原子層薄膜沉積設(shè)備）、3D NAND PECVD（三維結(jié)構(gòu)閃存專用PECVD設(shè)備）三個(gè)完整系列產(chǎn)品，上海微電子，主要生產(chǎn)光刻機(jī)，且已經(jīng)能夠提供90nm工藝設(shè)備。
雖然國(guó)內(nèi)有了初步的布局，但與國(guó)際先進(jìn)水平相比，依然相去甚遠(yuǎn)。據(jù)長(zhǎng)城證券統(tǒng)計(jì)，國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備產(chǎn)業(yè)實(shí)力依然薄弱，總體國(guó)產(chǎn)化率不足 15%，且絕大部分企業(yè)無(wú)法達(dá)到國(guó)際上已經(jīng)實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)的 10nm 工藝。部分在 28nm或 14nm 工藝取得突破的設(shè)備廠商，其產(chǎn)品穩(wěn)定性與國(guó)際巨頭仍有較大差距，要實(shí)現(xiàn)大批量進(jìn)入量產(chǎn)線仍需時(shí)日。而對(duì)比中國(guó)設(shè)備廠商和國(guó)外同行，也的確有不小的差距。展望未來(lái)，中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備能夠再接再厲，為中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)未來(lái)發(fā)展增加更多的信心。
回到晉華這件事上來(lái)，希望中美雙方能夠妥善解決這個(gè)問(wèn)題，攜手共建一個(gè)美好未來(lái)。相信這是中國(guó)人民的美好愿望，也是美國(guó)行業(yè)人士所期望見(jiàn)到的。
來(lái)源：半導(dǎo)體行業(yè)觀察
作者：李壽鵬
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重大突破：我國(guó)研制出世界上最大口徑單體碳化硅反射鏡！
項(xiàng)目啟動(dòng)后，張學(xué)軍領(lǐng)導(dǎo)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)通過(guò)多年持續(xù)技術(shù)攻關(guān)，突破一系列關(guān)鍵技術(shù)瓶頸，先后完成碳化硅鏡坯制備、非球面加工檢測(cè)、碳化硅表面改性鍍膜的制造設(shè)備研制與制造工藝研究，形成了具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的“4米量級(jí)高精度碳化硅非球面集成制造平臺(tái)”，并依托集成制造平臺(tái)完成4米量級(jí)高精度碳化硅非球面產(chǎn)品研制。
其中，在碳化硅材料制備技術(shù)方面，項(xiàng)目研發(fā)團(tuán)隊(duì)建立大口徑碳化硅鏡坯制造平臺(tái)，并先后研制成功可用于可見(jiàn)光成像的2米、2.4米、3米單體碳化硅鏡坯和4米口徑整體碳化硅鏡坯，而此前國(guó)際上公認(rèn)1.5米是單體碳化硅反射鏡的極限口徑，從而實(shí)現(xiàn)中國(guó)大口徑碳化硅光學(xué)材料制備的自主可控。
中科院長(zhǎng)春光機(jī)所研制成功的直徑4.03米口徑高精度碳化硅非球面反射鏡。孫自法 攝
在大口徑碳化硅非球面加工檢測(cè)技術(shù)方面，項(xiàng)目研發(fā)團(tuán)隊(duì)突破大口徑碳化硅非球面高精度高效加工技術(shù)瓶頸，并解決了高精度零位檢測(cè)精度標(biāo)定、調(diào)整誤差分離、投影畸變校正等關(guān)鍵問(wèn)題，完成4米量級(jí)碳化硅非球面高精度加工，加工精度優(yōu)于16納米，全面實(shí)現(xiàn)4米量級(jí)碳化硅高精度加工與檢測(cè)技術(shù)自主可控。
在大口徑碳化硅改性鍍膜技術(shù)方面，項(xiàng)目研發(fā)團(tuán)隊(duì)在國(guó)際上首次研制成功碳化硅反射鏡改性與反射膜鍍制一體化設(shè)備，提升膜層質(zhì)量與可靠性，實(shí)現(xiàn)4米口徑碳化硅反射鏡表面高反射率薄膜鍍制，可見(jiàn)至長(zhǎng)波紅外全譜段反射率優(yōu)于95%。
專家指出，中國(guó)通過(guò)研制成功“4米量級(jí)高精度碳化硅非球面反射鏡集成制造系統(tǒng)”，形成具備自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的4米量級(jí)大口徑反射鏡研制能力，并陸續(xù)應(yīng)用于中國(guó)各類大型光電設(shè)備，將推動(dòng)中國(guó)在大口徑光學(xué)反射鏡制造技術(shù)方面實(shí)現(xiàn)跨越式發(fā)展，大幅提升中國(guó)高性能大型光學(xué)儀器研制水平。
展開 陶瓷基板—“前世與今生”
DBC 缺點(diǎn)在于， 其利用了高溫下 Cu 與 Al2O3間的共晶反應(yīng)，對(duì)設(shè)備和工藝控制要求較高，基板成本較高；由于 Al2O3 與 Cu 層間容易產(chǎn)生微氣孔，降低了產(chǎn)品抗熱沖擊性；由于銅箔在 高溫下容易翹曲變形。
2.3 AMB技術(shù)
AMB 技術(shù)是指，在 800℃左右的高溫下，含有活性元素 Ti、Zr 的 AgCu 焊料在陶瓷和金屬的界面潤(rùn)濕并反應(yīng)，從而實(shí)現(xiàn)陶瓷與金屬異質(zhì)鍵合的一種工藝技術(shù)。AMB陶瓷基板，首先通過(guò)絲網(wǎng)印刷法在陶瓷板材的表面涂覆上活性金屬焊料，再與無(wú)氧銅層裝夾，在真空釬焊爐中進(jìn)行高溫焊接，然后刻蝕出圖形制作電路，最后再對(duì)表面圖形進(jìn)行化學(xué)鍍。
來(lái)源：《熱管理材料》整理
AMB工藝是金屬釬料實(shí)現(xiàn)氮化鋁與無(wú)氧銅的高溫結(jié)合，以結(jié)合強(qiáng)度高、冷熱循環(huán)可靠性好等優(yōu)點(diǎn)，不僅具有更高的熱導(dǎo)率、更好的銅層結(jié)合力，而且還有熱阻更小、可靠性更高等優(yōu)勢(shì)。AMB陶瓷基板缺點(diǎn)在于工藝的可靠性很大程度上取決于活性釬料成分、焊工藝、舒焊層組織結(jié)構(gòu)等諸多關(guān)鍵因素，工藝難度大，而且還要兼顧成本方面的考慮。
2.4 陶瓷基板及金屬化涉及重點(diǎn)設(shè)備
陶瓷粉體制成陶瓷基板，再通過(guò)金屬化工藝進(jìn)行線路的刻蝕，工藝流程繁多且復(fù)雜，涉及相關(guān)設(shè)備眾多，例如球磨機(jī)、真空脫泡機(jī)、流延機(jī)、等靜壓機(jī)、切片機(jī)、絲網(wǎng)印刷、激光打孔、排膠燒結(jié)爐、鍍膜設(shè)備、刻蝕機(jī)、電鍍機(jī)，以及檢測(cè)所需的測(cè)厚儀、粘度計(jì)、紅外光譜儀、導(dǎo)熱系數(shù)測(cè)量?jī)x等等相關(guān)設(shè)備。相關(guān)企業(yè)如下（
企業(yè)排名無(wú)先后順序）：
1：球磨機(jī)
浙江德龍科技有限公司創(chuàng)立于2004年，是經(jīng)浙江省工商行政管理局批準(zhǔn)注冊(cè)的一家集開發(fā)設(shè)計(jì)、研制生產(chǎn)、銷售服務(wù)為一體的高新技術(shù)企業(yè)。
展開 流量控制器在半導(dǎo)體加工工藝化學(xué)氣相沉積（CVD）的應(yīng)用
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MFC質(zhì)量流量控制器在CVD設(shè)備中的重要性：
MFC（質(zhì)量流量控制器）被廣泛應(yīng)用于控制和監(jiān)測(cè)各種氣體的流量。其中在CVD的應(yīng)用：
流量控制：MFC對(duì)于CVD設(shè)備的運(yùn)行至關(guān)重要。它能夠精確地測(cè)量和調(diào)節(jié)進(jìn)入反應(yīng)室的流量，以確保反應(yīng)氣體的準(zhǔn)確供應(yīng)。這對(duì)于控制薄膜厚度以及避免因流量變化引起的薄膜不均勻性至關(guān)重要。
穩(wěn)定性監(jiān)控：MFC可以實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)流體的流量變化，從而確保CVD過(guò)程的穩(wěn)定性和一致性。這種監(jiān)控有助于及時(shí)發(fā)現(xiàn)并解決設(shè)備故障和維護(hù)設(shè)備性能。
程序控制：MFC可以通過(guò)預(yù)設(shè)程序來(lái)控制流體的流量變化，從而實(shí)現(xiàn)CVD過(guò)程的自動(dòng)化和程序化。這有助于提高生產(chǎn)效率并減少人為操作錯(cuò)誤。
下面來(lái)自工采傳感（ISWEEK）代理美國(guó)SIARGO的一款高精度，量程范圍寬可選的流量控制器MFC2000系列。
MFC2000系列質(zhì)量流量控制器采用公司專有的MEMS Thermal-D操作"“熱量傳感技術(shù)與智能控制電子設(shè)備，這種獨(dú)特的質(zhì)量流量傳感技術(shù)消除了一些擴(kuò)散率相似的氣體的氣體敏感性，并允許在編程后進(jìn)行氣體識(shí)別。本產(chǎn)品可用干動(dòng)態(tài)范圍為100:1的過(guò)程控制，其控制范圍為0.1至0.8MPa(15至120 PSL)的壓力和0至50℃的補(bǔ)償溫度。量程在50mL/min到200L/min不同范圍可選，帶有數(shù)字RS485 Modbus通信和模擬輸出。
該產(chǎn)品的設(shè)計(jì)便于更換機(jī)械連接器，標(biāo)準(zhǔn)連接器可選雙卡套、VCR或UNF，其他定制連接器可根據(jù)要求提供。
展開 汽車智能座艙展︱2025 廣州國(guó)際汽車智能座艙及車載顯示技術(shù)展覽會(huì)
展示范圍：
1、智能座艙域控制器，數(shù)字座艙/虛擬座艙整體解決方案；智能座艙芯片；氛圍燈；操作系統(tǒng)；車載座艙聲學(xué)音響系統(tǒng)，車載娛樂(lè)系統(tǒng)，車載通信系統(tǒng)，人機(jī)交互系統(tǒng)；
2、智能座艙內(nèi)飾創(chuàng)新技術(shù)如智能座椅、環(huán)保材料、智能表面、智能聲光電技術(shù)，智能座艙開發(fā)設(shè)計(jì)，測(cè)試測(cè)量技術(shù)等；
3、車載顯示系統(tǒng)：車載導(dǎo)航系統(tǒng)、液晶儀表盤、智能后視鏡、HUD抬頭顯示、AR抬頭顯示、后座娛樂(lè)顯示屏、車窗透明顯示等其他創(chuàng)新顯示應(yīng)用；
◆車載顯示屏材料及設(shè)備：基板玻璃、液晶材料、偏光片、彩色濾光片、光學(xué)薄膜、驅(qū)動(dòng) IC、靶材、沉積設(shè)備、曝光設(shè)備、顯影設(shè)備、蝕刻設(shè)備、清洗設(shè)備、貼偏光板設(shè)備、檢測(cè)設(shè)備、PI 涂覆 / 固化設(shè)備、定向摩擦設(shè)備、灌注液晶 / 封口設(shè)備、噴墨打印設(shè)備等；
4、車載觸控顯示模組：觸控顯示模組、LCD 顯示屏、TFT-LCD 顯示屏、 OLED 顯示屏、AMOLED 顯示屏、 Micro-LED 顯示屏、Mini-LED 顯示屏、背光模組、觸摸屏等；
◆車載觸摸屏材料及設(shè)備：絲印耗材、高功能性薄膜、真空鍍膜材料、蝕刻劑 / 光阻劑、ITO薄膜 / ITO 玻璃、納米銀線、金屬網(wǎng)格、絲印機(jī)、鍍膜 / 顯影 / 清洗設(shè)備、凈化設(shè)備、激光切割設(shè)備、固化 / 烘干設(shè)備、貼合 / 點(diǎn)膠設(shè)備、AOI / 分析儀/ 檢測(cè)儀等；
5、車載蓋板：3D玻璃、IML、IMD、PC、PMMA等；
◆車載蓋板材料及設(shè)備：玻璃白片、AG玻璃、切削液、拋光粉、清洗劑、硝酸鉀、油墨、AF/AG/AR膜、板材加工、IML加工、膜片相關(guān)、塑料粒子、注塑機(jī)、空氣高壓機(jī)、玻璃開料機(jī)、刀輪、精雕機(jī)、磨頭、研磨機(jī)、熱彎?rùn)C(jī)、石墨模具、清洗機(jī)、鋼化爐、絲網(wǎng)印刷機(jī)、網(wǎng)版、隧道爐、噴涂機(jī)、真空鍍膜機(jī)、檢測(cè)設(shè)備等；
5、光學(xué)貼合生產(chǎn)工藝及材料設(shè)備：OCA、OCR、
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