納米級測量技術
關注創建者：匿名 創建時間：2026-01-04
納米級測量技術的實例教程
納米級材料尺寸如何測量？
在納米科技的浪潮中，材料尺寸的精確測量成為了科研和工業應用的關鍵。納米級材料因其物理化學特性，在電子、醫藥、能源等多個領域展現出廣泛的應用前景。然而，如何準確測量這些材料的尺寸，尤其是當尺寸達到納米級別時，對技術提出了高要求。中圖儀器作為一家專注于3D測量技術的高新技術企業，在這方面取得了顯著的成就。
創新驅動，技術領先
中圖儀器專注于精密儀器研發、制造和銷售，服務于顯微尺寸、常規尺寸和大尺寸等工業制造過程中的各種測量需求。在納米顯微測量領域，基于納米傳動與掃描技術、白光干涉與高精度3D重建技術、共聚焦測量等技術積累，推出了具有自主知識產權的白光干涉儀（Z向分辨率可高達0.1納米）和共聚焦顯微鏡，廣泛應用于半導體、3C電子、高校科研等行業領域。
微納米超精密測量技術，精確捕捉微觀世界
納米級測量技術是中圖儀器科技創新的重要體現。公司采用的白光干涉三維重建技術、微納米顯微測量3D軟件平臺以及微納米運動設計制造平臺，為納米級材料的尺寸測量提供了強有力的技術支撐。這些技術不僅能夠實現對材料表面微觀形貌的高精度測量，還能夠對材料的厚度、粗糙度等參數進行精確分析。
產品解決方案全面覆蓋，滿足多樣化需求
從納米到宏觀，中圖產品線全面覆蓋各個尺度的測量需求。
1、光學3D表面輪廓儀
SuperView W系列光學3D表面輪廓儀利用白光干涉技術，結合精密Z向掃描模塊和3D建模算法，能夠對各種精密器件及材料表面進行亞納米級測量。
展開 在納米顯微測量領域，中圖儀器基于納米傳動與掃描技術、白光干涉與高精度3D重建技術、共聚焦測量等技術積累，推出了具有自主知識產權的白光干涉儀（Z向分辨率可高達0.1納米）和共聚焦顯微鏡，廣泛應用于半導體、3C電子、高校科研等行業領域。
從納米到宏觀，產品解決方案全面覆蓋，滿足多樣化需求：
1、光學3D表面輪廓儀
SuperView W系列光學3D表面輪廓儀利用白光干涉技術，結合精密Z向掃描模塊和3D建模算法，能夠對各種精密器件及材料表面進行亞納米級測量。
2、共聚焦顯微鏡
VT6000系列共聚焦顯微鏡以共聚焦技術為原理、結合精密Z向掃描模塊、3D 建模算法等，對各種精密器件及材料表面進行微納米級測量。
3、臺階儀
CP系列臺階儀采用了線性可變差動電容傳感器LVDC，集成了超低噪聲信號采集、超精細運動控制、標定算法等核心技術，具備超微力調節的能力和亞埃級的分辨率。
中圖儀器以深厚的技術積累、創新的產品解決方案和全球化的服務網絡，為全球客戶提供精準、可靠的測量產品和服務。未來公司將不斷推動科技創新，繼續在精密測量領域發揮領導作用，助力科技進步和工業發展。
展開 納米科技的迅猛發展將我們的視野拓展到了微觀世界，而測量納米級尺寸的物體和現象則成為了時下熱門的研究領域。納米級測量儀器作為一種重要的工具，扮演著重要的角色。那么，如何才能準確測量納米級物體呢？
在納米級測量中，由于物體尺寸的相對較小，傳統的測量儀器往往無法滿足精確的要求。而納米級測量儀器具備高精度、高分辨率和非破壞性的特點，可以測量微小的尺寸。
1、光學3D表面輪廓儀
SuperViewW1光學3D表面輪廓儀以白光干涉技術原理，通過測量干涉條紋的變化來測量表面三維形貌，專用于精密零部件之重點部位表面粗糙度、微小形貌輪廓及尺寸的非接觸式快速測量。
2、激光共聚焦顯微鏡
VT6000激光共聚焦顯微鏡以轉盤共聚焦光學系統為基礎，結合高穩定性結構設計和3D重建算法共同組成測量系統，能用于各種精密器件及材料表面的非接觸式微納米測量。能測量表面物理形貌，進行微納米尺度的三維形貌分析，如3D表面形貌、2D的縱深形貌、輪廓（縱深、寬度、曲率、角度）、表面粗糙度等。
3、臺階儀
CP200臺階儀不同于光學輪廓儀和顯微鏡的是它的測量方式是接觸式探針測量。它可以對微米和納米結構進行膜厚和薄膜高度、表面形貌、表面波紋和表面粗糙度等的測量。線性可變差動電容傳感器（LVDC），具有亞埃級分辨率，13um量程下可達0.01埃。高信噪比和低線性誤差，使得產品能夠掃描到幾納米至幾百微米臺階的形貌特征。
除了上述所提及的儀器外，還有一些其他的納米級測量儀器也日益成為研究的熱點，例如激光干涉儀。這些測量工具各有特點，可用于不同的納米級尺寸測量需求。
納米級測量儀器在納米科技研究領域中扮演著重要的角色。通過共聚焦顯微鏡、光學輪廓儀等的運用，科研人員們能夠更加深入地了解納米世界的奧秘。
展開 圖3：最小寬度的納米線
展示了小于10納米的線條。
圖4：橫向間距的極限
A-D為下圖中不同激光強度下的例子。測量的橫向距離表明，利用打印高度差及極細的納米線條，30納米左右的橫向間距是可實現的。
圖5：利用懸空納米網格作為蒸發掩膜
（a-b）是利用打印高度差及細線條來避免不需要的隨機聚合，極細且規整的間距可以實現。
（c-d）作為對比，若納米線條都打印在同一高度，不需要的隨機聚合會破壞設計的規整性。
【小結】
實驗結果表明，通過控制激光掃描速度及方向，10納米級的納米網格是可實現的。利用打印高度差及極細的納米網格，進而可以實現30納米級的橫向間距以及極小且規整的金屬間距。這項研究展示一種新的可能，即利用現有成熟的激光打印技術，10納米級的納米結構亦是可以實現。目前，完整的機制尚未完全清晰明了，該課題組正致力于更多相關實驗來驗明機制以及完善該方法，使得打印隨意形狀的10納米級三維納米結構成為可能。該成果進一步擴展了激光打印技術的使用范圍。
文獻鏈接:Sub-10-nm Suspended Nano-Web Formation by Direct Laser Writing http://iopscience.iop.org/article/10.1088/2399-1984/aabb94
展開 生產線智能化將是制造業轉型升級的重要發展趨勢，智能檢測技術也將廣泛應用于工業自動化、航天、電子等行業。
2023年2月23日，工業和信息化部、國家發展和改革委員會等七個部門聯合發布《智能檢測裝備產業發展行動計劃(2023-2025年)》中提到，“智能檢測裝備作為智能制造的核心裝備，是“工業六基”的重要組成和產業基礎高級化的重要領域，對支撐制造強國、質量強國和數字中國建設具有重要意義。”針對我國智能檢測裝備產業仍存在技術基礎薄弱、創新能力不強、高端供給不足等問題，中圖儀器堅持以技術創新為發展基礎，集光、機、電、信息技術于一體的技術團隊，勇于創新，著力突破從微納米到百米測量的核心技術，堅持高質量出品，增強高端供給，打造質量強國。
從微納米到百米測量，中圖智能精密測量儀器著力突破核心技術，增強高端供給
1、融合創新檢測技術、新型制造工藝與前沿科技領域基礎理論，研發生產一批前沿智能精密測量檢測裝備。
納米級精密測量儀器
VT6000共聚焦顯微鏡
共聚焦顯微鏡用于對各種精密器件及材料表面進行微納米級測量的光學檢測儀器。它是以共聚焦技術為原理、結合精密Z向掃描模塊、3D 建模算法等對器件表面進行非接觸式掃描并建立表面3D圖像，通過系統軟件對器件表面3D圖像進行數據處理與分析，并獲取反映器件表面質量的2D、3D參數，從而實現器件表面形貌3D測量。
SuperViewW1白光干涉儀
光干涉儀用于對各種精密器件及材料表面進行亞納米級測量的光學檢測儀器。
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在納米顯微測量領域，中圖儀器基于納米傳動與掃描技術、白光干涉與高精度3D重建技術、共聚焦測量等技術積累，推出了具有自主知識產權的白光干涉儀（Z向分辨率可高達0.1納米）和共聚焦顯微鏡，廣泛應用于半導體、3C電子、高校科研等行業領域。
從納米到宏觀，產品解決方案全面覆蓋，滿足多樣化需求：
1、光學3D表面輪廓儀
SuperView W系列光學3D表面輪廓儀利用白光干涉技術
AFM是一種可分析到納米級的測量技術。AFM設備以往用來檢測大尺寸面板的樣品，預計今年起也能為加快韓國Micro Display的開發做出貢獻。
根據韓媒Zdnet Korea報道，據業界4月23日消息，韓國主要電子廠商為開發OELDiS，計劃今年下半年引進AFM設備。
納米科技的迅猛發展將我們的視野拓展到了微觀世界，而測量納米級尺寸的物體和現象則成為了時下熱門的研究領域。納米級測量儀器作為一種重要的工具，扮演著重要的角色。那么，如何才能準確測量納米級物體呢？
在納米級測量中，由于物體尺寸的相對較小，傳統的測量儀器往往無法滿足精確的要求。而納米級測量儀器具備高精度、高分辨率和非破壞性的特點，可以測量微小的尺寸。
1、光學3D表面輪廓儀
SuperViewW1
撰稿人 | 樸通
論文題目 | Realization of high aspect ratio metalenses by facile
智能檢測有兩大優勢：一是更智能、更精細、更高效；二是人力成本更低。生產線智能化將是制造業轉型升級的重要發展趨勢，智能檢測技術也將廣泛應用于工業自動化、航天、電子等行業。
2023年2月23日，工業和信息化部、國家發展和改革委員會等七個部門聯合發布《智能檢測裝備產業發展行動計劃(2023-2025年)》中提到，“智能檢測裝備作為智能制造的核心裝備，是“工業六基”的重要組成和產業基礎高級化的重要領域
CINNO Research
雙光子光刻是一種3D打印方法，與大多數激光3D打印技術不同，3D激光打印技術的分辨率受3D打印機激光點的大小限制，雙光子聚合技術可將打印分辨率提高到更高的精度。對于醫學研究領域，即用于藥物輸送、組織再生、化學和材料合成的應用而言，這項技術值得深入研究。
3D科學谷曾多次為谷友們介紹到國內外雙光子光刻納米級3D打印技術的研究進展。本期，借立陶宛維爾紐斯大學所進行的玻璃陶瓷材料納米級3D打印研究
【引言】
基于雙光子聚合的三維激光直寫技術受限于衍射極限, 使得現有的成熟激光直寫技術的極限尺度被限制在100納米級別。實現更高的書寫尺度極限往往需要對實驗設備和聚合材料進行精細的調控，加大了實驗的成本和復雜度。因此，發展一個完全基于標準的3D激光直寫儀器的圖案化手段來實現極高的打印極限是非常重要的。文章中展示的方法可以非常簡單地通過調節書寫條件，直接書寫超小尺寸。
【成果簡介】
近日，新加坡科技設計大學
