內(nèi)部場分析的案例
[VirtualLab] 元件內(nèi)部場分析儀：FMM
摘要
元件內(nèi)部場分析器：FMM允許用戶可視化和研究微結(jié)構(gòu)和納米結(jié)構(gòu)內(nèi)部的電磁場分布。為此，使用傅立葉模態(tài)法/嚴格耦合波分析（FMM/RCWA）計算周期性結(jié)構(gòu)（透射或反射、電介質(zhì)或金屬）內(nèi)部的場。還可以指定場的哪一部分應該可視化：正向模式、反向模式或兩者同時顯示。
元件內(nèi)部場分析儀：FMM
元件內(nèi)部場分析器：FMM是光柵光學裝置的獨有功能，可提供光柵結(jié)構(gòu)內(nèi)部電磁場的可視化。
評估模式的選擇
為了更容易地區(qū)分入射場、反射場和透射場，可以僅評估正向或反向傳播模式，或者評估兩者的總和。
評價區(qū)域的選擇
元件內(nèi)部場分析器：FMM可以輸出整個元件（包括基板）內(nèi)部的場，或者只輸出一個堆棧或基塊（基板）中的場。
不同光柵結(jié)構(gòu)的場分布
任意形狀的光柵結(jié)構(gòu)可以通過元件內(nèi)部場分析儀進行分析。以下是幾個例子：
光柵結(jié)構(gòu)的采樣
雖然分析儀為輸出數(shù)據(jù)提供了一些采樣選項，但系統(tǒng)中定義的光柵表面必須正確采樣（例如，分解點和過渡點的層數(shù)足夠）。
分解預覽展示了如何根據(jù)當前采樣因子對光柵結(jié)構(gòu)進行采樣。
光柵結(jié)構(gòu)的充分采樣意味著已經(jīng)實現(xiàn)了收斂，即進一步增加采樣不會顯著影響產(chǎn)生的場。例如，如果層分解過于粗糙，則可能會由于縱斷面中的大臺階而產(chǎn)生其他影響。
輸出數(shù)據(jù)的采樣：一維周期光柵（Lamellar）
對于1D周期性（片狀）光柵，分析儀使用對話框“采樣”部分中指定的參數(shù)生成2D橫截面圖像。
輸出數(shù)據(jù)的采樣：二維周期光柵
當分析的光柵設置為2D Periodic時，F(xiàn)ield Inside Component Analyzer：FMM將通過結(jié)構(gòu)生成一系列二元截面，z方向的采樣參數(shù)決定執(zhí)行的切割次數(shù)。
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元件內(nèi)部場分析器：FMM允許用戶可視化和研究微結(jié)構(gòu)和納米結(jié)構(gòu)內(nèi)部的電磁場分布。為此，使用傅立葉模態(tài)法/嚴格耦合波分析（FMM/RCWA）計算周期性結(jié)構(gòu)（透射或反射、電介質(zhì)或金屬）內(nèi)部的場。還可以指定場的哪一部分應該可視化：正向模式、反向模式或兩者同時顯示。
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元件內(nèi)部場分析器：FMM是光柵光學裝置的獨有功能，可提供光柵結(jié)構(gòu)內(nèi)部電磁場的可視化。
評估模式的選擇
為了更容易地區(qū)分入射場、反射場和透射場，可以僅評估正向或反向傳播模式，或者評估兩者的總和。
評價區(qū)域的選擇
元件內(nèi)部場分析器：FMM可以輸出整個元件（包括基板）內(nèi)部的場，或者只輸出一個堆棧或基塊（基板）中的場。
不同光柵結(jié)構(gòu)的場分布
任意形狀的光柵結(jié)構(gòu)可以通過元件內(nèi)部場分析儀進行分析。以下是幾個例子：
光柵結(jié)構(gòu)的采樣
雖然分析儀為輸出數(shù)據(jù)提供了一些采樣選項，但系統(tǒng)中定義的光柵表面必須正確采樣（例如，分解點和過渡點的層數(shù)足夠）。
分解預覽展示了如何根據(jù)當前采樣因子對光柵結(jié)構(gòu)進行采樣。
光柵結(jié)構(gòu)的充分采樣意味著已經(jīng)實現(xiàn)了收斂，即進一步增加采樣不會顯著影響產(chǎn)生的場。例如，如果層分解過于粗糙，則可能會由于縱斷面中的大臺階而產(chǎn)生其他影響。
輸出數(shù)據(jù)的采樣：一維周期光柵（Lamellar）
對于1D周期性（片狀）光柵，分析儀使用對話框“采樣”部分中指定的參數(shù)生成2D橫截面圖像。
輸出數(shù)據(jù)的采樣：二維周期光柵
當分析的光柵設置為2D Periodic時，F(xiàn)ield Inside Component Analyzer：FMM將通過結(jié)構(gòu)生成一系列二元截面，z方向的采樣參數(shù)決定執(zhí)行的切割次數(shù)。
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元件內(nèi)部場分析器：FMM允許用戶可視化和研究微結(jié)構(gòu)和納米結(jié)構(gòu)內(nèi)部的電磁場分布。為此，使用傅立葉模態(tài)法/嚴格耦合波分析（FMM/RCWA）計算周期性結(jié)構(gòu)（透射或反射、電介質(zhì)或金屬）內(nèi)部的場。還可以指定場的哪一部分應該可視化：正向模式、反向模式或兩者同時顯示。
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評估模式的選擇
為了更容易地區(qū)分入射場、反射場和透射場，可以僅評估正向或反向傳播模式，或者評估兩者的總和。
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不同光柵結(jié)構(gòu)的場分布
任意形狀的光柵結(jié)構(gòu)可以通過元件內(nèi)部場分析儀進行分析。以下是幾個例子：
光柵結(jié)構(gòu)的采樣
雖然分析儀為輸出數(shù)據(jù)提供了一些采樣選項，但系統(tǒng)中定義的光柵表面必須正確采樣（例如，分解點和過渡點的層數(shù)足夠）。
分解預覽展示了如何根據(jù)當前采樣因子對光柵結(jié)構(gòu)進行采樣。
光柵結(jié)構(gòu)的充分采樣意味著已經(jīng)實現(xiàn)了收斂，即進一步增加采樣不會顯著影響產(chǎn)生的場。例如，如果層分解過于粗糙，則可能會由于縱斷面中的大臺階而產(chǎn)生其他影響。
輸出數(shù)據(jù)的采樣：一維周期光柵（Lamellar）
對于1D周期性（片狀）光柵，分析儀使用對話框“采樣”部分中指定的參數(shù)生成2D橫截面圖像。
輸出數(shù)據(jù)的采樣：二維周期光柵
當分析的光柵設置為2D Periodic時，F(xiàn)ield Inside Component Analyzer：FMM將通過結(jié)構(gòu)生成一系列二元截面，z方向的采樣參數(shù)決定執(zhí)行的切割次數(shù)。
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元件內(nèi)部場分析器：FMM允許用戶可視化和研究微結(jié)構(gòu)和納米結(jié)構(gòu)內(nèi)部的電磁場分布。為此，使用傅立葉模態(tài)法/嚴格耦合波分析（FMM/RCWA）計算周期性結(jié)構(gòu)（透射或反射、電介質(zhì)或金屬）內(nèi)部的場。還可以指定場的哪一部分應該可視化：正向模式、反向模式或兩者同時顯示。
元件內(nèi)部場分析儀：FMM
元件內(nèi)部場分析器：FMM是光柵光學裝置的獨有功能，可提供光柵結(jié)構(gòu)內(nèi)部電磁場的可視化。
評估模式的選擇
為了更容易地區(qū)分入射場、反射場和透射場，可以僅評估正向或反向傳播模式，或者評估兩者的總和。
評價區(qū)域的選擇
元件內(nèi)部場分析器：FMM可以輸出整個元件（包括基板）內(nèi)部的場，或者只輸出一個堆棧或基塊（基板）中的場。
不同光柵結(jié)構(gòu)的場分布
任意形狀的光柵結(jié)構(gòu)可以通過元件內(nèi)部場分析儀進行分析。以下是幾個例子：
光柵結(jié)構(gòu)的采樣
雖然分析儀為輸出數(shù)據(jù)提供了一些采樣選項，但系統(tǒng)中定義的光柵表面必須正確采樣（例如，分解點和過渡點的層數(shù)足夠）。
分解預覽展示了如何根據(jù)當前采樣因子對光柵結(jié)構(gòu)進行采樣。
光柵結(jié)構(gòu)的充分采樣意味著已經(jīng)實現(xiàn)了收斂，即進一步增加采樣不會顯著影響產(chǎn)生的場。例如，如果層分解過于粗糙，則可能會由于縱斷面中的大臺階而產(chǎn)生其他影響。
輸出數(shù)據(jù)的采樣：一維周期光柵（Lamellar）
對于1D周期性（片狀）光柵，分析儀使用對話框“采樣”部分中指定的參數(shù)生成2D橫截面圖像。
輸出數(shù)據(jù)的采樣：二維周期光柵
當分析的光柵設置為2D Periodic時，F(xiàn)ield Inside Component Analyzer：FMM將通過結(jié)構(gòu)生成一系列二元截面，z方向的采樣參數(shù)決定執(zhí)行的切割次數(shù)。
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輸出數(shù)據(jù)的采樣：二維周期光柵
當分析的光柵設置為2D Periodic時，F(xiàn)ield Inside Component Analyzer：FMM將通過結(jié)構(gòu)生成一系列二元截面，z方向的采樣參數(shù)決定執(zhí)行的切割次數(shù)。
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元件內(nèi)部場分析器：FMM允許用戶可視化和研究微結(jié)構(gòu)和納米結(jié)構(gòu)內(nèi)部的電磁場分布。為此，使用傅立葉模態(tài)法/嚴格耦合波分析（FMM/RCWA）計算周期性結(jié)構(gòu)（透射或反射、電介質(zhì)或金屬）內(nèi)部的場。還可以指定場的哪一部分應該可視化：正向模式、反向模式或兩者同時顯示。
元件內(nèi)部場分析儀：FMM
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摘要
Field Inside Component Analyzer: FMM使用戶能夠分析電磁場在微納米結(jié)構(gòu)內(nèi)部的分布。為此，任意周期結(jié)構(gòu)(包括透射和反射、介質(zhì)或金屬光柵)內(nèi)的場通過應用傅里葉模態(tài)方法/嚴格耦合波分析法(FMM/RCWA)來計算。還可以指定場的哪一部分應該可視化:前向傳播的場、后向傳播的場或兩者都要可視化。
尋找元件內(nèi)部場分析儀:FMM
元件內(nèi)部場分析儀:FMM是光柵光學設置的專用功能，可提供光柵結(jié)構(gòu)內(nèi)部電磁場的可視化。
評估模式
為了更容易地區(qū)分入射場、反射場和透射場，可以只計算前向或后向傳播模式，或兩者的結(jié)合。
前向傳播模式 后向傳播模式 前向和后向傳播模式
評估區(qū)域
光柵類型
元件內(nèi)部場分析儀可以對任意形狀的光柵結(jié)構(gòu)進行分析。這里有幾個例子。
光柵表面采樣
光柵表面采樣
對光柵結(jié)構(gòu)進行充分的采樣意味著采樣效應不應明顯地影響產(chǎn)生的場。例如，如果RCWA層分解太粗糙，則可能會由于剖面中的大采樣間隔而產(chǎn)生額外的影響。
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摘要
Field Inside Component Analyzer: FMM使用戶能夠分析電磁場在微納米結(jié)構(gòu)內(nèi)部的分布。為此，任意周期結(jié)構(gòu)(包括透射和反射、介質(zhì)或金屬光柵)內(nèi)的場通過應用傅里葉模態(tài)方法/嚴格耦合波分析法(FMM/RCWA)來計算。還可以指定場的哪一部分應該可視化:前向傳播的場、后向傳播的場或兩者都要可視化。
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元件內(nèi)部場分析儀:FMM是光柵光學設置的專用功能，可提供光柵結(jié)構(gòu)內(nèi)部電磁場的可視化。
評估模式
為了更容易地區(qū)分入射場、反射場和透射場，可以只計算前向或后向傳播模式，或兩者的結(jié)合。
前向傳播模式 后向傳播模式 前向和后向傳播模式
評估區(qū)域 光柵類型 元件內(nèi)部場分析儀可以對任意形狀的光柵結(jié)構(gòu)進行分析。這里有幾個例子。
光柵表面采樣
光柵表面采樣 對光柵結(jié)構(gòu)進行充分的采樣意味著采樣效應不應明顯地影響產(chǎn)生的場。例如，如果RCWA層分解太粗糙，則可能會由于剖面中的大采樣間隔而產(chǎn)生額外的影響。
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Field Inside Component Analyzer: FMM使用戶能夠分析電磁場在微納米結(jié)構(gòu)內(nèi)部的分布。為此，任意周期結(jié)構(gòu)(包括透射和反射、介質(zhì)或金屬光柵)內(nèi)的場通過應用傅里葉模態(tài)方法/嚴格耦合波分析法(FMM/RCWA)來計算。還可以指定場的哪一部分應該可視化:前向傳播的場、后向傳播的場或兩者都要可視化。
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評估模式
為了更容易地區(qū)分入射場、反射場和透射場，可以只計算前向或后向傳播模式，或兩者的結(jié)合。
前向傳播模式 后向傳播模式 前向和后向傳播模式
評估區(qū)域
光柵類型
元件內(nèi)部場分析儀可以對任意形狀的光柵結(jié)構(gòu)進行分析。這里有幾個例子。
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Field Inside Component Analyzer: FMM使用戶能夠分析電磁場在微納米結(jié)構(gòu)內(nèi)部的分布。為此，任意周期結(jié)構(gòu)(包括透射和反射、介質(zhì)或金屬光柵)內(nèi)的場通過應用傅里葉模態(tài)方法/嚴格耦合波分析法(FMM/RCWA)來計算。還可以指定場的哪一部分應該可視化:前向傳播的場、后向傳播的場或兩者都要可視化。
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評估模式
為了更容易地區(qū)分入射場、反射場和透射場，可以只計算前向或后向傳播模式，或兩者的結(jié)合。
前向傳播模式 后向傳播模式 前向和后向傳播模式
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光柵表面采樣
光柵表面采樣
對光柵結(jié)構(gòu)進行充分的采樣意味著采樣效應不應明顯地影響產(chǎn)生的場。例如，如果RCWA層分解太粗糙，則可能會由于剖面中的大采樣間隔而產(chǎn)生額外的影響。
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元件內(nèi)部場分析儀：FMM
用于二維光柵的元件內(nèi)部場分析器
元件內(nèi)部場分析儀：FMM
隨著VirtualLab Fusion版本2023.2的最新發(fā)布，添加了許多新的有用工具。但新奇之處還不止于此：我們還借此機會升級了一些以前存在的功能。我們將焦點放在了元件內(nèi)部場分析儀：FMM上，這是一種允許用戶可視化和研究微結(jié)構(gòu)和納米結(jié)構(gòu)內(nèi)部場分布的工具。分析器現(xiàn)在還可以分析2D周期性結(jié)構(gòu)。
[NEWSLETTER] 用于二維光柵的元件內(nèi)部場分析器
我們將焦點放在了元件內(nèi)部場分析儀：FMM上，這是一種允許用戶可視化和研究微結(jié)構(gòu)和納米結(jié)構(gòu)內(nèi)部場分布的工具。分析器現(xiàn)在還可以分析2D周期性結(jié)構(gòu)。
元件內(nèi)部場分析儀：FMM
這個例子演示了如何計算1D或2D周期性微米或納米結(jié)構(gòu)內(nèi)部的電磁場分布。
抗反射蛾眼結(jié)構(gòu)的嚴格分析與設計
利用傅立葉模態(tài)方法和VirtualLab Fusion中的參數(shù)優(yōu)化，我們展示了蛾眼啟發(fā)的抗反射結(jié)構(gòu)的分析和設計。
用于二維光柵的元件內(nèi)部場分析器
我們將焦點放在了元件內(nèi)部場分析儀：FMM上，這是一種允許用戶可視化和研究微結(jié)構(gòu)和納米結(jié)構(gòu)內(nèi)部場分布的工具。分析器現(xiàn)在還可以分析2D周期性結(jié)構(gòu)。
元件內(nèi)部場分析儀：FMM
這個例子演示了如何計算1D或2D周期性微米或納米結(jié)構(gòu)內(nèi)部的電磁場分布。
抗反射蛾眼結(jié)構(gòu)的嚴格分析與設計
利用傅立葉模態(tài)方法和VirtualLab Fusion中的參數(shù)優(yōu)化，我們展示了蛾眼啟發(fā)的抗反射結(jié)構(gòu)的分析和設計。
[VirtualLab] 光柵內(nèi)部光場分析器
摘要
組件內(nèi)部光場分析器： FMM使用戶能夠研究微觀和納米結(jié)構(gòu)內(nèi)的電磁場分布。為此，通過應用傅里葉模態(tài)法/嚴格耦合波分析（FMM/RCWA）計算任意周期結(jié)構(gòu)，包括透射和反射光柵、介電或金屬光柵。也可以指定領域的哪一部分應該可視化：正向模式，反向模式，或兩者結(jié)合。
尋找組件內(nèi)部光場分析器： FMM
組件內(nèi)部光場分析器： FMM是光柵光學設置的專用功能，它提供了光柵結(jié)構(gòu)內(nèi)部電磁場的可視化。
評估模式
評估區(qū)域
光柵類型
光柵表面的采樣
光柵表面的采樣
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展開 [案例分析]基于Fluent 14.5離心泵內(nèi)部流場數(shù)值模擬教程
應用CFD技術(shù)，通過計算機對水泵內(nèi)部流場進行虛擬試驗，可以快速獲得外特性曲線，并且能夠更好的在設計階段預測泵內(nèi)部流動所產(chǎn)生的漩渦、二次流、邊界分離、喘振、汽蝕等不良現(xiàn)象，通過改進以提高產(chǎn)品可靠性。
本教程采用IS80-65-125型水泵的水力模型，通過具體步驟希望廣大同行能快速掌握運用Fluent對水泵進行CFD模擬的步驟方法。
二、建模
采用Creo 2.0 M020（Peo/Engineer）進行建模。本次教程不考慮葉輪前后蓋板與泵腔間的液體（事實證明對實際結(jié)果有一定影響，為了教程方便因此不予考慮，大家可以在實際工作中加入對前后腔體液體），建模只考慮進口管部分、葉輪旋轉(zhuǎn)區(qū)域部分、蝸殼部分。對于出口管，可以根據(jù)模型的特征進行判別，本次模擬是由于出口管路對實際模擬結(jié)果影響很小，不存在尺寸急變等特征，因此去掉了出口管段，以減少網(wǎng)格數(shù)量。建模如圖所示：
圖1 建立流道模型
三、網(wǎng)格劃分
建模完成后，導出*.x_t（或其他格式）格式，導入網(wǎng)格劃分軟件中進行網(wǎng)格劃分。網(wǎng)格劃分軟件有很多，各有各的優(yōu)勢，主要采用自己熟練的一種即可。本次教程采用ICEM進行網(wǎng)格劃分。進口段為直錐型結(jié)構(gòu)，采用六面體網(wǎng)格。葉輪和蝸殼部分采用四面體非結(jié)構(gòu)網(wǎng)格（也可以采用六面體網(wǎng)格，劃分起來比較麻煩）。對于工程應用，可以采用不劃分邊界層網(wǎng)格，劃分邊界層網(wǎng)格比較費時間，生成的網(wǎng)格數(shù)量也很高，但是從模擬的外特性曲線來看，差別不是很大，但是對于研究邊界層流動對性能的影響，就必須劃分邊界層，對于采用有些壁面條件，也必須劃分邊界層（該部分查看其它教程）。
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