不知火舞的被虐|伊人天伊人天天综合网|博洛尼亚天气|任你懆这里只有精品4|久久美日韩精品久久|掌中之物漫画免费阅读观看|0丨d老妇

光學顯微系統(tǒng)的案例

奧林巴斯光學顯微鏡手動顯微系統(tǒng) BX43
奧林巴斯BX43顯微系統(tǒng)是您進行高質(zhì)量微觀世界探索的理想伙伴,它將先進的光學技術(shù)與人性化設(shè)計完美結(jié)合,為用戶提供了一個既經(jīng)濟又解決方案。
共聚焦、光學顯微鏡與測量顯微鏡的區(qū)分
4、非破壞性測量:作為一種光學技術(shù),共聚焦顯微鏡允許在不接觸或不破壞樣品的情況下進行測量。 5、軟件分析工具:現(xiàn)代共聚焦顯微鏡通常配備有專門的軟件,可以進行各種測量和分析,如距離、體積、形狀和紋理分析。 6、適用于多種材料:共聚焦顯微鏡可以用于測量各種不同類型的材料,包括金屬、塑料和半導(dǎo)體材料。 共聚焦、光學顯微鏡與測量顯微鏡的區(qū)別 “共聚焦顯微鏡”、“測量顯微鏡”和“光學顯微鏡”這三個名稱描述的是顯微鏡技術(shù)及其應(yīng)用的不同方面。 光學顯微鏡:這是一類利用光學原理成像的顯微鏡,通過透鏡系統(tǒng)放大樣品的圖像。光學顯微鏡是顯微鏡的基礎(chǔ)類別,包括了傳統(tǒng)的明場、暗場、相差顯微鏡等,它們主要依賴于可見光來進行樣品的觀察和成像。 共聚焦顯微鏡:共聚焦顯微鏡是光學顯微鏡的一個子類別,它使用一種特殊的成像技術(shù),通過空間選擇性地只收集樣品焦平面上的光,從而獲得比傳統(tǒng)光學顯微鏡更高的分辨率和更清晰的圖像。共聚焦顯微鏡能夠進行二維和三維成像,是光學顯微鏡技術(shù)中較為先進的一種。 測量顯微鏡:這是一種用途上的分類,指的是用于精確測量樣品尺寸、形狀、表面粗糙度等物理特性的顯微鏡。測量顯微鏡可以是光學顯微鏡,也可以是電子顯微鏡或其他類型的顯微鏡,關(guān)鍵在于它們配備了用于測量的工具和功能。共聚焦顯微鏡因其高精度的三維成像能力,常被用作一種高級的測量顯微鏡。
展開
奧林巴斯光學顯微鏡體視顯微
例如,SZX16提供了高達230倍的放大倍率,適用于從整個生物體到單個細胞結(jié)構(gòu)的成像;而SZX7則是一款經(jīng)濟高效的系統(tǒng),專為進行舒適的高質(zhì)量生命科學成像而設(shè)計。 </div><div contenteditable="false" width="100%"> SZX16:這款研究級體視顯微鏡具有大變焦比率(16.4:1),可在采用1倍物鏡時實現(xiàn)7倍至115倍的放大倍率,并且使用復(fù)消色差光學器件減少色差模糊,提供清晰的細節(jié)觀察。 </div><div contenteditable="false" width="100%"> SZX10:作為一款性價比高的系統(tǒng),SZX10適合常規(guī)研究,擁有高達0.2的NA和10:1變倍比,能夠呈現(xiàn)自然的立體和色彩表現(xiàn)方式。 </div><div contenteditable="false" width="100%"> SZX7:專為經(jīng)濟高效的高質(zhì)量生命科學成像設(shè)計,SZX7具有7:1的大變焦比率,在采用1倍物鏡時可實現(xiàn)8倍至56倍的放大范圍。 </div><div contenteditable="false" width="100%"> SZ61/SZ51:這些小巧的變焦體視顯微鏡針對舒適的常規(guī)研究進行了優(yōu)化,具有良好的圖像平面度和格里諾光學系統(tǒng)。 </div><div contenteditable="false" width="100%"> 靈活的應(yīng)用場景 </div><div contenteditable="false" width="100%"> 體視顯微鏡使用兩個獨立的光路,為用戶提供樣品的三維視圖,非常適合用于觀察較厚樣品如卵或胚胎等,感知其深度和尺寸。此外,它們廣泛應(yīng)用于生命科學研究中,如昆蟲或植物的觀察,以及生物解剖,因此也被稱為解剖顯微鏡。
展開
SZ系列奧林巴斯光學顯微
<p>奧林巴斯SZ系列光學顯微鏡融合先進光學系統(tǒng)與人性化結(jié)構(gòu)設(shè)計,專為工業(yè)檢測、精密制造及材料分析等場景打造高效視覺平臺。該系列以寬變倍比、高數(shù)值孔徑(NA)和卓越成像質(zhì)量為核心優(yōu)勢,支持從宏觀輪廓到微觀細節(jié)的無縫連續(xù)觀察,顯著提升圖像精度與操作效率。
光學顯微系統(tǒng)圖1
BX3奧林巴斯光學顯微
<p>奧林巴斯BX3系列正置顯微鏡融合先進光學技術(shù)與精密機械設(shè)計,為高精度微觀觀測任務(wù)構(gòu)建了穩(wěn)定可靠的平臺。該系列產(chǎn)品憑借卓越的成像質(zhì)量、靈活的配置組合以及優(yōu)化的人機工程結(jié)構(gòu),在工業(yè)檢測與材料分析領(lǐng)域展現(xiàn)出突出性能。</p><p><br></p><p>BX3系列搭載高精度光學組件,確保圖像具備出色的分辨率與對比度表現(xiàn)。標配真彩色LED照明系統(tǒng)不僅實現(xiàn)精準色彩還原,同時顯著降低熱輻射對樣品的干擾,保障長時間連續(xù)觀測下的系統(tǒng)穩(wěn)定性。在操作層面,部分型號如BX46配備多向可調(diào)觀察筒,支持傾斜、伸縮及升降調(diào)節(jié),有效緩解長時間作業(yè)帶來的疲勞感,并適配不同用戶的操作習慣。
展開
工業(yè)奧林巴斯光學顯微鏡GX53
GX53倒置顯微鏡專為工業(yè)材料檢測而設(shè)計,憑借卓越的光學性能與高度模塊化架構(gòu),顯著提升對大尺寸、厚截面樣品的觀測效率與成像質(zhì)量。該系統(tǒng)融合先進成像技術(shù)與智能分析軟件,廣泛適用于鋼鐵、汽車、電子等制造領(lǐng)域的精密檢測任務(wù)。 奧林巴斯光學顯微鏡:https://industrial.evidentscientific.com.cn/zh/microscope/opt/ 產(chǎn)品鏈接:https://industrial.evidentscientific.com.cn/zh/microscope/gx53/ ? 在光學成像方面,GX53搭載高穩(wěn)定性白光LED光源,確保長時間工作下色溫一致,避免因光源波動影響圖像再現(xiàn)性。系統(tǒng)引入波前像差控制與圖像陰影校正算法,有效抑制光學畸變,實現(xiàn)高對比度、細節(jié)豐富的清晰成像。針對表面形貌復(fù)雜的工件,其全聚焦圖像合成功能可自動采集多個焦平面數(shù)據(jù),并無縫融合生成整體清晰的全景視圖。此外,系統(tǒng)支持高動態(tài)范圍(HDR)成像,同步保留高亮與暗部區(qū)域細節(jié),克服傳統(tǒng)單次曝光中信息丟失的問題。 設(shè)備配備編碼式物鏡轉(zhuǎn)換器,結(jié)合PRECiV智能圖像分析軟件,實現(xiàn)從圖像采集、參數(shù)測量到報告生成的全流程自動化。用戶可快速拼接大視野全景圖像,并利用內(nèi)置工具完成結(jié)構(gòu)識別、幾何尺寸測量及數(shù)據(jù)歸檔。軟件界面簡潔直觀,大幅降低操作門檻,使經(jīng)驗較少的技術(shù)人員也能高效執(zhí)行復(fù)雜分析任務(wù)。系統(tǒng)還支持顯微鏡配置參數(shù)一鍵復(fù)位,保障重復(fù)檢測的一致性與可靠性。 得益于模塊化設(shè)計理念,GX53可根據(jù)不同產(chǎn)線或檢測需求靈活選配組件,構(gòu)建定制化解決方案。無論是日常質(zhì)量控制還是深度材料表征,該平臺均提供穩(wěn)定、精準且可擴展的技術(shù)支撐。通過硬件與軟件的深度協(xié)同,GX53不僅優(yōu)化了工業(yè)顯微檢測流程,更推動該領(lǐng)域向高效化、標準化方向持續(xù)演進。
展開
工業(yè)奧林巴斯光學顯微鏡BX53M
BX53M不僅繼承了傳統(tǒng)光學顯微技術(shù)的可靠性,更融合現(xiàn)代數(shù)字成像與智能控制理念,為工業(yè)質(zhì)量管控、失效分析及新材料開發(fā)提供精準、高效且高度可定制的顯微解決方案。
工業(yè)奧林巴斯光學顯微鏡BX53-P
奧林巴斯BX53-P偏光顯微鏡專為高精度偏振光觀測而打造,集成UIS2無窮遠校正光學系統(tǒng)與低應(yīng)力光學元件,在工業(yè)材料分析領(lǐng)域展現(xiàn)出卓越性能。該系統(tǒng)適用于晶體結(jié)構(gòu)、復(fù)合材料、礦物薄片及其他各向異性樣品的觀察與定量評估。 奧林巴斯光學顯微鏡:https://industrial.evidentscientific.com.cn/zh/microscope/opt/ 產(chǎn)品鏈接:https://industrial.evidentscientific.com.cn/zh/microscope/bx53-p/ 其核心優(yōu)勢在于高度穩(wěn)定的光學路徑設(shè)計。即便在引入檢偏器、補償器或波片等偏振組件時,UIS2架構(gòu)仍能維持成像質(zhì)量無衰減,并有效消除附加元件引起的放大倍率偏差,從而保障從基礎(chǔ)觀測到復(fù)雜干涉圖分析的一致性與準確性。此外,系統(tǒng)兼容BX3系列中間附件及各類工業(yè)相機與數(shù)字成像設(shè)備,便于無縫集成至自動化檢測流程中。 BX53-P配備可調(diào)焦Bertrand透鏡,支持明場(orthoscopic)與錐光(conoscopic)模式快速切換,清晰呈現(xiàn)后焦面干涉圖樣。配合視場光闌優(yōu)化,可穩(wěn)定獲取高對比度錐光圖像,滿足對晶體取向及雙折射特性的精細解析需求。 為提升測量靈活性,系統(tǒng)提供六種補償器選項,延遲量程覆蓋0至20λ(約11000 nm)。其中,Berek與Senarmont補償器支持全視場內(nèi)連續(xù)調(diào)節(jié)延遲值,適用于高對比成像與精確雙折射量化;Brace-Koehler系列則針對微弱雙折射信號提供亞納米級靈敏度。搭配546 nm干涉濾光片使用,可進一步提升測量重復(fù)性與精度。 機械結(jié)構(gòu)方面,BX53-P搭載高精度旋轉(zhuǎn)載物臺,內(nèi)置45°定位卡位及中心調(diào)節(jié)機構(gòu),確保樣品旋轉(zhuǎn)過程平穩(wěn)精準。
展開
浙大:一種全新三維光學超分辨顯微
看見一個新世界探尋生命的原理 課題組提出了一種基于非共軸干涉系統(tǒng)的新型光學成像技術(shù)(系統(tǒng)圖如圖1所示)。該方法結(jié)合了結(jié)構(gòu)光照明顯微技術(shù)和多角度全內(nèi)反射照明顯微技術(shù),適用于任何熒光染料標記下的超分辨成像。 圖1 MAIM系統(tǒng)示意圖,該系統(tǒng)主要由兩套掃描振鏡構(gòu)成,用于控制照明光束的入射角和方位角,實現(xiàn)變角度倏失場照明下的結(jié)構(gòu)光成像。 常規(guī)光學顯微鏡的分辨率具有極限,在可見光照明區(qū)域,橫向極限分辨率是成像光波長的一半(250-300納米) , 軸向上500-600納米。而結(jié)構(gòu)光照明顯微技術(shù)只將橫向和軸向分辨率上提升了一倍。課題組巧妙地把多角度全內(nèi)反射照明引入到結(jié)構(gòu)光照明顯微技術(shù)中,實現(xiàn)了橫向分辨率~100納米,軸向分辨率~40納米的三維超分辨成像。 在成像速度提升方面,課題組通過利用變角度倏失場照明下的結(jié)構(gòu)光成像,并結(jié)合計算成像模型,使得三維成像速度大大提升。同時由于所需光劑量低,成像速度快,減少了熒光漂白,有利于長時程觀測。對活細胞內(nèi)線粒體和微管的成像結(jié)果如圖2所示,揭示了它們的三維動態(tài)變化。 圖2 活細胞內(nèi)線粒體(a,b)和微管(c,d)實驗結(jié)果。(a,c)橫向超分辨和衍射受限的低分辨成像結(jié)果;(b,d)三維超分辨動態(tài)成像結(jié)果(顏色代表軸向信息)。 負責人劉旭教授介紹,對細胞膜附近的細胞器進行三維快速超分辨成像,可以為亞細胞研究提供可能,揭示生命內(nèi)在規(guī)律。
展開
我國成功研制高端超分辨光學顯微
據(jù)新華社報道,由中國科學院蘇州生物醫(yī)學工程技術(shù)研究所承擔的國家重大科研裝備研制項目“超分辨顯微光學核心部件及系統(tǒng)研制”26日在蘇州高新區(qū)通過驗收,標志著我國已經(jīng)成功研制出高端超分辨光學顯微鏡。 驗收專家組組長、中科院高能物理所柴之芳院士認為,該項目的成功實施,改善了我國高端光學顯微鏡基本依賴進口的狀況,對滿足我國前沿基礎(chǔ)研究的定制化需求、提升創(chuàng)新能力,以及推動我國光學顯微鏡行業(yè)轉(zhuǎn)型升級具有重要意義。    在科學研究中,高/超分辨光學顯微鏡發(fā)揮著至關(guān)重要的作用,10納米至100納米尺度的超分辨顯微光學成像更是取得原創(chuàng)性研究成果的重要手段。超分辨光學成像(Super-resolution Optical Microscopy)是本世紀光學顯微成像領(lǐng)域最重大的突破,打破了光學顯微鏡的分辨率極限(換言之,超越了光學顯微鏡的分辨率極限,故被稱為超分辨光學成像)    歷時5年攻關(guān),中科院蘇州醫(yī)工所科研人員突破大數(shù)值孔徑物鏡、特種光源、新型納米熒光增強試劑、系統(tǒng)集成與檢測等關(guān)鍵技術(shù);研制出激光掃描共聚焦顯微鏡、雙光子顯微鏡、受激發(fā)射損耗(STED)超分辨顯微鏡、雙光子-STED顯微鏡等高端光學顯微鏡整機;建成了高端顯微光學加工、裝調(diào)、檢測以及顯微鏡整機技術(shù)集成工程化平臺。 據(jù)了解,項目組發(fā)表相關(guān)論文61篇,授權(quán)發(fā)明專利35項,已授權(quán)實用新型專利56項,培養(yǎng)了一支集光學、機械、電子、計算機、軟件、材料等領(lǐng)域的超分辨顯微光學技術(shù)研發(fā)與工程化開發(fā)團隊,為我國高端光學顯微鏡的發(fā)展提供了系統(tǒng)解決方案。中科院蘇州醫(yī)工所所長唐玉國介紹,該所研制的超分辨顯微鏡或核心部件已在美國、德國、以色列及國內(nèi)多家研究機構(gòu)投入使用并取得部分成果。
展開
共聚焦顯微鏡在光學膜片表面微結(jié)構(gòu)測量中的應(yīng)用
液晶面板消費需求的不斷增長帶動了上游背光顯示模組和作為模組核心材料光學膜片的大量投產(chǎn)。 光學膜片作為背光顯示模組的核心材料,其對光線的匯聚效果決定著背光模組的效能,進而直接影響著液晶面板的顯像效果。而光學膜片對光線的匯聚效果則是由分布在其表面的陣列微結(jié)構(gòu)的輪廓尺寸所決定,因而需要對微結(jié)構(gòu)的輪廓尺寸參數(shù)進行檢測與管控,以滿足設(shè)計要求和確保最終液晶面板有著良好的顯像效果。 光學膜片 光學膜片工件具有尺寸大、輕薄的特點,其重心易受空氣流動而產(chǎn)生抖動,其表面呈透明反射率低的特征,且微結(jié)構(gòu)有微棱鏡結(jié)構(gòu)、微透鏡結(jié)構(gòu)和金字塔結(jié)構(gòu)等多種類型,均具備較大的傾角特征,整體輪廓尺寸又在微米量級因而精度要求到亞微米級。針對具有四個測量難點的光學膜片檢測需求,在微納級檢測儀器領(lǐng)域面臨著精度夠的角度測量能力不足、角度測量能力夠的精度無法滿足要求的窘境。 共聚焦顯微鏡搭配50×、100×高數(shù)值孔徑的APO復(fù)消色差物鏡。在測量時由于其基于鏡頭焦深的原理不會受到樣件本身輕微抖動的影響,同時高倍APO物鏡所具有的大角度測量能力搭配儀器自身納米級的掃描分辨率,能夠輕松實現(xiàn)透明表面微結(jié)構(gòu)的3D圖像重建和輪廓尺寸的高精度測量,在下述視頻中可直觀的了解光學膜片表面微結(jié)構(gòu)的測量過程。 中圖儀器共聚焦顯微鏡能夠?qū)?em>光學膜表面微結(jié)構(gòu)實現(xiàn)快速自動化測量,并提供高度、寬度和角度等一系列輪廓尺寸參數(shù)對表面質(zhì)量進行表征,幫助客戶實現(xiàn)光學膜片表面質(zhì)量的檢測與管控。
展開
光學顯微系統(tǒng)圖2
SYNOPSYS 光學設(shè)計軟件課程五十一:10倍顯微目鏡
顯微目鏡是顯微鏡的一個重要組件,它通過放大顯微物鏡產(chǎn)生的實像,使觀察者能夠清晰地觀察到樣本的細節(jié)。目鏡通常由多個透鏡組成,具有較大的視場和視角放大率。雖然現(xiàn)在有一些電子目鏡可以用于觀察和拍攝顯微鏡圖像,但目鏡仍然是不可替代的。下面給出一個10倍顯微目鏡設(shè)計的例子。 本課將給出一個學習例子: 1.波段:可見光 2.放大率為10 3.視場角為40° 4.F數(shù)為1 5.畸變小于5% 顯微目鏡放大率公式為250/f'=10,即可得出焦距f'=25mm 由公式F=f'/D,即可得出D=25mm 首先利用 SYNOPSYS 的 DSEARCH 功能搜索初始結(jié)構(gòu),下面是對 DSEARCH 宏的輸入: 評論留言聯(lián)系工作人員獲取代碼 運行宏文件,我們得到了一個比較合適的初始結(jié)構(gòu)。 該程序創(chuàng)建了一個優(yōu)化宏文件并將其加載到編輯器窗口中。在這里,您可以看到程序生成的目標以及 DSEARCH 輸入中給出的特殊目標。 評論留言聯(lián)系工作人員獲取代碼 使用 DSEARCH 宏生成的優(yōu)化宏進行優(yōu)化,進行模擬退火(50,2,50) 命令窗口輸入 SPEC 焦距為25.0024mm,F(xiàn)數(shù)為1.0001,均已滿足要求。 命令窗口輸入 MRG ,插入真實玻璃 最終結(jié)果 上述鏡頭數(shù)據(jù)列表均滿足技術(shù)指標 查看畸變圖,在像質(zhì)分析中,選擇像差畸變,顏色為 M,運行 DIS 我們有了一個非常好的10倍顯微目鏡。 很高興您選擇 SYNOPSYS 來設(shè)計您的鏡頭,它可以快速的做出非常好的設(shè)計。
展開
SYNOPSYS 光學設(shè)計軟件課程四十九:一個40倍顯微物鏡
課程四十九: 一個40倍顯微物鏡 顯微鏡是實驗室、科研院所和學校常用的目視光學儀器。顯微鏡通常由照明系統(tǒng)、成像系統(tǒng)和探測器系統(tǒng)組成。成像系統(tǒng)主要由顯微物鏡、目鏡和轉(zhuǎn)像棱鏡構(gòu)成。下面給出一個 40 倍顯微物鏡設(shè)計的例子。 本課將給出一個學習例子: 1.鏡片數(shù)8片,不使用非球面 2.視場角為25° 3.數(shù)值孔徑NA=0.55 4.波長為VIS 5.總長小于46mm 6.蓋玻片0.17mm 7.工作距越長越好,下限為2.2mm(鏡片到蓋玻片的最近距離) 首先,根據(jù)技術(shù)指標計算鏡頭的外形尺寸: 1.物鏡機械筒長根據(jù)國家標準GB/T22057.1-2008規(guī)定,為160mm 2.焦距f=160/40=4mm 3.F數(shù)F#=1/(2*NA)=0.91 4.YMP1=0.5*f/F#=2.2 設(shè)計時倒置設(shè)計,物鏡為目鏡所在位置,像面為蓋玻片底部待觀察物,依次后焦為0。 下面是對 DSEARCH 的輸入: 【評論留言聯(lián)系工作人員獲取代碼】 運行宏文件,我們得到了一個比較合適的初始結(jié)構(gòu)。 該程序創(chuàng)建了一個優(yōu)化宏文件并將其加載到編輯器窗口中。在這里,您可以看到程序生成的目標以及 DSEARCH輸入中給出的特殊目標。 【評論留言聯(lián)系工作人員獲取代碼】 命令窗口輸入 SPEC 焦距為4.0098mm,F(xiàn)數(shù)為0.9033,總長26.8492mm<46mm,放大率為-0.02484,由于倒置設(shè)計,實際放大率為1/0.02484=40.25。 命令窗口輸入TH 16 ? ,查看工作距離 工作距離為2.36930345mm>2.2mm。
展開
微觀特征輪廓尺寸測量:光學3D輪廓儀、共焦顯微鏡與臺階儀的應(yīng)用
隨著科技進步,顯微測量儀器以滿足日益增長的微觀尺寸測量需求而不斷發(fā)展進步。多種高精度測量儀器被用于微觀尺寸的測量,其中包括光學3D表面輪廓儀(白光干涉儀)、共聚焦顯微鏡和臺階儀。有效評估材料表面的微觀結(jié)構(gòu)和形貌,從而指導(dǎo)生產(chǎn)過程、優(yōu)化產(chǎn)品性能。 光學3D表面輪廓儀(白光干涉儀) 光學3D表面輪廓儀是一種利用白光干涉原理進行非接觸式測量的高精度儀器。它通過分析反射光的干涉模式來重建表面的三維形貌。 非接觸無損測量,超高縱向分辨率,測量從光滑到粗糙等各種精細器件表面。測量分析樣品表面形貌的關(guān)鍵參數(shù)和尺寸,典型結(jié)果包括: 表面形貌(粗糙度,平面度,平行度,臺階高度,錐角等等); 幾何特征(關(guān)鍵孔徑尺寸,曲率半徑,特征區(qū)域的面積和體積,特征圖形的位置和數(shù)量等等)。 光學3D表面輪廓儀廣泛應(yīng)用于對器件表面質(zhì)量要求超高的光學加工、半導(dǎo)體制造與封裝、超精密加工、3C產(chǎn)業(yè)鏈等,同時在航空航天、國防工業(yè)以及科學研究等領(lǐng)域也存在普遍使用。它能以優(yōu)于納米級的分辨率,測試各類表面并自動聚焦測量工件獲取2D,3D表面粗糙度、輪廓等一百余項參數(shù)。 共聚焦顯微鏡 共聚焦顯微鏡以共軛共焦技術(shù)為基礎(chǔ)研制而成的用于樣品表面3D微觀形貌檢測的精密光學儀器。 非接觸式無損檢測方式,復(fù)雜結(jié)構(gòu)的大角度形貌測量能力,優(yōu)異的橫向分辨率,低反射率表面的適應(yīng)性強。
展開
光學3D表面輪廓儀超0.1nm縱向分辨能力,讓顯微形貌分毫畢現(xiàn)
在工業(yè)應(yīng)用中,光學3D表面輪廓儀超0.1nm的縱向分辨能力能夠高精度測量物體的表面形貌,可用于質(zhì)量控制、表面工程和納米制造等領(lǐng)域。 與其它表面形貌測量方法相比,SuperViewW系列光學3D表面輪廓儀達到納米級別的相移干涉法(PSI)和垂直掃描干涉法(VSI),具有快速、非接觸的優(yōu)點。它結(jié)合了跨尺度納米直驅(qū)技術(shù)、精密光學干涉成像技術(shù)、連續(xù)相移掃描技術(shù)三大獨特技術(shù),能夠濾除光源不均勻帶來的誤差,以超越0.1nm的縱向分辨能力,讓顯微形貌分毫畢現(xiàn);以優(yōu)于0.1%的臺階測量重復(fù)性,讓測量數(shù)據(jù)萬千如一。 在半導(dǎo)體行業(yè),SuperViewW系列光學3D表面輪廓儀可用于檢測芯片表面缺陷和顆粒,確保產(chǎn)品的質(zhì)量和性能,從而將不良產(chǎn)品阻截在市場之外;IC封裝中用于測量減薄之后的厚度、晶圓的粗糙度、激光切割后的槽深槽寬,測量導(dǎo)線框架的粗糙度;在分立器件封裝中,測量QA對打線深度,彈坑深度。 減薄工序中粗磨和細磨后的硅片表面3D圖像,用表面粗糙度Sa數(shù)值大小及多次測量數(shù)值的穩(wěn)定性來反饋加工質(zhì)量。在生產(chǎn)車間強噪聲環(huán)境中測量的減薄硅片,細磨硅片粗糙度集中在5nm附近,以25次測量數(shù)據(jù)計算重復(fù)性為0.046987nm,測量穩(wěn)定性良好。 彈坑深度測量 在涂層表面粗糙度和厚度的研究上,可以監(jiān)測納米級結(jié)構(gòu)的生長過程,為科學研究提供了更準確的測量手段。
展開