計算全息的案例
Light | 呼之欲出: 裸眼3D時代終要到來
圖2：兩階段神經網絡訓練管線
相較課題組前期的工作(Nature
2021, 591, 7849)，研究者引入了基于LDI和掩膜分層法(silhouette-mask layer-based method)計算的全新大規模全息圖數據集 MIT-CGH-4K-V2，以實現更為逼真的 3D 景深效果。研究者同時提出了基于第二階段無監督學習的深度雙相位編碼(deep double-phase method)，可以針對距離全息圖平面不同傳播距離的三維場景實現端到端高質量純相位全息圖生成。
圖3：（a）三維投影拍攝結果展示，相較前期工作，本文改善了前景背景邊界的失真，實現了更逼真的景深效果，（b）神經網絡同時實現全息投影像差矯正
研究結果顯示，該方法能夠穩健地處理非完美深度圖的真實采集輸入，且通過用戶閉環(user-in-the-loop)校準數據集，可以實現端到端生成光學像差矯正后的三維投影，已達到去除用戶佩戴矯正眼鏡的需求。
視頻1：基于神經輻射場（NeRF）輸出的RGB-D所計算拍攝的三維全息投影
本研究的開展，解決了兩大類傳統算法各自的痛點，提供了基于神經網絡的計算全息圖渲染訓練新思路以及更適合的三維輸入表征。該方法的穩健性使得由神經輻射場(NeRF)重建的帶有不完美深度圖的三維場景也能夠被轉化高質量的計算全息圖，從而極大地減小了真實采集輸入的獲取難度。此外針對像差修正的集成為計算全息在輕量級、可穿戴的便攜式全息近眼顯示的實現提供了技術可行性支持。
論文信息
Shi, L., Li, B. & Matusik, W. End-to-end learning of 3D phase-only holograms for holographic display.
展開 基于Matlab的三維相位型全息圖設計
全息技術的不斷發展使社會步入了一個發展迅速的新領域，由于三維顯示技術可以使觀察者更容易接受，其發展速度十分迅速，基于計算全息的三維全息圖的設計方法有很多種，其中層析法的設計最為流行，可以利用計算機模擬所需的三維物體，通過算法的不斷迭代優化計算出所需的全息圖。
如圖選用目標圖像為三維物體的小火車，對其進行三維相位型全息圖的設計，目標圖像分為強度圖與深度圖，深度圖是根據3Dmax軟件對其進行渲染得到的，因此深度圖也就代表了火車在空間的深度信息；強度圖也就代表了其強度信息。
（a）強度圖 （b）深度圖
圖1 目標圖像
定義再現距離為300mm，目標圖像的深度為30mm，因此總體深度范圍為300-330mm，根據灰度值對其進行劃分，總共劃分為256層。具體程序設計步驟為：
1.初始參數定義：波長、像元大小與尺寸、目標圖像、填充比例等。
2.利用“im2double”與“imread”函數讀入強度圖與深度圖，然后對深度圖進行處理，采用均值劃分將其按照目標圖像的深度信息對其進行深度劃分。
3.采用優化算法進行迭代設計計算，優化算法也就是所采用的的菲涅爾正逆衍射、傅里葉正逆衍射、角譜正逆衍射（即自定義函數“Fresnel”、“Fourier”、“Angular spectrum”）不斷優化全息面的復振幅分布。
4.對最終優化結果全息面的復振幅分布進行編碼，編碼采用我們自己定義的編碼方式。
5.采用“imwrite”函數進行保存全息圖。
計算得到的相位全息圖如下圖2所示。
圖2 相位全息圖
然后我們對其進行模擬再現，再現即選用上述迭代運算第3步的單次計算公式，導入設計好的計算全息圖，通過改變不同的再現距離即可。選用步長為5mm再現結果如下圖3所示。
展開 Ansys Zemax | 如何使用ZOS-API分析全息圖的結構條紋
自定義分析分為兩部分：第一部分是針對全息圖 1 和全息圖 2 表面的情況，第二部分是針對光學制造全息圖面的情況。前者使用純粹的幾何關系處理，但后者需要打開構造文件和執行真正考慮構造光學元件的光線追跡。
為了計算光學制造全息圖 1 或 2 表面形式的全息條紋圖，我們可以簡單地追跡從這兩種全息圖結構到全息圖表面的光線，并檢查它們的相對路徑長度，以找到干涉圖。在自定義分析中，這種計算類似于基于路徑長度差的干涉圖方法。
對于條紋密度，這種計算是基于全息圖表面上給定點上構造光向量（光線方向余弦）的差值和構造光束波長的差值。在自由空間中，干涉如下描述：
在該表達式中， Λ 為條紋間距（密度的倒數）， r o 和 r r 是構造光向量， f 是條紋面的正交方向。如圖所示，其中紅色虛線表示自由空間中的干涉條紋:
然而，OpticStudio 將全息圖建模為薄膜，代表除了在全息圖表面的平面上，在任何地方都不能有條紋。我們可以使用表面法線來考慮表面輪廓：
f' 處于薄膜平面內，所以 σ 是我們關心的值（即全息圖表面平面內的條紋間距），取這個值的倒數就可以得到條紋密度。需要注意的是，所有這些計算都是純局部的，因為確定在任何給定位置的條紋密度的計算是在整個全息圖表面的點網格上執行的。
計算全息圖 1 和全息圖 2 表面的全息條紋頻率
在使用全息圖 1 和 2 表面的情況下，構造光源被定義為 XYZ 坐標中的點，在構造點和全息圖表面之間的光線路徑中沒有光學干涉。
展開 ZEMAX | 如何使用ZOS-API分析全息圖的結構條紋
自定義分析分為兩部分：第一部分是針對全息圖 1 和全息圖 2 表面的情況，第二部分是針對光學制造全息圖面的情況。前者使用純粹的幾何關系處理，但后者需要打開構造文件和執行真正考慮構造光學元件的光線追跡。
為了計算光學制造全息圖 1 或 2 表面形式的全息條紋圖，我們可以簡單地追跡從這兩種全息圖結構到全息圖表面的光線，并檢查它們的相對路徑長度，以找到干涉圖。在自定義分析中，這種計算類似于基于路徑長度差的干涉圖方法。
對于條紋密度，這種計算是基于全息圖表面上給定點上構造光向量（光線方向余弦）的差值和構造光束波長的差值。在自由空間中，干涉如下描述：
在該表達式中，
Λ
為條紋間距（密度的倒數），
ro
和
rr
是構造光向量，
f
是條紋面的正交方向。如圖所示，其中紅色虛線表示自由空間中的干涉條紋:
然而，OpticStudio 將全息圖建模為薄膜，代表除了在全息圖表面的平面上，在任何地方都不能有條紋。我們可以使用表面法線來考慮表面輪廓：
f' 處于薄膜平面內，所以
σ
是我們關心的值（即全息圖表面平面內的條紋間距），取這個值的倒數就可以得到條紋密度。需要注意的是，所有這些計算都是純局部的，因為確定在任何給定位置的條紋密度的計算是在整個全息圖表面的點網格上執行的。
計算全息圖 1 和全息圖 2 表面的全息條紋頻率
在使用全息圖 1 和 2 表面的情況下，構造光源被定義為 XYZ 坐標中的點，在構造點和全息圖表面之間的光線路徑中沒有光學干涉。因此，對于全息圖表面上的每個點，我們可以通過純粹的幾何處理來計算兩個源點光線矢量的差，而不需要追跡光線。
展開 
GLAD中二元光學元件建模
以往人們多用計算全息法實現環形分布，但衍射效率低，難于推廣。近年來人們開始研究二元光學元件(BOE)在光束整形方面的作用。二元光學元件是在計算機制全息圖和相息圖研究發展的基礎上，利用計算機設計和微電子加工技術研制成的一種高效率的新型光學元件。由于它能靈活控制波前，因此在光束整形方面有著廣泛的應用前景。
前言
binary/surface 命令能夠將任意分布的光場轉化為二元光學器件的面形。
這些命令執行的是產生二元光學的光柵和透鏡，其二元光學表面可以由binary/surface 命令產生，并直接或者間接依靠 int2phase、int2waves、sfocus起著相位屏的作用。二元光學表面可以圖示為plot的強度項。
binary/surface kbeam level nlevels
binary/lens/residual ibeams rindex xrad yrad level nlevels
binary/lens/phasescreen ibeams rindex xrad yrad level nlevels
int2phase/two kbeam1 kbeam2 [2.*pi*(rindex-1)/lambda]
binary/lens/surface kbeam xrad yrad level nlevels
二元光學器件分為主階次和帶有幾個次階次的連續界面。在二元光學中，每個主階次上的次階次數目通常設置為2、4、8等。
展開 GLAD中二元光學元件建模
以往人們多用計算全息法實現環形分布，但衍射效率低，難于推廣。近年來人們開始研究二元光學元件(BOE)在光束整形方面的作用。二元光學元件是在計算機制全息圖和相息圖研究發展的基礎上，利用計算機設計和微電子加工技術研制成的一種高效率的新型光學元件。由于它能靈活控制波前，因此在光束整形方面有著廣泛的應用前景。
二元光學的優點——高衍射效率；獨特的色散性能；更多的設計自由度；寬廣的材料選擇；獨特的光學功能。
圖1表面進行劃分從而形成一個二元光學元件
二元光學器件分為主階次和帶有幾個次階次的連續界面。在二元光學中，每個主階次上的次階次數目通常設置為2、4、8等。GLAD中產生二元光學元件命令如下所示：
binary/lens/surface kbeam xrad yrad level nlevels
int2phase/two kbeam1 kbeam2 [2.*pi*(rindex-1)/lambda]
binary/lens/phasescreen ibeams rindex xrad yrad level nlevels
binary/lens/residual ibeams rindex xrad yrad level nlevels
binary/surface kbeam level nlevels
這些命令執行的是產生二元光學的光柵和透鏡，其二元光學表面可以由binary/surface 命令產生，并直接或者間接依靠 int2phase、int2waves、sfocus起著相位屏的作用。二元光學表面可以圖示為plot的強度項。
binary/surface 命令能夠將任意分布的光場轉化為二元光學器件的面形。
展開 GLAD中二元光學元件建模
以往人們多用計算全息法實現環形分布，但衍射效率低，難于推廣。近年來人們開始研究二元光學元件(BOE)在光束整形方面的作用。二元光學元件是在計算機制全息圖和相息圖研究發展的基礎上，利用計算機設計和微電子加工技術研制成的一種高效率的新型光學元件。由于它能靈活控制波前，因此在光束整形方面有著廣泛的應用前景。
二元光學的優點——高衍射效率；獨特的色散性能；更多的設計自由度；寬廣的材料選擇；獨特的光學功能。
圖1表面進行劃分從而形成一個二元光學元件
二元光學器件分為主階次和帶有幾個次階次的連續界面。在二元光學中，每個主階次上的次階次數目通常設置為2、4、8等。GLAD中產生二元光學元件命令如下所示：
binary/lens/surface kbeam xrad yrad level nlevels
int2phase/two kbeam1 kbeam2 [2.*pi*(rindex-1)/lambda]
binary/lens/phasescreen ibeams rindex xrad yrad level nlevels
binary/lens/residual ibeams rindex xrad yrad level nlevels
binary/surface kbeam level nlevels
這些命令執行的是產生二元光學的光柵和透鏡，其二元光學表面可以由binary/surface 命令產生，并直接或者間接依靠 int2phase、int2waves、sfocus起著相位屏的作用。二元光學表面可以圖示為plot的強度項。
binary/surface 命令能夠將任意分布的光場轉化為二元光學器件的面形。
展開 ZEMAX | 體全息衍射相關的二三事
03
與其他類型的 Flat Optics 相比，全息圖的主要局限性是什么？
答：與表面浮雕光柵 (SRG） 相比，我猜全息圖更受材料選擇的限制。雖然SRG也僅限于一些常見的材料，但是，SRG 可以是多層的。您可以組合多種材料，并實現所需的一些特殊性能。
04
在設置全息圖構造光時如何定義波前發散或收斂
答：如果兩個構造點對應的構造光束都是會聚或發散，則應選擇序列模式下的”全息面 1”，或者如果使用其他全息類型的面或對象時，將參數 Holo Type 設置為 1。
如果其中一束構造光是發散，而另一束為會聚，則應選擇序列模式下的"全息面2”，或者如果使用其他全息類型的面或對象時，將參數 Holo Type 設置為 2。
一個常見的疑問是，當Holo Type =1時，為什么會聚或發散屬于同一面型，或者當 Holo Type =2時，為什么我們不需要確切地指定哪個是發散的，哪個是會緊的。原因是基于建構系統的互易性，如果互換兩束光的狀態（會聚或發散），實際上構建的全息圖跟互換前是一致的。
05
這與計算全息圖的過程相同嗎？
答：盡管計算全息圖 （CGH） 名稱中有一個”全息圖"，但它實際上不是由我們的模型假設的兩個光束干涉制造的。
展開 AR｜奇景推LCoS相位調變新技術，搶進車用AR抬頭顯示器
來源 ：鉅亨網
奇景光電5月19
日宣布，最新的 LCoS 相位調變 (phase modulation) 技術，可應用在汽車擴增實境抬頭顯示器(AR HUD)，提供全息影像顯示，可直接投射在駕駛視線的擋風玻璃上。
奇景指出，以 LCoS 相位調變作為全息影像顯示的車用 AR 抬頭顯示器平臺，相較一般抬頭顯示器方案，不僅可達到更明亮、更高對比度的影像質量，而且還可以同時顯示多個焦點平面影像，并具有更低功耗、更低成本和更小外形尺寸等特點。
奇景以提供兩個焦點平面的車用 AR 抬頭顯示器為例，使用奇景 LCoS 相位調變技術的產品，可將汽車儀表板信息，直接投射在駕駛視線內的汽車擋風玻璃上，顯示在焦點 50 公分處的焦點平面。
此外，還可同時投射導航地圖或實時導航等訊息在擋風玻璃上，顯示在焦點約 10 公尺處的焦點平面上，將訊息融入實際環境中，讓駕駛能更自然及安全的接收來自車上各種駕駛輔助訊息。
AR 抬頭顯示器也搭配專有的計算機計算全息演算計算引擎，可演算實時 AR 融合訊息，以及進行影像失真調整，以適應不同的擋風玻璃曲率。
奇景光電執行長吳炳昌表示，AR 抬頭顯示器將成為汽車重要關鍵配備之一，奇景 LCoS 相位調變可在車用 AR 抬頭顯示器中達到多焦點全息顯示，并打破目前抬頭顯示器通用標準。
展開 衍射光學元件光束整形、分束和擴散
衍射光學工具箱使用強大的迭代傅里葉變換算法（IFTA）和參數優化可以用來優化：
? 衍射光學元件
? 衍射光束分束器
? 衍射擴散器
? 衍射和折射光束整形器
? 計算全息（CGH）
? 相位板
? 全息圖
被紅色和綠色激光照射的衍射線擴散器和環擴散器
衍射光學元件可以用包括聚焦透鏡，準直透鏡，光束擴展器和傅立葉透鏡來建模。光學模擬包括：
? 衍射
? 干涉
? 偏振
? 時間和空間相干度
? 強度
? 相位
? 像差
衍射光學元件可以用于各種光學系統來操縱激光，經典的應用包括：
? 材料處理
? 信息顯示
? 測量系統
? 自由空間通訊
? 汽車行業
? 軍事
? 光譜學
衍射光分束器產生的光斑 (由POG, Gera加工)
功能
衍射光學元件在您的激光系統中將會有以下功能：
? 控制衍射和干涉效應
? 客戶自定義激光光束分束后的每束光的功率
? 設計已確定特性的散射板
? 激光光束強度整形
? 使激光系統緊湊
? 產生任意的2D強度分布
? 使用IFTA快速優化成百上千個參數
一個衍射光分束器元件的一個周期的二元高度輪廓
衍射光分束器
衍射光束分束器可以將一束激光分成自定義數目的光束，每束光可以有自定義的功率和角度。光分束器一般和準直透鏡，聚焦透鏡，擴束器以及傅里葉透鏡一起使用。目標平面光束的尺寸一般由透鏡系統控制，而光束的位置和功率由衍射光束分束器控制。
展開 飛秒脈沖激光空間光場調控的微透鏡陣列制備技術進展
為了實現對多個焦點的位置和能量的準確控制，并考慮到計算的速度等問題
這里使用基于傅里葉全息的最優旋轉角算法（Optimal Rotation Angle Algorithm, ORA），其優勢在于僅通過正向傅里葉變換即可迭代得到較為理想的全息相位分布，且只需要較少的迭代次數。
圖 2（b）是預先設計的3×3共計9個不同聚焦光點的能量和位置示意圖，其中點與點之間的間隔為20μm，其相對能量數值從0.6均勻變化到1。
圖2（c）ORA全息算法計算得到其相應的全息相位分布
圖 2（d）焦平面的光場能量分布
利用ORA全息算法計算得到其相應的全息相位分布如圖2（c）所示，其中最大和最小數值分別對應于-π和+π。
隨后利用S-FFT衍射積分算法對計算得到的全息相位進行光場仿真，并得到其在焦平面的光場能量分布（圖 2（d）），計算結果與設計基本保持一致，證明ORA算法可以滿足并行加工的需求。
圖 3（a）和（b）微燒蝕坑陣列
在未移動樣品位置和未改變總的激光脈沖能量的前提下，單次單脈沖直接曝光即可在石英表面得到3×3的微燒蝕坑陣列，其形貌如圖 3（a）和（b）的SEM圖所示，驗證了使用這種全息調制的方式可以僅通過單次曝光即可實現多個不同點的并行燒蝕。
圖 3（c） 9個燒蝕微坑及截面數據
當經過20%的HF溶液刻蝕樣品40 min以后，9個燒蝕的微坑都具有圓形表面輪廓，其直徑也隨著燒蝕能量的增加而增加（圖 3（c））。
展開 
激光空間相干性調控 | 超表面全息偽影抑制的新策略
點擊藍字 關注我們
原文信息
原文標題：“Suppressing meta-holographic artifacts by laser coherence tuning（通過激光相干性調控抑制超表面全息偽影）”
第一作者：Yaniv Eliezer
通訊作者：Shumin Xiao、Qinghai Song、Hui Cao
01/超表面全息的偽影困境
全息技術憑借獨特的立體成像效果，展現出強烈的科技應用潛力，而超表面全息作為新型全息技術，可通過一片薄于紙張的器件實現大視場、高分辨率的立體成像，成為極具發展前景的“黑科技”。
然而，相干偽影的存在成為制約其性能提升的關鍵瓶頸，類似精密投影儀因光源與鏡頭瑕疵導致畫面出現雜亂波紋、噪點，嚴重降低成像質量，限制了超表面全息的實際應用。
超表面全息相干偽影的產生主要源于三個核心因素，具體如下：
?納米單元的近場耦合串擾
超表面由數萬計的納米柱（超原子，meta-atoms）構成，設計過程中通常假設單個納米柱獨立工作，但實際應用中，納米柱間距極小，會通過近場耦合產生“串擾”現象，導致納米柱實際光學相位響應偏離預設設計值，進而引發偽影。
?制造工藝的微尺度缺陷
超表面制備需在指甲蓋大小的芯片上加工數十納米粗細的納米柱，其加工難度堪比在頭發絲上刻字，不可避免地會出現加工瑕疵、表面粗糙及結構變形等問題，導致相位調制偏離設計目標，產生偽影缺陷。
?全息算法的先天不足
用于計算全息圖的GS（Gerchberg-Saxton）等經典算法，本身會在成像過程中引入相位奇點（類似圖像上的“漩渦”結構），進而形成暗斑或散斑，成為偽影產生的另一重要誘因。
展開 Zemax 發布新版 OpticStudio 以及 OpticsBuilder
Zemax OpticStudio 21.1
新版 OpticStudio 提供了新的衍射計算和兩個新的公差設置操作數
OpticStudio 21.1 中，在增強現實和抬頭顯示市場中有著重要作用的衍射光學相關功能得到了提升。這次更新還新增了公差操作數，幫助用戶更好的基于真實公差調整設計。
產品新特性
1、原生體全息以及衍射效率分析
這次發布為序列模式帶來了新的原生體全息和衍射效率分析工具，這在以前只能使用 DLL 才能實現。該功能考慮材料收縮和折射率偏移的影響，在序列模式下完全模擬體全息光柵。現在可以用 Kogelnik 方法計算厚全息的衍射效率，并模擬圖像。
2、新的翻滾公差操作數
OpticStudio 21.1 引入六個新的翻滾公差操作數: TRLX, TRLY, TRLR, TARX, TARR 和 TARR。這些是為仿真膠合元件公差而設計的：元件可以在光軸不對齊的情況下膠合，在接觸的表面之間形成翻滾。這些新的翻滾操作數將這種光軸不對齊建模為圍繞曲面曲率中心的旋轉。最小或最大滾動通過總指針跳動(TIR)或光學元件之間的翻滾角度進行量化。
3、新的徑向偏心公差操作數
兩個新的偏心操作數分別用于仿真元件和曲面的公差：TEDR 和 TSDR。這兩個操作數可以實現沿隨機徑向分配公差，對 OpticStudio 中現有的偏心操作數進行了擴展。建議使用這兩項操作數對圓形光學元件安裝以及圓形鏡筒進行建模，如傳統相機鏡頭或顯微鏡物鏡。
展開 面向大口徑超薄平面光學器件及應用：PB相位液晶光子技術
寬波段、大視角應用可行：液晶除了面內指向外，還擁有分子縱向扭曲自由度，通過設計多層扭曲結構，能夠實現寬波段、大視角應用的平面光學器件；
鑒于2010年以來液晶光配向材料和工藝的蓬勃發展，這種基于液晶光學幾何相位的平面光學元件在近年來受到科研學者和光學研發工程師的廣泛關注，產生大量的材料、工藝解決方案與終端產品，包括液晶光配向材料、圖形化液晶光配向工藝以及各類平面光學器件，如液晶偏振光柵、液晶平板透鏡、液晶渦旋波片、液晶艾里光模板和各類計算全息設計等。以下將以幾種特征液晶平面光學元件為例，以展示該類新型平面光學技術的優勢：
（1）可調液晶平面透鏡
圖4展示的是可調諧液晶平面透鏡，一種基于入射光的偏振態實現對光束會聚或發散的衍射光學元件。平板透鏡經過精密設計的連續變化的周期結構，使其具有無球差特性，經過有效孔徑的所有光線在徑向不同周期位置處發生衍射使得所有光線正好能聚到一點。這種由液晶材料制備的衍射薄膜，具有大尺寸有效光學口徑和動態電場調諧性。這種低成本/易于制造的材料和低壓/低功率電場控制與光學性能的強大性能相結合，為高級光學應用提供了設計套件。圖4中不同聚焦狀態之間的切換僅需要幾伏，并且通常在大約一毫秒內發生。
圖4 平面可調液晶平板透鏡
（2）偏振選擇衍射光柵
液晶聚合物光學薄膜最典型的一個應用便是聚合物薄膜偏振光柵（Polarization grating ，PG）（圖2b）。其作為一種“薄膜棱鏡”，同時具備高效偏振手性拆分和獨特的分束器的功能。PG可將入射光衍射成只有正負一級的兩個光束（無更高階衍射），而輸出光束具有相反的圓偏振態（圖5）。而衍射角由薄膜的設計液晶分子取向周期Λ決定。
展開 AR關鍵技術及其在航天航空領域中的應用
AR技術相比于VR技術在建立虛擬環境時對系統計算能力要求不同：AR技術是在真實環境的基礎上對信息進行擴充，而VR技術是對整個環境的虛擬再現。相比之下，VR技術對計算機系統圖形處理能力和其它能力的要求要比AR系統更為苛刻。
4.AR技術和VR技術適用的領域不同：AR技術是對現實環境的一種補充，利用附加信息增強用戶對現實的感官認識，其應用多在于起輔助作用的場合，例如工廠車間、旅游觀光、交通以及日常生活；而VR技術是再創一個虛擬的環境，強調用戶在虛擬環境中獲得相應的視覺、聽覺、觸覺等感官的沉浸，帶來真實的感官體驗，例如模擬駕駛、軍事仿真實驗等。
（三）AR成本拆解
AR主要由操作系統、處理器、光學組件、攝像頭和傳感器、存儲器幾部分構成，作為頭戴式設備，光學環節對于AR 眼鏡尤為重要，對顯示視野、分辨率、刷新率、延時、 眩暈、定位跟蹤精度等都提出了較高的要求。
以 Hololens 為例，其主要硬件是全息處理模塊、2 個光導透明全息透鏡、2 個 LCos微型投影以及 6 個攝像頭，其中光學環節(含透明全息透鏡和高清光引擎)與處理器的成本達到75%，是整機的核心。
（四）AR硬件類型
（五）VR/AR重要性
可能成為今后計算平臺的接口和終端技術的重要形式，對國家及社會的發展起著重要的推動作用。
1. 推動經濟快速發展。作為今后的計算平臺接口和終端技術，VR和AR技術有可能取代手機成為人們與信息世界交流的主要通道。
2. 推動生活方式演化。VR能夠提供前所未有的虛擬存在感和接近真實的虛擬社交，將推動人類生存方式演化的進程，對社會形態發展起到至關重要的作用。
3. 推動意識形態變革。具有更強的沉浸感和臨在感，能夠更直接地影響使用者的文化接納、觀念接納和意識形態接納。
推動工作模式進化。
展開 