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登錄ansys如何選擇圓環面的案例
workbench接觸面和目標面會有遮擋或者剛好貼合時如何方便的選擇或查看?
問題:在手動添加接觸或者查看的時候,有時候接觸面和目標面會有遮擋或者剛好貼合,不方便選擇或者查看,有時候需要分別隱藏一部分模型才能選擇目標面和接觸面。
這時候可以把模型以選擇中心位置拉開一點,就可以很直觀方便的去選擇你要選擇的面了。而且也很方便檢查接觸。如圖所示,把右上角explode factor后面的滾動條拉開一點,就變成右側的樣子,就可以直接選擇三個小圓柱的下底面了,不要再隱藏下面的長方體再去選擇。這個在模型復雜且接觸設置很多的時候對手動添加和查看是很直觀的,但是由于拉開的太遠會導致接觸對不上的情況需要注意。
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ansys_workbench_螺栓_預緊力不能選擇面
ANSYS單元類型該如何選擇。
ANSYS中單元類型很多,如何選擇正確的單元類型,是學習ANSYS必須要掌握的技巧。
單元類型的選擇,跟你要解決的問題本身密切相關。在選擇單元類型前,首先你要對問題本身有非常明確的認識,然后,對于每一種單元類型,每個節點有多少個自由度,它包含哪些特性,能夠在哪些條件下使用,在ANSYS的幫助文檔中都有非常詳細的描述,要結合自己的問題,對照幫助文檔里面的單元描述來選擇恰當的單元類型。
該選桿單元(Link)還是梁單元(Beam)?
這個比較容易理解。桿單元只能承受沿著桿件方向的拉力或者壓力,桿單元不能承受彎矩,這是桿單元的基本特點。梁單元則既可以承受拉,壓,還可以承受彎矩。如果你的結構中要承受彎矩,肯定不能選桿單元。
對于梁單元,常用的有beam3,beam4,beam188這三種,他們的區別在于:
1)beam3是2D的梁單元,只能解決2維的問題。
2)beam4是3D的梁單元,可以解決3維的空間梁問題。
3)beam188是3D梁單元,可以根據需要自定義梁的截面形狀。
對于薄壁結構,是選實體單元還是殼單元?
對于薄壁結構,最好是選用shell單元,shell單元可以減少計算量,如果你非要用實體單元,也是可以的,但是這樣計算量就大大增加了。而且,如果選實體單元,薄壁結構承受彎矩的時候,如果在厚度方向的單元層數太少,有時候計算結果誤差比較大,反而不如shell單元計算準確。
實際工程中常用的shell單元有shell63,shell93。shell63是四節點的shell單元(可以退化為三角形),shell93是帶中間節點的四邊形shell單元(可以退化為三角形),shell93單元由于帶有中間節點,計算精度比shell63更高,但是由于節點數目比shell63多,計算量會增大。
展開 Ansys Zemax | 如何對中間面進行優化
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Ansys Zemax | 如何建模離軸拋物面鏡
離軸拋物面反射鏡是光學工業中一種重要的設計類型。本文演示了如何根據制造商給出的規格設計一個離軸拋物面反射鏡,并演示如何使用主光線求解將像面中心與主光線路徑對齊。(聯系我們獲取文章附件)
簡介
離軸拋物面反射鏡的優點是光束通過反射到達像面途中將不會受到遮擋。使用 OpticStudio 可以很簡單地建模一個表面的任何離軸部分,不管其是否為拋物面。本教程將向您展示如何建模一個離軸拋物面反射鏡。這里所示的概念適用于任何偏心表面,并不局限于離軸拋物面反射鏡。
離軸拋物面鏡設計參數
我們將制作一個商用的離軸拋物面反射鏡。這個設計練習的目標是能夠使反射鏡在光軸(Z軸)上的任意一點繞X軸傾斜。反射鏡的規格如下:
離軸距離:150mm
焦距:1000mm
元件物理直徑:203mm
反射鏡背面的基底垂直于光軸。
如果您不熟悉任何在本教程中使用的步驟,請先參考 “如何使序列光學元件傾斜和偏心” 文章后,再嘗試本文內的詳細步驟。
輸入基礎幾何結構
設計開始時,我們將首先定義系統設置。在系統資源管理器中進行以下調整:
·設置 系統孔徑 (Aperture)…孔徑類型 (Aperture Type) :入瞳直徑 (Entrance Pupil Diameter) 和孔徑值 (Aperture Value) :100
·設置 單位 (Units) …鏡頭單位 (Lens Units):毫米 (Millimeters)
·設置 波長 (Wavelengths) …波長1 (Wavelength 1) : 0.550 um
接下來我們可以開始定義系統的幾何結構。在鏡頭數據編輯器中的光闌面后添加一個表面,然后在表面1-3上輸入以下參數。
展開 ANSYS的熱分析模塊如何選擇使用,太多了,不知道怎么選
以上來源于網絡總結,個人總結起來就一句話:
優化對流散熱用CFD,優化熱傳導用ANSYS Mechanical
ANSYS workbench如何施加局部載荷(印記面功能)
在金典版本的ANSYS中,我們可以直接施加集中力在節點上,在某個局部范圍內上,但是在ANSYS workbench中就沒有那么方便了,比如一個體或者面上,無法實現局部力作用。
但是在workbench中有一個功能可以實現,imprint face(就是傳說中的印記功能),在前面DM編輯中創建,隨便創建你想要的局部效果,然后在mechanical中將力局部施加在你創建的印記面上。
例如:
(1)創建一個長方體
在DM,創建一個長方體。
(2)創建一個加力印記面。
現在準備在該長方體的上面某個地方,創建一個施加集中力的地方。
首先選擇該長方體的上表面創建一個平面。
接著在該面(plane4)上創建一個圓形,這需要使用繪制草圖的方式。
并使用尺寸約束對該圓形定位,并確定圓的半徑,如果是集中力,自然小一點為好。
其尺寸如下
最后使用拉伸的方式拉伸該草圖,但是要注意在拉伸的細節視圖中所進行的設置。
此處,操作是imprint faces,就像蓋印章一樣,在這里蓋一個面而已。
結果如下
現在該表面生成了一個加力面,這就是前期*好的一個后期施加力的局部面。
(3)劃分網格。
自動生成劃分網格。
仔細觀察我們剛創建的加力面。
加入一個局部細分后,結果如下
這個網格并不理想。有更好的方式可以把網格劃分得很漂亮,但是,這不是我們的的重點,所以,自己在慢慢玩
(4)施加固定邊界條件。
固定左端面
(5)在加力面上施加集中力。
(6)計算一下
(7)看看效果
然而
對于空間實體而言,集中力很少只是施加在一個點上,比如金典ANSYS中施加集中力也不會只在一個節點上,比如一條線上的節點,或者多個節點,類似就是會有一個加力面的效果。
展開 ANSYS workbench關于如何選擇劃分網格的方式,各有什么特點?
四面體網格是最后的選擇。其中如果要忽略一些小細節,如倒角,小孔等,則使用patch independent算法;如果要要考慮一些小細節,則使用patch conforming算法。
至于自動網格劃分,是最傻瓜化的方式,一般對于初學者適用。
例如:
(1)用掃掠網格劃分。
對整個構件使用sweep方式劃分網格。(失敗)
該方法只能針對規則的形體(只有單一的源面和目標面)進行網格劃分。
(2)使用多域掃掠型網格劃分。
可見ANSYS把該構件自動分成了多個規則區域,而對每一個區域使用掃略網格劃分,得到了很規則的六面體網格。這是最合適的網格劃分方法。
(3)使用四面體網格劃分方法。
使用四面體網格劃分,且使用patch conforming算法。可見,該方式得到的網格都是四面體網格。且在倒角處網格比較細密。
使用四面體網格劃分,但是使用patch independent算法。忽略細節。此時得到的仍舊是四面體網格,但是倒角處并沒有特別處理
(4)使用自動網格劃分方法。
該方法實際上是在四面體網格和掃掠網格之間自動切換。當能夠掃掠時,就用掃掠網格劃分;當不能用掃掠網格劃分時,就用四面體。這里不能用掃掠網格,所以使用了四面體網格。
(5)使用六面體主導的網格劃分方法。
該方法在表面用六面體單元,而在內部也盡量用六面體單元,當無法用六面體單元時,就用四面體單元填充。由于四面體單元相對較差,所以它比較能夠保證表面的單元質量。
展開 Ansys Zemax | 如何在 OpticStudio 內對斜切端面光線進行建模
結論
本文介紹了建立斜切端面光纖耦合系統的三種不同方法。我們還介紹了一種從斜切光纖發射光束的方法。它討論了在像面上使用 Coordinate Break 表面和 Tilted 表面類型之間的區別。它演示了如何對斜切光纖端面進行建模,以及如何引入模態傾斜角來補償斜切。我們可以看到,通過適當的光纖對準補償,斜切光纖的耦合效率與使用正常端面光纖的耦合效率非常匹配。這三種方法都可以在 OpticStudio 中直接實現,選擇的方法將取決于用戶的應用和偏好。
Ansys Zemax | 如何在 OpticStudio 內對斜切端面光線進行建模
結論
本文介紹了建立斜切端面光纖耦合系統的三種不同方法。我們還介紹了一種從斜切光纖發射光束的方法。它討論了在像面上使用 Coordinate Break 表面和 Tilted 表面類型之間的區別。它演示了如何對斜切光纖端面進行建模,以及如何引入模態傾斜角來補償斜切。我們可以看到,通過適當的光纖對準補償,斜切光纖的耦合效率與使用正常端面光纖的耦合效率非常匹配。這三種方法都可以在 OpticStudio 中直接實現,選擇的方法將取決于用戶的應用和偏好。
Ansys Zemax | 如何使用 Binary2 面型設計衍射光學元件
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概述
這篇文章介紹了如何在 OpticStudio 中建立衍射光學表面以及如何使用 Binary2(二元面2)模擬衍射光學元件。本文使用的示例文件請聯系工作人員下載。
Binary2 面型
Zemax LLC 感謝 Optics1 公司的 Robert E.Fischer 先生授權使用其著作《Optical System Design》中的圖表。
在 OpticStudio 中,許多表面除了可以定義折射光焦度以外,還可以定義衍射光焦度。衍射光焦度與材料折射率和表面矢高無關,但可以改變光的相位。有關建立衍射光學表面的詳細信息,見文章“OpticStudio 建模衍射光學表面”。
Binary2 中的衍射光焦度會在光學表面的截面上引入連續的相位變化:
其中系數 Ai 的單位為弧度。
由于相位變化在表面的截面上是連續的,因此 Binary2 面型模擬的是一個理想的二元衍射元件,其二元面的臺階尺寸趨近于無窮小或小于光的波長。
通常來講,Binary2 面型模擬衍射光學元件的環形衍射區 ( Diffraction Zones) 的尺寸與該區域到表面頂點的徑向距離有關,如下圖所示。OpticStudio 可以自動計算每個環形衍射區的徑向坐標使相鄰區域的相位差為 2π。
Binary2 面型在固定徑向坐標處所引入的附加相位與波長無關。與波長相關的光程由下式給出:
下圖布局圖所示為 Binary2 的色差:
Binary2 消色差單透鏡
Binary2 面型經常用來矯正色差。在一個簡單的單透鏡中,長波長光的焦距相比短波長的光更長,如下圖(a)。
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