例如，對(duì)于超透鏡，仿真可以幫助研究人員檢查元原子的位置和大小，以對(duì)光通過(guò)不同布局的衍射進(jìn)行仿真。仿真可幫助設(shè)計(jì)人員分析由衍射光學(xué)元件調(diào)制時(shí)的場(chǎng)分布、遠(yuǎn)場(chǎng)方向圖和波前變化。 Ansys Lumerical套件、Ansys Speos軟件和Ansys Zemax OpticStudio軟件都可以對(duì)衍射光學(xué)元件進(jìn)行仿真。

此外，篩選器有助于通過(guò)不同顏色將這些單元可視化，以便確認(rèn)所有單元均已正確分割并準(zhǔn)備好進(jìn)行驗(yàn)證。 技巧2：使用集成式的載荷工具簡(jiǎn)化工況設(shè)置 SDC Verifier提供了一套載荷管理工具，可高效處理Ansys工作流程中的復(fù)雜載荷工況。處理各種環(huán)境、結(jié)構(gòu)或者運(yùn)行載荷時(shí)，這些工具都可以在定義和管理載荷場(chǎng)景時(shí)，減少工作量和出錯(cuò)的可能性。

尺寸分布： 支持對(duì)晶粒體積的對(duì)數(shù)正態(tài)分布（Log-normal）進(jìn)行精準(zhǔn)控制，模擬不同加工狀態(tài)下的組織。 空間排布： 通過(guò)調(diào)整點(diǎn)過(guò)程參數(shù)，控制晶粒的密集程度與均勻性。 實(shí)時(shí)可視化預(yù)覽： 網(wǎng)頁(yè)右側(cè)提供 3D 實(shí)時(shí)渲染，調(diào)整左側(cè)參數(shù)后，模型形態(tài)即刻更新，真正實(shí)現(xiàn)“所見(jiàn)即所得”。

軟件支持“實(shí)體渲染”及“模型截面”兩種不同的顯示模式。 在兩種顯示模式下均可進(jìn)行每種組分是否顯示、顯示范圍、顏色及不透明度的獨(dú)立調(diào)整。 在模型截面顯示模式下，可調(diào)整三個(gè)平面的截面是否顯示及截取的位置。

Ansys多年來(lái)一直使用最新的領(lǐng)先GPU來(lái)提供最佳性能，并使用NVIDIA RTX GPU來(lái)盡量提供領(lǐng)先的光線追跡仿真。 光線追跡仿真軟件 Ansys具有不同的軟件解決方案，可用于在不同光學(xué)組件上執(zhí)行不同級(jí)別的光線追跡。主要軟件解決方案有Ansys Zemax OpticStudio和Ansys Speos。

與金和銀不同，這些材料與現(xiàn)有CMOS組件兼容，并且在較高溫度下具有熱穩(wěn)定性。由于光子密度較高（相比于金或銀），這些材料也是有效的光吸收劑。 雙曲超材料開(kāi)辟了各種可能性，例如可提供先進(jìn)傳感功能的平面透鏡、無(wú)衍射成像、超靈敏光學(xué)顯微鏡、納米諧振器等。 共振納米結(jié)構(gòu) 共振納米結(jié)構(gòu)具有光-物質(zhì)相互作用所需的強(qiáng)度，電磁相互作用所需的高局域化，以及散射和吸收所需的大橫截面。

MicroLED制造面臨的設(shè)計(jì)挑戰(zhàn) MicroLED技術(shù)尚未成熟，設(shè)計(jì)人員可以在制造流程中采用許多不同的半導(dǎo)體制造方法。開(kāi)發(fā)人員在MicroLED設(shè)計(jì)中的一些關(guān)鍵考慮因素包括： 大規(guī)模像素陣列在宏觀層面的非相干發(fā)射。為了避免這種情況，設(shè)計(jì)人員可以使用濾光片、透鏡、顏色轉(zhuǎn)換層、散射結(jié)構(gòu)、偏光片和光柵等其他光學(xué)元件來(lái)改進(jìn)顯示器的顏色定義。 小尺寸LED具有更嚴(yán)格的公差要求。

Ansys Lumerical產(chǎn)品系列可幫助工程師進(jìn)行光學(xué)波導(dǎo)仿真，而Ansys HFSS高頻電磁仿真軟件則可用于射頻和微波仿真。仿真可以幫助工程師更好地設(shè)計(jì)波導(dǎo)，而無(wú)需進(jìn)行大量反復(fù)試驗(yàn)和原型制作。 以下是仿真軟件可實(shí)現(xiàn)的應(yīng)用示例： 設(shè)計(jì)不同類(lèi)型的波導(dǎo)，這些波導(dǎo)由不同材料制成，具有多種尺寸規(guī)格。

結(jié)果分析 3.1 LC分析 液晶指向矢分布（Voltage=7v） 二維截面提取 3.2光學(xué)分析 透過(guò)率圖 透過(guò)率極坐標(biāo)圖 3.3顏色/圖像分析 不同視角下圖像再現(xiàn) 3.4 RC提取

結(jié)果分析 3.1 LC分析 液晶指向矢分布（*.dat文件） 二維截面提取 3.2光學(xué)分析 透過(guò)率圖（5.5v） V-T曲線 透過(guò)率極坐標(biāo)圖 3.3顏色/圖像分析 不同視角下圖像再現(xiàn) 3.4 RC提取 CSA數(shù)據(jù) 圖表數(shù)據(jù)