2.雙擊“主頁”選項(xiàng)卡下“應(yīng)用程序”組中的“庫管理器”圖標(biāo)，打開“庫管理器”選項(xiàng)卡。 3.點(diǎn)擊“庫管理器”選項(xiàng)卡下下拉菜單中的“文件->庫定義編輯器”選項(xiàng)，打開“庫定義”選項(xiàng)卡。 4.單擊下一個(gè)空白定義行中的語句列，輸入條目“DEFINE”，然后添加“referenceOpticalSOI”PDK庫的路徑，該庫位于OptoCompiler安裝目錄中，如下所示。輸入此值后保存定義。

升壓變壓器中的次級(jí)繞組相對(duì)于初級(jí)繞組在磁鐵上纏繞了更多圈數(shù)，從而提高電壓。 降壓變壓器則可降低電壓以供家庭和企業(yè)使用。降壓變壓器中的次級(jí)繞組相對(duì)于初級(jí)繞組在磁鐵上纏繞了更少圈數(shù)，從而降低電壓。 變壓器至關(guān)重要，因?yàn)楦邏弘娏﹄m然可以更高效地進(jìn)行遠(yuǎn)距離傳輸，但對(duì)于日常電子設(shè)備來說太不安全。電力需要在較低電壓下使用，而變壓器提供了一種方法，可以在電網(wǎng)特定點(diǎn)輕松改變電壓。

對(duì)于AMOP，您需要輸入最大樣本數(shù)，然后在配置設(shè)置之前選擇局部或全局細(xì)化。由于AMOP的自適應(yīng)ML特性，它將通過使用多個(gè)參數(shù)組合來運(yùn)行Fluent仿真，從而生成其余的數(shù)據(jù)。 如果選擇局部細(xì)化，AMOP會(huì)針對(duì)那些元模型質(zhì)量最有潛力提升的區(qū)域進(jìn)行自適應(yīng)調(diào)整，而全局細(xì)化更具探索性。

1.打開 Ansys Workbench 并插入一個(gè)“靜態(tài)結(jié)構(gòu)（Static Structural）”系統(tǒng)。 2.在“工程數(shù)據(jù)（Engineering Data）”下定義材料屬性。

混合模式系統(tǒng)指的是序列模式系統(tǒng)中包含一個(gè)或多個(gè)非序列物體（即NSC組）。要控制光線經(jīng)過這樣的系統(tǒng)，則需要定義輸入口和輸出口，分別作為NSC組的起點(diǎn)和終點(diǎn)。 混合模式的布局 光線先經(jīng)過一個(gè)常規(guī)的序列模式系統(tǒng)，隨后入射到棱鏡或?qū)Ч夤艿确切蛄邢到y(tǒng)光路中對(duì)像面進(jìn)行照明。下圖展示了一個(gè)光線在混合模式系統(tǒng)中傳輸?shù)睦印Ｆ叫泄鈴妮斎肟谶M(jìn)入30-60-90棱鏡中，發(fā)生數(shù)次全反射，并最終由輸出口射出。

用以下參數(shù)定義。

（值得注意的是，由AWS亞馬遜云提供支持的Ansys Gateway依賴于Amazon Elastic Compute Cloud（EC2）。） 在比較這些實(shí)例和配置之間的云性能時(shí)，Ansys團(tuán)隊(duì)重點(diǎn)關(guān)注求解器評(píng)級(jí)，其被定義為給定基準(zhǔn)研究在24小時(shí)內(nèi)可以在給定機(jī)器上運(yùn)行的次數(shù)。求解器評(píng)級(jí)可通過一天內(nèi)的秒數(shù)除以運(yùn)行給定仿真所需的秒數(shù)得出。

湍流是混亂的，無法使用一組確定性方程進(jìn)行定義。因此，工程師改為采用統(tǒng)計(jì)方法來預(yù)測(cè)其高度不規(guī)則的行為。 如何計(jì)算和表征湍流？ 由于湍流的混亂性質(zhì)，流體力學(xué)科學(xué)使用統(tǒng)計(jì)方法來表征和預(yù)測(cè)由湍流引起的流體速度、速度波動(dòng)和壓力波動(dòng)。這種表征，從被稱為雷諾數(shù)的無量綱量開始。然后，其他方程可捕獲對(duì)于設(shè)計(jì)或計(jì)算湍流有用的其他行為。

因此，光譜文件不能用于OpticStudio，因?yàn)樗狞c(diǎn)太少（SPCD文件中最少的波長數(shù)為3）。因此，在這種情況下，最簡單的方法是在波長數(shù)據(jù) ( Wavelength Data ) 對(duì)話框中定義適當(dāng)?shù)牟ㄩL，并選擇：光源顏色 ( Source Color )：系統(tǒng)波長 ( System Wavelengths )。

該插件支持自定義圓柱體模型的直徑及高度，可設(shè)置三組粒徑范圍的多面體顆粒，每組粒徑的多面體可單獨(dú)設(shè)置面數(shù)及個(gè)數(shù)，且可設(shè)置界面層的厚度。不同組的多面體及界面層在CAD內(nèi)進(jìn)行了分圖層繪圖，方便批量管理。