圖1 （a）傳統多子區域光柵；（b）隨機掩模光柵（RMG） 理論分析：解析解推導衍射效率分布 團隊基于經典L型光柵波導模型，對水平和垂直方向的出瞳擴展過程進行了詳細的理論分析，通過微分方程推導得出滿足照度均勻性條件的衍射效率分布解析解： 1.折疊光柵（水平EPE）：僅考慮零級和-1級反射衍射，推導得出-1級衍射效率的雙變量分布函數，實現水平方向眼動范圍均勻性調控； 2.出耦合光柵（垂直

STAR模塊作為Ansys與Zemax的核心接口，可準確追蹤FEA數據集，將包含剛體位移的面型數據分配至對應光學表面，實現結構變形與光學性能的直接關聯。通過Zemax模擬溫度載荷下的鏡頭離焦量，輸出調制傳遞函數（MTF）曲線（如圖3所示），直觀評價成像質量。

在每類自由曲面中，只要滿足對應的數學函數，就可以存在多種不同的表面幾何結構。 目前一些常用的自由曲面包括： XY多項式 Zernike多項式 Chebychev多項式 Q型自由曲面 自由曲面透鏡的表面輪廓 光學系統所使用的自由曲面類型，取決于系統的需求和最終應用。由于自由曲面透鏡表面輪廓中存在潛在的x和y變化，因此可以創建許多XY多項式。

光子的能量與其頻率直接相關，如果該能量超出材料的功函數，則傳輸的能量足以使電子從材料中逸出。 許多光電器件都依賴于光電效應。舉例來說，光電二極管利用光電效應來檢測光并將其轉換為電信號，光電晶體管利用該效應來放大傳感器和開關中的光信號，而太陽能電池則通過它來直接將太陽光轉化為電能。

參考載波與第一階邊帶的光譜（圖3c），通過貝塞爾函數計算得出15至35GHz頻率范圍內的調制效率為0.070～0.083Vcm（詳見實驗部分），該值與模擬結果高度吻合。實驗室測量在20GHz處出現的突然下降源于VNA輸出功率的急劇下降（詳見實驗部分）。通過結合電光S21參數與絕對射頻調制效率，計算得出10MHz時低頻調制效率為0.061Vcm。

主流鑄造/成型軟件如 Moldflow, Moldex3D, ProCAST, ANSYS Polyflow 都有成熟的GPU加速方案，能將充填分析的時間縮短數倍甚至數十倍。 - CPU單核計算 (不適用): 核心求解過程完全依賴并行計算。

然后，基于AEC定容密封艙實驗，使用廣義Sigmoid函數及多項式擬合得到電池開閥產氣速率和溫度的表達式，完成電池熱失控產熱和產氣UDF編寫并進行驗證。

下一篇文章：Ansys Zemax | 手機鏡頭設計 - 第 2 部分：光機械封裝，介紹了在 Ansys Speos 環境中編輯光學元件以及在整合機械組件后分析系統。

.%3 Ansys workbench具體運行過程</p><p>ANSYS Workbench的仿真分析流程可以概括為以下四個主要步驟：</p><p>（1）前處理階段：</p><p>這一階段的核心任務是為仿真分析設定基礎。首先，需要確定分析類型，這可能包括靜力分析，用于評估結構在恒定載荷下的行為，或模態分析，用于確定結構的自然頻率和振型。

.%3 Ansys workbench具體運行過程</p><p>ANSYS Workbench的仿真分析流程可以概括為以下四個主要步驟：</p><p>（1）前處理階段：</p><p>這一階段的核心任務是為仿真分析設定基礎。首先，需要確定分析類型，這可能包括靜力分析，用于評估結構在恒定載荷下的行為，或模態分析，用于確定結構的自然頻率和振型。