ansys鏡像對稱面
關注創建者：王靖雯 創建時間：2023-03-07
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ANSYS必修課_workbench基礎操作應用
ls-dyna模塊 012調整模塊在界面中的位置 013建立自己公司的仿真材料庫 014加載不顯示的材料屬性 015調整DM的工具欄 016理解DM各個工具的意義 017在DM中建立三維模型 018建立二維平面模型計算 019建立二維軸對稱模型計算 020建立梁桿單元計算 021在抽取中性面并進行壓力容器應力計算 022對3D模型進行對稱模擬 023對對稱模擬的結果進行擴展顯示
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在第一部分文章：《Ansys Zemax | 在 OpticStudio 中將干涉儀數據附加到光學表面 – 第一部分中》，我們演示了如何根據表面形狀和方向將干涉測量數據導入 OpticStudio，本部分文章我們將引入更多的實例演示。
由于雙高斯照相物鏡結構的對稱性，原則上所有橫向像差都能自動補償，因此在設計思路上只著眼于縱向像差的平衡設計。為此在設計過程中首先從設計其半部系統入手，然后再經過鏡像處理形成雙高斯照相物鏡的全系統。雙高斯照相物鏡的半部系統在其系統光欄后只包括一個雙膠合透鏡和一片單透鏡組成，如圖2。
該類型鏡頭結構簡單，成本低，容易滿足使用要求。目前市場上也有大量鏡頭設計專利可供選用。
由于雙高斯照相物鏡結構的對稱性，原則上所有橫向像差都能自動補償，因此在設計思路上只著眼于縱向像差的平衡設計。為此在設計過程中首先從設計其半部系統入手，然后再經過鏡像處理形成雙高斯照相物鏡的全系統。雙高斯照相物鏡的半部系統在其系統光欄后只包括一個雙膠合透鏡和一片單透鏡組成，如圖2。
OpticStudio會自動在光線從空氣到材料以及從材料到空氣兩種情況之間逆轉膜層的順序，使用者不需要額外定義“鏡像”的膜層。
如果無法取得原始的鍍膜，我們也可以通過輸入不同波長、不同入射角效率的表格信息來定義鍍膜。或是使用IDEAL理想膜層來簡化定義所有角度與波長的反射與透射。
由于兩條調制臂是對稱的，在無外加電壓的情況下，兩束光的相位相同，在合束器匯合時無相位差。
圖2 MRR型波長解復用器
EDG型：
EDG是通過滿足光程差公式排布的刻蝕光柵齒面實現對不同波長復用光的合束和分束，以此來實現低損耗和多通道的波長（解）復用功能。
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仿真方法
采用三維有限差分光束傳輸法對MWS和PLC模式（解）復用器進行了數值模擬。在ANSYS Lumerical FDE求解器中計算MWS-FMF和SSC-PLC的重疊耦合損耗。利用三維時域有限差分法（3D-FDTD）計算了SSC與石英單模波導之間的總耦合損耗。
然而，垂直入射在特定應用中是必不可少的，原因在于其不僅可以簡化多芯光纖（MCF）或垂直腔面發射激光器（VCSEL）的封裝過程，還能減小由于傳統光柵耦合器由于角度對準所占據更多的空間。
研究現狀
現有的提高垂直入射光柵耦合器的耦合效率主要集中在專門設計光柵結構。例如，圖1（a）中的結構采用階梯型光柵來實現非對稱衍射，打破光柵區域的垂直對稱性，以獲得高方向性和高耦合效率。
注意：由于VCSEL設計工具采用圓柱對稱性，雖然結果查看器中顯示的是笛卡爾坐標軸名稱，但結果實際上是圓柱坐標系的。有關笛卡爾坐標和圓柱坐標系之間映射的更多詳細信息，請訪問文末“VCSEL坐標映射-Ansys Optics”。
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參考文獻
1.J. Zhao, Y. Wang, X. Gao, et al. “ An Ultra-Efficient Integrated Plasmonic Lithium Niobate Electro-Optic Mach-Zehnder Modulator.”
