反演的案例
Johnson-Cook本構(gòu)模型參數(shù)反演
單純形法是一個(gè)需要更多迭代次數(shù)的方法，是比較適合做參數(shù)反演的。因此本案例使用單純形法（nelder-mead）反演了J-C模型的參數(shù)，如表1所示。由表1可知A、B、n、modulus的反演值與真實(shí)值相對誤差較小，而c、m具有較大的誤差。
表1 材料參數(shù)統(tǒng)計(jì)情況
未知參數(shù)
A
B
n
c
m
modulus
真實(shí)值
200MPa
230MPa
0.41
0.01
1
200GPa
反演值
194.9MPa
239.8MPa
0.3622
0.0021
0.1593
193GPa
相對誤差
2.55%
4.26%
11.66%
79%
84.07%
3.5%
再來看一下位移與力的曲線關(guān)系，圖2為真實(shí)與反演的位移-力曲線對比，很明顯反演曲線幾乎和真實(shí)曲線重合在一起了。再結(jié)合表1，參數(shù)c，m誤差較大但并未對結(jié)果造成明顯的的影響，這是由于材料屬性對這兩個(gè)數(shù)不敏感而引起的。因此在參數(shù)反演時(shí)，我們有必要先對參數(shù)的敏感性進(jìn)行分析，這樣可以減少不必要的優(yōu)化參數(shù)。敏感性分析將在下一期中進(jìn)行展示，敬請期待！
圖2 反演與真實(shí)位移與力曲線對比
由上圖可知，位移-力曲線幾乎重合了，吻合度非常高，那么其反演的應(yīng)力場和位移場是怎么樣的呢？圖3-圖4分別展示了反演的應(yīng)力場和真實(shí)應(yīng)力場對比關(guān)系，反演的位移場與真實(shí)位移場的對比關(guān)系，由圖無論是位移還是應(yīng)力云圖，反演場和真實(shí)場的形態(tài)分布和數(shù)值大小都是非常接近的，這說明了反演結(jié)果的可靠性。
圖3 反演與真實(shí)應(yīng)力云圖對比
圖4 反演與真實(shí)位移云圖對比
4.
展開 行業(yè)分享丨基于 Feko 的天線方向圖近遠(yuǎn)場反演方法
后來我們根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)調(diào)整了采樣參數(shù)——近場距離保持在3至5倍波長之間，掃描間距小于1/2波長，反演結(jié)果就與遠(yuǎn)場仿真高度吻合了。
但平面近場存在一個(gè)天然的限制，那就是無法獲取后向輻射信息。我們觀察到反演結(jié)果在后向出現(xiàn)較強(qiáng)凋零，因此推斷它更適用于高增益天線和對主瓣分析要求較高的應(yīng)用場景。為了進(jìn)一步驗(yàn)證，我們嘗試仿真一個(gè)線陣槽縫天線模型，并觀察在不同指向角度（例如±40度、±50度、±60度）下的反演效果。實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn)，當(dāng)掃描面大小不足時(shí)，反演結(jié)果的邊緣角會出現(xiàn)明顯畸變，導(dǎo)致方向圖一側(cè)“發(fā)胖”一側(cè)“變瘦”，這是由于傅里葉展開的邊界效應(yīng)引起的。將面加寬之后，方向圖的主瓣形態(tài)明顯改善，在±50度范圍內(nèi)保持了良好的準(zhǔn)確性。
接著我們嘗試使用柱面近場進(jìn)行仿真反演。相比平面場，它能更好地還原低增益天線的完整輻射特性，特別適合陣列天線、基站天線等具有環(huán)繞輻射需求的應(yīng)用。我們設(shè)置了一個(gè)±45度掃描角度，發(fā)現(xiàn)仿真結(jié)果在主瓣和部分副瓣區(qū)域都與預(yù)期非常吻合。需要注意的是，在使用柱面和球面反演時(shí)，F(xiàn)eko 要求加載電場和磁場聯(lián)合數(shù)據(jù)，而不僅僅是電場，因此前處理設(shè)置必須匹配正確。
通過這類仿真，我們獲得了一個(gè)比較清晰的認(rèn)知：
平面近場：適用于高增益天線及相控陣設(shè)計(jì)，推薦角域在±30~50度內(nèi)，關(guān)注采樣密度與掃描區(qū)域匹配。
柱面近場：適合線陣類或?qū)挷ㄊ刃翁炀€，反演范圍更廣，精度更穩(wěn)定。
球面近場：適用于全向或復(fù)雜形態(tài)天線，能提供全角域反演。
展開 Abaqus|智能優(yōu)化算法的反演加強(qiáng)筋位置，提升薄壁結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性 ￥50
有限元模型修正法FEMU結(jié)合智能優(yōu)化算法反演了加強(qiáng)筋位置布局的源程序（python程序，可反演位置、厚度、材料參數(shù)，通用反演程序）
2. 參數(shù)化建模的一些技巧；
3. 直接搜索法和智能算法兩種反演方法，以及了解他們的優(yōu)勢所在；
1.導(dǎo)讀
薄壁結(jié)構(gòu)最常見的失效方式是屈曲（失穩(wěn)）。為了避免此類結(jié)構(gòu)發(fā)生屈曲現(xiàn)象，可以使用加強(qiáng)筋，加強(qiáng)筋可增加結(jié)合面的強(qiáng)度。屈曲臨界載荷是衡量結(jié)構(gòu)發(fā)生屈曲現(xiàn)象的最小載荷，由下式?jīng)Q定：
為屈曲載荷因子，F(xiàn)為外載荷。由上式可知，在外載一定的時(shí)候，臨街載荷與屈曲載荷因子成正比，而屈曲載荷因子與加強(qiáng)筋的位置有關(guān)。因此為了提高結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定性，需要找到加強(qiáng)筋的最優(yōu)位置使得該結(jié)構(gòu)擁有最大屈曲載荷因子。
尋找最優(yōu)位置的問題是一個(gè)反問題，可通過優(yōu)化算法來獲到最優(yōu)解。差分進(jìn)化算法是一種全局智能優(yōu)化算法，是遺傳算法的變體，可高效獲得最優(yōu)解。本文使用智能優(yōu)化算法對位置參數(shù)進(jìn)行了反演并使用遍歷搜索優(yōu)化算法來進(jìn)行了對比。
2.問題描述
針對圖1優(yōu)化前所示結(jié)構(gòu)，優(yōu)化軸向4個(gè)加強(qiáng)筋位置，使得屈曲載荷因子最大。圓筒高400mm，圓筒直徑為400mm,薄壁厚1mm,加強(qiáng)筋厚2mm。圓筒在頂端受到大小為500N，方向?yàn)?y方向的集中力。
圖1 帶有加強(qiáng)筋的圓筒模型
通過差分進(jìn)化優(yōu)化算法獲得的加強(qiáng)筋均勻分布在圓筒的四周，是不是很符合力學(xué)認(rèn)知？
3. 代碼詳解
這一部分將結(jié)合代碼詳細(xì)展現(xiàn)如何實(shí)現(xiàn)這一過程的技術(shù)細(xì)節(jié)以及智能優(yōu)化算法的優(yōu)勢。代碼是通過Python腳本來實(shí)現(xiàn)，其代碼主要包含三個(gè)模塊runAbaqus、main_DE_inverse、main_TS_inverse,分別代表執(zhí)行CAE計(jì)算、差分進(jìn)化算法反演和遍歷搜索算法反演。
展開 基于optiSLang的模型校準(zhǔn)和參數(shù)反演示例
下表是系統(tǒng)參數(shù)初始值與反演值的對比，模型信號差異很大程度上得到縮減，參數(shù)反演分析使模型得到校準(zhǔn)，仿真擬合曲線和參考曲線之間實(shí)現(xiàn)了出色的一致性。
模型校準(zhǔn)和參數(shù)反演，將產(chǎn)品的特性被準(zhǔn)確、清晰地仿真模擬，不再過保守設(shè)計(jì)，研發(fā)人員可以利用高置信度的虛擬樣機(jī)，進(jìn)行高效的結(jié)構(gòu)優(yōu)化設(shè)計(jì)，大大降低產(chǎn)品的成本和增強(qiáng)品質(zhì)競爭力。
另外optiSLang可以集成到Workbench界面，直接讀取Workbench中Mechanical的分析流程中的參數(shù)。上述案例用Workbench界面分析時(shí)的流程如下圖所示。
利用optiSLang模型標(biāo)定與參數(shù)反演功能，可以讓我們的仿真模型更加準(zhǔn)確，從而保證仿真結(jié)果更加精確。
文章來源于上海安世亞太 ，作者陳志梅
展開 
Essential Macleod應(yīng)用反演工程對四層減反膜進(jìn)行分析
有很多的過程可以被稱之為反演工程，但在Essential Macleod中，該術(shù)語的意思是用來識別理想設(shè)計(jì)的和實(shí)際生產(chǎn)嘗試之間的差異。該功能大致可以概括為“出了什么問題”。這一過程類似于優(yōu)化，在優(yōu)化過程中，將初始設(shè)計(jì)進(jìn)行優(yōu)化，以滿足一組優(yōu)化目標(biāo)。優(yōu)化的目標(biāo)是測量出來的、有問題的膜層性能，但有的時(shí)候會有很復(fù)雜的情況。在正常的優(yōu)化中，經(jīng)常會有多個(gè)解決方案，但是，由于我們通常會從中選擇一個(gè)合適的設(shè)計(jì)，所以多個(gè)解決方案很少會帶來麻煩。在反演工程中，只有一個(gè)正確答案，多個(gè)解決方案可能是災(zāi)難性的，那么怎么才能知道我們是否得到了正確的答案？這一點(diǎn)沒有完全嚴(yán)格的測試方法，因此我們只能利用所掌握的關(guān)于鍍膜的所有知識來評估結(jié)果的合理性。我們還利用我們的知識和經(jīng)驗(yàn)以及各種不同的約束來指導(dǎo)過程。同時(shí)，作為目標(biāo)的測量結(jié)果應(yīng)盡可能精確，這一點(diǎn)至關(guān)重要。因此，盡管反演工程本質(zhì)上是一個(gè)優(yōu)化器，但它的結(jié)構(gòu)與任何優(yōu)化工具都完全不同。
我們可以看一個(gè)在400nm至700nm區(qū)域NBK7玻璃上鍍減反射膜層反演工程中的應(yīng)用。這是使用四層SiO2和Ta2O5，我們在每個(gè)Ta2O5層中引入誤差，在第四層中，靠近基板厚度+10%，在較厚的第二層中厚度-10%。正確設(shè)計(jì)和錯(cuò)誤設(shè)計(jì)的反射率如圖1所示，其中考慮了基板背面的影響。
圖1.橙色曲線表示無誤差四層設(shè)計(jì)的性能，黑色曲線表示有誤差的性能。這兩條曲線都包括基板后表面的影響。
我們要做的第一件事就是通過File-New子菜單設(shè)置中創(chuàng)建新的反演工程。該工具立即要求導(dǎo)入正確的設(shè)計(jì)，圖2，Next，圖3，是我們需要的基板，默認(rèn)是從設(shè)計(jì)中讀取的。如果在后表面變黑或磨平的情況下測量性能為反射率，則應(yīng)使用Wedge屬性。最后，我們需要導(dǎo)入測量性能。圖4顯示了這個(gè)階段工具的外觀。
展開 [Macleod] 應(yīng)用反演工程對四層減反膜進(jìn)行分析
有很多的過程可以被稱之為反演工程，但在Essential Macleod中，該術(shù)語的意思是用來識別理想設(shè)計(jì)的和實(shí)際生產(chǎn)嘗試之間的差異。該功能大致可以概括為“出了什么問題”。這一過程類似于優(yōu)化，在優(yōu)化過程中，將初始設(shè)計(jì)進(jìn)行優(yōu)化，以滿足一組優(yōu)化目標(biāo)。優(yōu)化的目標(biāo)是測量出來的、有問題的膜層性能，但有的時(shí)候會有很復(fù)雜的情況。在正常的優(yōu)化中，經(jīng)常會有多個(gè)解決方案，但是，由于我們通常會從中選擇一個(gè)合適的設(shè)計(jì)，所以多個(gè)解決方案很少會帶來麻煩。在反演工程中，只有一個(gè)正確答案，多個(gè)解決方案可能是災(zāi)難性的，那么怎么才能知道我們是否得到了正確的答案？這一點(diǎn)沒有完全嚴(yán)格的測試方法，因此我們只能利用所掌握的關(guān)于鍍膜的所有知識來評估結(jié)果的合理性。我們還利用我們的知識和經(jīng)驗(yàn)以及各種不同的約束來指導(dǎo)過程。同時(shí)，作為目標(biāo)的測量結(jié)果應(yīng)盡可能精確，這一點(diǎn)至關(guān)重要。因此，盡管反演工程本質(zhì)上是一個(gè)優(yōu)化器，但它的結(jié)構(gòu)與任何優(yōu)化工具都完全不同。
我們可以看一個(gè)在400nm至700nm區(qū)域NBK7玻璃上鍍減反射膜層反演工程中的應(yīng)用。這是使用四層SiO2和Ta2O5，我們在每個(gè)Ta2O5層中引入誤差，在第四層中，靠近基板厚度+10%，在較厚的第二層中厚度-10%。正確設(shè)計(jì)和錯(cuò)誤設(shè)計(jì)的反射率如圖1所示，其中考慮了基板背面的影響。
圖1.橙色曲線表示無誤差四層設(shè)計(jì)的性能，黑色曲線表示有誤差的性能。這兩條曲線都包括基板后表面的影響。
我們要做的第一件事就是通過File-New子菜單設(shè)置中創(chuàng)建新的反演工程。該工具立即要求導(dǎo)入正確的設(shè)計(jì)，圖2，Next，圖3，是我們需要的基板，默認(rèn)是從設(shè)計(jì)中讀取的。如果在后表面變黑或磨平的情況下測量性能為反射率，則應(yīng)使用Wedge屬性。最后，我們需要導(dǎo)入測量性能。圖4顯示了這個(gè)階段工具的外觀。
展開 Essential Macleod應(yīng)用反演工程對四層減反膜進(jìn)行分析
Essential Macleod反演工程對四層減反膜進(jìn)行分析
有很多的過程可以被稱之為反演工程，但在Essential Macleod中，該術(shù)語的意思是用來識別理想設(shè)計(jì)的和實(shí)際生產(chǎn)嘗試之間的差異。該功能大致可以概括為“出了什么問題”。這一過程類似于優(yōu)化，在優(yōu)化過程中，將初始設(shè)計(jì)進(jìn)行優(yōu)化，以滿足一組優(yōu)化目標(biāo)。優(yōu)化的目標(biāo)是測量出來的、有問題的膜層性能，但有的時(shí)候會有很復(fù)雜的情況。在正常的優(yōu)化中，經(jīng)常會有多個(gè)解決方案，但是，由于我們通常會從中選擇一個(gè)合適的設(shè)計(jì)，所以多個(gè)解決方案很少會帶來麻煩。在反演工程中，只有一個(gè)正確答案，多個(gè)解決方案可能是災(zāi)難性的，那么怎么才能知道我們是否得到了正確的答案？這一點(diǎn)沒有完全嚴(yán)格的測試方法，因此我們只能利用所掌握的關(guān)于鍍膜的所有知識來評估結(jié)果的合理性。我們還利用我們的知識和經(jīng)驗(yàn)以及各種不同的約束來指導(dǎo)過程。同時(shí)，作為目標(biāo)的測量結(jié)果應(yīng)盡可能精確，這一點(diǎn)至關(guān)重要。因此，盡管反演工程本質(zhì)上是一個(gè)優(yōu)化器，但它的結(jié)構(gòu)與任何優(yōu)化工具都完全不同。
我們可以看一個(gè)在400nm至700nm區(qū)域NBK7玻璃上鍍減反射膜層反演工程中的應(yīng)用。這是使用四層SiO2和Ta2O5，我們在每個(gè)Ta2O5層中引入誤差，在第四層中，靠近基板厚度+10%，在較厚的第二層中厚度-10%。正確設(shè)計(jì)和錯(cuò)誤設(shè)計(jì)的反射率如圖1所示，其中考慮了基板背面的影響。
圖1.橙色曲線表示無誤差四層設(shè)計(jì)的性能，黑色曲線表示有誤差的性能。這兩條曲線都包括基板后表面的影響。
我們要做的第一件事就是通過File-New子菜單設(shè)置中創(chuàng)建新的反演工程。該工具立即要求導(dǎo)入正確的設(shè)計(jì)，圖2，Next，圖3，是我們需要的基板，默認(rèn)是從設(shè)計(jì)中讀取的。如果在后表面變黑或磨平的情況下測量性能為反射率，則應(yīng)使用Wedge屬性。最后，我們需要導(dǎo)入測量性能。
展開 Essential Macleod應(yīng)用反演工程對四層減反膜進(jìn)行分析
有很多的過程可以被稱之為反演工程，但在Essential Macleod中，該術(shù)語的意思是用來識別理想設(shè)計(jì)的和實(shí)際生產(chǎn)嘗試之間的差異。該功能大致可以概括為“出了什么問題”。這一過程類似于優(yōu)化，在優(yōu)化過程中，將初始設(shè)計(jì)進(jìn)行優(yōu)化，以滿足一組優(yōu)化目標(biāo)。優(yōu)化的目標(biāo)是測量出來的、有問題的膜層性能，但有的時(shí)候會有很復(fù)雜的情況。在正常的優(yōu)化中，經(jīng)常會有多個(gè)解決方案，但是，由于我們通常會從中選擇一個(gè)合適的設(shè)計(jì)，所以多個(gè)解決方案很少會帶來麻煩。在反演工程中，只有一個(gè)正確答案，多個(gè)解決方案可能是災(zāi)難性的，那么怎么才能知道我們是否得到了正確的答案？這一點(diǎn)沒有完全嚴(yán)格的測試方法，因此我們只能利用所掌握的關(guān)于鍍膜的所有知識來評估結(jié)果的合理性。我們還利用我們的知識和經(jīng)驗(yàn)以及各種不同的約束來指導(dǎo)過程。同時(shí)，作為目標(biāo)的測量結(jié)果應(yīng)盡可能精確，這一點(diǎn)至關(guān)重要。因此，盡管反演工程本質(zhì)上是一個(gè)優(yōu)化器，但它的結(jié)構(gòu)與任何優(yōu)化工具都完全不同。
我們可以看一個(gè)在400nm至700nm區(qū)域NBK7玻璃上鍍減反射膜層反演工程中的應(yīng)用。這是使用四層SiO2和Ta2O5，我們在每個(gè)Ta2O5層中引入誤差，在第四層中，靠近基板厚度+10%，在較厚的第二層中厚度-10%。正確設(shè)計(jì)和錯(cuò)誤設(shè)計(jì)的反射率如圖1所示，其中考慮了基板背面的影響。
圖1.橙色曲線表示無誤差四層設(shè)計(jì)的性能，黑色曲線表示有誤差的性能。這兩條曲線都包括基板后表面的影響。
我們要做的第一件事就是通過File-New子菜單設(shè)置中創(chuàng)建新的反演工程。該工具立即要求導(dǎo)入正確的設(shè)計(jì)，圖2，Next，圖3，是我們需要的基板，默認(rèn)是從設(shè)計(jì)中讀取的。如果在后表面變黑或磨平的情況下測量性能為反射率，則應(yīng)使用Wedge屬性。最后，我們需要導(dǎo)入測量性能。圖4顯示了這個(gè)階段工具的外觀。
展開 Essential Macleod應(yīng)用反演工程對四層減反膜進(jìn)行分析
有很多的過程可以被稱之為反演工程，但在Essential Macleod中，該術(shù)語的意思是用來識別理想設(shè)計(jì)的和實(shí)際生產(chǎn)嘗試之間的差異。該功能大致可以概括為“出了什么問題”。這一過程類似于優(yōu)化，在優(yōu)化過程中，將初始設(shè)計(jì)進(jìn)行優(yōu)化，以滿足一組優(yōu)化目標(biāo)。優(yōu)化的目標(biāo)是測量出來的、有問題的膜層性能，但有的時(shí)候會有很復(fù)雜的情況。在正常的優(yōu)化中，經(jīng)常會有多個(gè)解決方案，但是，由于我們通常會從中選擇一個(gè)合適的設(shè)計(jì)，所以多個(gè)解決方案很少會帶來麻煩。在反演工程中，只有一個(gè)正確答案，多個(gè)解決方案可能是災(zāi)難性的，那么怎么才能知道我們是否得到了正確的答案？這一點(diǎn)沒有完全嚴(yán)格的測試方法，因此我們只能利用所掌握的關(guān)于鍍膜的所有知識來評估結(jié)果的合理性。
我們還利用我們的知識和經(jīng)驗(yàn)以及各種不同的約束來指導(dǎo)過程。同時(shí)，作為目標(biāo)的測量結(jié)果應(yīng)盡可能精確，這一點(diǎn)至關(guān)重要。因此，盡管反演工程本質(zhì)上是一個(gè)優(yōu)化器，但它的結(jié)構(gòu)與任何優(yōu)化工具都完全不同。 我們可以看一個(gè)在400nm至700nm區(qū)域NBK7玻璃上鍍減反射膜層反演工程中的應(yīng)用。這是使用四層SiO2和Ta2O5，我們在每個(gè)Ta2O5層中引入誤差，在第四層中，靠近基板厚度+10%，在較厚的第二層中厚度-10%。正確設(shè)計(jì)和錯(cuò)誤設(shè)計(jì)的反射率如圖1所示，其中考慮了基板背面的影響。
圖1.橙色曲線表示無誤差四層設(shè)計(jì)的性能，黑色曲線表示有誤差的性能。這兩條曲線都包括基板后表面的影響。 我們要做的第一件事就是通過File-New子菜單設(shè)置中創(chuàng)建新的反演工程。該工具立即要求導(dǎo)入正確的設(shè)計(jì)，圖2，Next，圖3，是我們需要的基板，默認(rèn)是從設(shè)計(jì)中讀取的。如果在后表面變黑或磨平的情況下測量性能為反射率，則應(yīng)使用Wedge屬性。最后，我們需要導(dǎo)入測量性能。圖4顯示了這個(gè)階段工具的外觀。
展開 Essential Macleod應(yīng)用反演工程對四層減反膜進(jìn)行分析
有很多的過程可以被稱之為反演工程，但在Essential Macleod中，該術(shù)語的意思是用來識別理想設(shè)計(jì)的和實(shí)際生產(chǎn)嘗試之間的差異。該功能大致可以概括為“出了什么問題”。這一過程類似于優(yōu)化，在優(yōu)化過程中，將初始設(shè)計(jì)進(jìn)行優(yōu)化，以滿足一組優(yōu)化目標(biāo)。優(yōu)化的目標(biāo)是測量出來的、有問題的膜層性能，但有的時(shí)候會有很復(fù)雜的情況。在正常的優(yōu)化中，經(jīng)常會有多個(gè)解決方案，但是，由于我們通常會從中選擇一個(gè)合適的設(shè)計(jì)，所以多個(gè)解決方案很少會帶來麻煩。在反演工程中，只有一個(gè)正確答案，多個(gè)解決方案可能是災(zāi)難性的，那么怎么才能知道我們是否得到了正確的答案？這一點(diǎn)沒有完全嚴(yán)格的測試方法，因此我們只能利用所掌握的關(guān)于鍍膜的所有知識來評估結(jié)果的合理性。我們還利用我們的知識和經(jīng)驗(yàn)以及各種不同的約束來指導(dǎo)過程。同時(shí)，作為目標(biāo)的測量結(jié)果應(yīng)盡可能精確，這一點(diǎn)至關(guān)重要。因此，盡管反演工程本質(zhì)上是一個(gè)優(yōu)化器，但它的結(jié)構(gòu)與任何優(yōu)化工具都完全不同。
我們可以看一個(gè)在400nm至700nm區(qū)域NBK7玻璃上鍍減反射膜層反演工程中的應(yīng)用。這是使用四層SiO2和Ta2O5，我們在每個(gè)Ta2O5層中引入誤差，在第四層中，靠近基板厚度+10%，在較厚的第二層中厚度-10%。正確設(shè)計(jì)和錯(cuò)誤設(shè)計(jì)的反射率如圖1所示，其中考慮了基板背面的影響。
圖1.橙色曲線表示無誤差四層設(shè)計(jì)的性能，黑色曲線表示有誤差的性能。這兩條曲線都包括基板后表面的影響。
我們要做的第一件事就是通過File-New子菜單設(shè)置中創(chuàng)建新的反演工程。該工具立即要求導(dǎo)入正確的設(shè)計(jì)，圖2，Next，圖3，是我們需要的基板，默認(rèn)是從設(shè)計(jì)中讀取的。如果在后表面變黑或磨平的情況下測量性能為反射率，則應(yīng)使用Wedge屬性。最后，我們需要導(dǎo)入測量性能。圖4顯示了這個(gè)階段工具的外觀。
展開 Essential Macleod應(yīng)用反演工程對四層減反膜進(jìn)行分析
有很多的過程可以被稱之為反演工程，但在Essential Macleod中，該術(shù)語的意思是用來識別理想設(shè)計(jì)的和實(shí)際生產(chǎn)嘗試之間的差異。該功能大致可以概括為“出了什么問題”。這一過程類似于優(yōu)化，在優(yōu)化過程中，將初始設(shè)計(jì)進(jìn)行優(yōu)化，以滿足一組優(yōu)化目標(biāo)。優(yōu)化的目標(biāo)是測量出來的、有問題的膜層性能，但有的時(shí)候會有很復(fù)雜的情況。在正常的優(yōu)化中，經(jīng)常會有多個(gè)解決方案，但是，由于我們通常會從中選擇一個(gè)合適的設(shè)計(jì)，所以多個(gè)解決方案很少會帶來麻煩。在反演工程中，只有一個(gè)正確答案，多個(gè)解決方案可能是災(zāi)難性的，那么怎么才能知道我們是否得到了正確的答案？這一點(diǎn)沒有完全嚴(yán)格的測試方法，因此我們只能利用所掌握的關(guān)于鍍膜的所有知識來評估結(jié)果的合理性。我們還利用我們的知識和經(jīng)驗(yàn)以及各種不同的約束來指導(dǎo)過程。同時(shí)，作為目標(biāo)的測量結(jié)果應(yīng)盡可能精確，這一點(diǎn)至關(guān)重要。因此，盡管反演工程本質(zhì)上是一個(gè)優(yōu)化器，但它的結(jié)構(gòu)與任何優(yōu)化工具都完全不同。
我們可以看一個(gè)在400nm至700nm區(qū)域NBK7玻璃上鍍減反射膜層反演工程中的應(yīng)用。這是使用四層SiO2和Ta2O5，我們在每個(gè)Ta2O5層中引入誤差，在第四層中，靠近基板厚度+10%，在較厚的第二層中厚度-10%。正確設(shè)計(jì)和錯(cuò)誤設(shè)計(jì)的反射率如圖1所示，其中考慮了基板背面的影響。
圖1.橙色曲線表示無誤差四層設(shè)計(jì)的性能，黑色曲線表示有誤差的性能。這兩條曲線都包括基板后表面的影響。
我們要做的第一件事就是通過File-New子菜單設(shè)置中創(chuàng)建新的反演工程。該工具立即要求導(dǎo)入正確的設(shè)計(jì)，圖2，Next，圖3，是我們需要的基板，默認(rèn)是從設(shè)計(jì)中讀取的。如果在后表面變黑或磨平的情況下測量性能為反射率，則應(yīng)使用Wedge屬性。最后，我們需要導(dǎo)入測量性能。
展開 
應(yīng)用反演工程對四層減反膜進(jìn)行分析
有很多的過程可以被稱之為反演工程，但在Essential Macleod中，該術(shù)語的意思是用來識別理想設(shè)計(jì)的和實(shí)際生產(chǎn)嘗試之間的差異。該功能大致可以概括為“出了什么問題”。這一過程類似于優(yōu)化，在優(yōu)化過程中，將初始設(shè)計(jì)進(jìn)行優(yōu)化，以滿足一組優(yōu)化目標(biāo)。優(yōu)化的目標(biāo)是測量出來的、有問題的膜層性能，但有的時(shí)候會有很復(fù)雜的情況。在正常的優(yōu)化中，經(jīng)常會有多個(gè)解決方案，但是，由于我們通常會從中選擇一個(gè)合適的設(shè)計(jì)，所以多個(gè)解決方案很少會帶來麻煩。在反演工程中，只有一個(gè)正確答案，多個(gè)解決方案可能是災(zāi)難性的，那么怎么才能知道我們是否得到了正確的答案？這一點(diǎn)沒有完全嚴(yán)格的測試方法，因此我們只能利用所掌握的關(guān)于鍍膜的所有知識來評估結(jié)果的合理性。我們還利用我們的知識和經(jīng)驗(yàn)以及各種不同的約束來指導(dǎo)過程。同時(shí)，作為目標(biāo)的測量結(jié)果應(yīng)盡可能精確，這一點(diǎn)至關(guān)重要。因此，盡管反演工程本質(zhì)上是一個(gè)優(yōu)化器，但它的結(jié)構(gòu)與任何優(yōu)化工具都完全不同。
我們可以看一個(gè)在400nm至700nm區(qū)域NBK7玻璃上鍍減反射膜層反演工程中的應(yīng)用。這是使用四層SiO2和Ta2O5，我們在每個(gè)Ta2O5層中引入誤差，在第四層中，靠近基板厚度+10%，在較厚的第二層中厚度-10%。正確設(shè)計(jì)和錯(cuò)誤設(shè)計(jì)的反射率如圖1所示，其中考慮了基板背面的影響。
圖1.橙色曲線表示無誤差四層設(shè)計(jì)的性能，黑色曲線表示有誤差的性能。這兩條曲線都包括基板后表面的影響。
我們要做的第一件事就是通過File-New子菜單設(shè)置中創(chuàng)建新的反演工程。該工具立即要求導(dǎo)入正確的設(shè)計(jì)，圖2，Next，圖3，是我們需要的基板，默認(rèn)是從設(shè)計(jì)中讀取的。如果在后表面變黑或磨平的情況下測量性能為反射率，則應(yīng)使用Wedge屬性。最后，我們需要導(dǎo)入測量性能。圖4顯示了這個(gè)階段工具的外觀。
展開 請教地應(yīng)力反演問題
在flac3d中做地應(yīng)力反演一般施加是什么樣的標(biāo)準(zhǔn)荷載進(jìn)行反演？
2。如何知道反演后測點(diǎn)的應(yīng)力值與實(shí)測點(diǎn)的應(yīng)力值一直，及如何取得某一點(diǎn)的應(yīng)力值？
3。在flac3d中怎樣才能進(jìn)行子模型分析？
這幾個(gè)問題可能有些提法不是很好，由于flac3d還不是很了解，希望大家?guī)蛶兔鉀Q。現(xiàn)急待解決實(shí)際問題。謝謝！
有意交流者發(fā)郵件britht-h@163.com
地應(yīng)力反演相互合作交流
地應(yīng)力反演依據(jù)工區(qū)測點(diǎn)地應(yīng)力數(shù)據(jù)反演應(yīng)力場，可以相互交流合作。
『分享』基于MSC．Marc的可變?nèi)莶罘ǖ奈灰?em>反演
基于MSC．Marc的可變?nèi)莶罘ǖ奈灰?em>反演<BR><Font color=#FF0000><B>PS:</B>該帖于2007-7-20 13:04:23被yali編輯過。</Font><BR><Font color=#FF0000><B>.PS.:</B>該帖附件于2007-07-21 09:16:44被yali評為3星級，為發(fā)貼者加分60。</Font><BR><Font color=#FF0000><B>點(diǎn)評:</B></Font>
基于MSC．Marc的可變?nèi)莶罘ǖ奈灰?em>反演.pdf
展開 