abaqus相互作用的案例
關于abaqus各向異性纖維的相互作用設置
一個基體里面只有一根熱導率各向異性的纖維，怎么在不和基體合并的情況下正常運算？或者說應該怎么將兩者綁定呢？
ABAQUS分析用戶手冊-指定條件、約束與相互作用卷
如題，這本書。
考慮壩體-庫水相互作用的重力壩模態分析--對比分析ANSYS和ABAQUS重力壩流固耦合模態結果
通過模態分析方法搞清楚了結構物在某一易受影響的頻率范圍內的各階主要模態的特性，就可以預言結構在此頻段內在外部或內部各種振源作用下產生的實際振動響應。--引自《百度百科》
下面直接開始進入正文。
混凝土重力壩材料參數如下
彈性模量E=30GPa，泊松比v=0.167，密度rou=2450kg/m3
在ANSYS中，混凝土壩壩體采用平面Plane42單元，庫水采用Fluid29單元來進行模態計算。
ABAQUS用戶手冊：材料卷 、單元卷、分析卷、指定條件、約束與相互作用卷、介紹，空間建模，執行與輸出 ￥1.2
ABAQUS用戶手冊及關鍵詞參考指南：初學者必備6件套
1材料卷
2單元卷
3分析卷
4指定條件、約束與相互作用卷
5介紹，空間建模，執行與輸出
6工具包
7Abaqus關鍵詞參考指南
新加坡國立大學Science：電子-電子相互作用在二維狄拉克費米子中的作用
【圖文導讀】
圖一 位于蜂窩晶格上的費米子相圖
對于長程相互作用α0的任意值，存在一個由量子蒙特卡洛（數據點）所計算的短程相互作用Uc（α0）的臨界值，其中系統經歷了量子相變到莫特絕緣體的轉變；在存在長程相互作用的情況下，需要一個更大的在位相互作用值才能達到量子相變；通過求解重整化群（RG）流動方程（紅色曲線）可以理解相圖，包括在位和最近鄰相互作用，通過長程庫侖尾巴減少有效的在位相互作用；實心藍線是數據點的四次插值曲線，陰影部分表示所用的數值方法無法達到的區域，誤差棒表示數值的不確定性，費米液態區域、弱相互作用的半金屬和強相互作用的莫特反鐵磁體如插圖所示
圖二 通過電子-電子相互作用重整化的狄拉克費米子費米速度
對于庫侖相互作用的不同短程（U）和長程（α0）分量所得的投射量子蒙特卡洛結果；圖中所繪制的曲線是費米速度相對于狄拉克點處非相互作用值的相對變化，用小的U/Uc（α0）來定義弱耦合狀態，其中長程和短程分量的不同比值γ作為α0的函數而崩潰，這里的電子-電子相互作用所提高的費米速度與PRA（左插圖）一致；微擾理論（PT）結果也如圖所示，Gross-Neveu普遍的金屬到莫特絕緣體相變發生在U=Uc（α0）處，其中抑制費米速度可以理解為狄拉克費米子和新生反鐵磁態的玻色子激發之間的耦合（褐色星是通過自旋波理論所確定的抑制費米速度的估計值）；右側插圖表示不同γ值下的量子蒙特卡洛數據，其中費米速度從Gross-Neveu點崩潰值變化成一條曲線，并向遠離相變區移動；所得的數據跨越了弱耦合固定點和Gross-Neveu臨界點之間的整個交叉區域，估計拓撲絕緣體接近于相變的位置
展開 [VirtualLab] 電磁場與納米圓柱體的相互作用
摘要
電磁場和光的波長尺度的納米結構的相互作用必須使用嚴格的Maxwell求解器進行研究。通過將完美匹配層（PML）技術與傅立葉模態方法（FMM）相結合，可以在VirtualLab Fusion中對非周期性納米結構進行建模。本示例研究了聚焦高斯光束和具有不同直徑的納米圓柱體之間的相互作用，并且圖示出了偏振相關效應。
建模任務
比較 - 自由空間與具有納米圓柱體
比較 - 不同直徑的納米圓柱體
文件信息
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Mie Solution to Maxwell’s Equations for Scattering of an Electromagnetic Plane Wave
展開 OptiSystem應用：EDFA中離子-離子相互作用效應
均勻上轉換效應是Er3+–Er3+相互作用效應，其對EDFA性能的影響與光纖中鉺離子的濃度有關。在具有高濃度鉺離子（nt>5.1024m-3）的光纖中，與具有較低鉺濃度的光纖相比，非均勻上轉換往往會對放大器性能造成更大的損害。
一、均勻上轉換
離子-離子相互作用效應涉及稀土離子之間的能量轉移問題。當稀有離子的局部濃度變得足夠高時，就不能假設每個孤立的離子都是獨立作用于其周圍。當放大轉換的上能級被能量轉移耗盡時，這可能對放大器性能產生負面影響。
2.
非均勻離子對濃度淬滅（PIQ）
1.
均勻上轉換（HUC）
本案例展示了EDFA中的兩種離子-離子相互作用效應：
當用戶選擇離子-離子相互作用效應參數的非均勻選項時，摻鉺光纖組件將這種效應考慮在內。在這種情況下，用戶必須指定光纖中簇的相對數量（K）和每個簇的離子數量（mk）。圖5顯示了K=1.4%和mk=2的摻雜光纖的示例。
非均勻離子對濃度淬滅（PIQ）效應意味著兩個或多個離子之間的能量傳遞速率在時間尺度上明顯快于泵浦速率，因此在所考慮的泵浦功率下，泵浦無法保持兩個離子都被激發。
二、非均勻離子對濃度淬滅
通過仿真驗證了PIQ對EDFA性能退化的影響。模擬中使用的光纖參數和系統布局如圖6所示。該系統仿真1530nm處的信號增益相對于泵浦功率的曲線。
展開 土壤與結構相互作用的研究一例
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OptiSystem應用：EDFA中離子-離子相互作用效應
本案例展示了EDFA中的兩種離子-離子相互作用效應：
1.均勻上轉換（HUC）
2.非均勻離子對濃度淬滅（PIQ）
離子-離子相互作用效應涉及稀土離子之間的能量轉移問題。當稀有離子的局部濃度變得足夠高時，就不能假設每個孤立的離子都是獨立作用于其周圍。當放大轉換的上能級被能量轉移耗盡時，這可能對放大器性能產生負面影響。
一、均勻上轉換
均勻上轉換效應是Er3+–Er3+相互作用效應，其對EDFA性能的影響與光纖中鉺離子的濃度有關。在具有高濃度鉺離子（nt>5.1024m-3）的光纖中，與具有較低鉺濃度的光纖相比，非均勻上轉換往往會對放大器性能造成更大的損害。
為了證明EDFA中均勻上轉換的影響，針對不同的光纖模擬了圖1中所示的系統，并分析了增益。
圖1.用于分析EDF中均勻上轉換的系統布局
光纖的上轉換壽命定義為：
其中nt是鉺離子的濃度，而Uc是兩粒子上轉換系數。
分別仿真四種光纖：一種光纖沒有均勻的上轉換效應，三種光纖的上轉換壽命分別為1ms、2ms和5ms。
所有光纖都考慮了相同的鉺離子濃度。在考慮均勻上轉換的纖維的情況下，上轉換系數（Uc）的值被設置之后，便確定了相應的上轉換壽命。
圖2（a）顯示了沒有均勻上轉換的光纖的選項卡設置，圖2（b）考慮了1ms的上轉換壽命。
a）不考慮均勻上轉換
b）考慮了1ms的上轉換壽命
圖2.光纖設置
對泵浦功率進行參數掃描，如圖3：
圖3.泵浦參數掃描設置
在模擬之后，繪制了每個光纖的增益與泵浦功率的曲線。圖4顯示了模擬結果。該結果顯示了由于上轉換效應而導致的EDFA的性能下降。為了補償增益的下降，必須增加泵浦功率。
展開 電磁場與納米圓柱體的相互作用
摘要
電磁場和光的波長尺度的納米結構的相互作用必須使用嚴格的Maxwell求解器進行研究。通過將完美匹配層（PML）技術與傅立葉模態方法（FMM）相結合，可以在VirtualLab Fusion中對非周期性納米結構進行建模。本示例研究了聚焦高斯光束和具有不同直徑的納米圓柱體之間的相互作用，并且圖示出了偏振相關效應。
建模任務
比較 - 自由空間與具有納米圓柱體
比較 - 不同直徑的納米圓柱體
文件信息
JCMsuite應用：電磁場與獨立的接觸孔的相互作用
本案例為獨立接觸孔的模擬，如下所示：
在布局中文件layout.jcm中定義的幾何設置，給定的平行四邊形定義了掩模上邊長為280nm的孔洞大小。由于這種模式建模時定義為孤立的，它在橫向上被吸收掩模材料包圍。在JCMsuite中，通過定義一個圍繞幾何單元的ConvexHull，可以方便地建立這個結構。這將自動建立一個ConvexHull與封閉模式的最小距離偏移。對于ConvexHull其域名、優先級和邊界條件可以像往常一樣定義。
由于掩模模式是孤立的，因此任意數量的相同頻率、不同入射方向的入射平面波都可以定義為光源。
光瞳面的西格瑪坐標用來定義不同的入射方向。在底部顯示了傳輸磁場的一些圖。后處理傅里葉變換的定義類似于周期設置。然而，在孤立的情況下，計算了一個離散表示的連續傅里葉變換的掩模遠場分布。連續傅里葉變換因此在k空間的笛卡爾網格上采樣。得到的仿真結果如下所示：
展開 
使用多物理場仿真研究激光與材料的相互作用
基于仿真研究激光與材料相互作用的好處
已經使用紅外微整形對 NIF 激光器中的大約 13 萬個損傷點進行了修復，部分是利用研究人員的多物理場仿真結果進行的優化。這使得該項目中的光學器件得以循環使用，并大大降低了項目成本。LLNL 的團隊還支持整個實驗室的用于3D 打印的增材制造計劃，這有可能是比修復損壞的光學器件具有更深遠意義的應用。
本文來自 ：COMSOL 博客
飛行器流固相互作用（FSI）仿真賞析（僅3D模型） ￥2
流固相互作用（FSI）是一個跨學科領域，研究內部或外部流體流動與某些可變形或可移動結構的相互作用。使用 ANSYS Workbench 進行了飛機的流固耦合仿真。對于 CFD 分析，使用了 CFX，然后使用 Workbench 中的 ANSYS Mechanical 工具將 CFD 模擬（壓力載荷）的結果傳輸到結構分析。
模型格式
stp?
.CATProduct
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鑄造當中金屬液與鑄型的相互作用
3：機械作用
型腔表面砂粒或涂料層在流動的金屬液摩擦或動壓力作用下脫落，此種散落物如留在鑄件中，則造成砂眼、渣氣孔、多肉等缺陷。
為防止沖砂，除提高砂型表面強度外，應合理設計澆注系統。
JCMsuite應用：電磁場與獨立的接觸孔的相互作用
本案例為獨立接觸孔的模擬，如下所示：
在布局中文件layout.jcm中定義的幾何設置，給定的平行四邊形定義了掩模上邊長為280nm的孔洞大小。由于這種模式建模時定義為孤立的，它在橫向上被吸收掩模材料包圍。在JCMsuite中，通過定義一個圍繞幾何單元的ConvexHull，可以方便地建立這個結構。這將自動建立一個ConvexHull與封閉模式的最小距離偏移。對于ConvexHull其域名、優先級和邊界條件可以像往常一樣定義。
由于掩模模式是孤立的，因此任意數量的相同頻率、不同入射方向的入射平面波都可以定義為光源。
光瞳面的西格瑪坐標用來定義不同的入射方向。在底部顯示了傳輸磁場的一些圖。后處理傅里葉變換的定義類似于周期設置。然而，在孤立的情況下，計算了一個離散表示的連續傅里葉變換的掩模遠場分布。連續傅里葉變換因此在k空間的笛卡爾網格上采樣。得到的仿真結果如下所示：
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