雜散光分析的案例
線上培訓 | ASAP 光學系統雜散光分析與控制，招生中
# 第六期線上精品課 #
隨著前期開展的 ASAP 雜散光課程順利舉辦，武漢墨光迎來了本次第六期線上雜散光精品課，資深光學工程師精心打造，配套教材，線上答疑，實用案例，一一給您講到位，讓您學有所獲。以下就是本次培訓大綱及詳情：
培訓大綱
01. 雜散光術語
02. 輻射度學基礎
03. 雜散光成因
04. 雜散光影響、雜散光控制
05. 雜散光分析、評價方法、分析軟件對比
06. ASAP 雜散光分析流程、步驟
07. 散光特性、散射模型
08. 消光漆/表面處理
09. 光學表面污染
10. 散射特性測量儀對比、重點區域采樣
11. 衍射雜散光、PST 分析
12. 鬼像分析、光學設計中的雜散光控制
13. 遮光罩和擋光環設計、自身熱輻射分析
14. 雜散光計算器、擴展面源雜散光分析
15.
展開 線上培訓 | ASAP 光學系統雜散光分析與控制，招生中
ASAP 雜散光分析流程、步驟
07. 散光特性、散射模型
08. 消光漆/表面處理
09. 光學表面污染
10. 散射特性測量儀對比、重點區域采樣
11. 衍射雜散光、PST 分析
12. 鬼像分析、光學設計中的雜散光控制
13. 遮光罩和擋光環設計、自身熱輻射分析
14. 雜散光計算器、擴展面源雜散光分析
15. 散射特征測試介紹、PST 測試介紹、光陷阱
培訓詳情
本培訓為線上直播培訓
培訓內容作業練習跟蹤，老師答疑
培訓結束后支持錄播回放觀看
1. 培訓方安裝最新正版軟件（僅限培訓期間使用）。
2. 包郵贈送配套教材一本《雜散光抑制設計與分析》一本。
3.
展開 線上培訓 | ASAP 光學系統雜散光分析與控制，招生中
ASAP 雜散光分析流程、步驟
07. 散光特性、散射模型
08. 消光漆/表面處理
09. 光學表面污染
10. 散射特性測量儀對比、重點區域采樣
11. 衍射雜散光、PST 分析
12. 鬼像分析、光學設計中的雜散光控制
13. 遮光罩和擋光環設計、自身熱輻射分析
14. 雜散光計算器、擴展面源雜散光分析
15. 散射特征測試介紹、PST 測試介紹、光陷阱
培訓詳情
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1. 培訓方安裝最新正版軟件（僅限培訓期間使用）。
2. 包郵贈送配套教材一本《雜散光抑制設計與分析》一本。
3.
展開 ZEMAX | 雜散光分析——第一篇
如何找出這些由非預期光線所產生的能量，并試著以外加的光學元件吸收或阻擋這些光線，將是雜散光分析中至關重要的環節。
本文是三篇雜散光分析系列文章中的第一篇，將介紹如何將序列系統轉至非序列模式中，并觀察此時系統產生的雜散光。
簡介
一般情況下，在進行機構的設計之前，我們必須先考慮雜散光的影響。雜散光意味著入射光無法經由原先預期的路徑穿透整個光學系統到達像面，如此的結果將導致最終成像質量的下降。
以攝影為例，視場外的強光源（例如太陽）為常見的雜散光來源。這類光源的光可藉由系統的機械或光學元件散射到達像面。另一方面，部份視場內光源的光會在鏡面進行多重二次反射（secondary reflection）后匯聚在像面上。
準備工作
首先，我們將以一個示例系統介紹雜散光的分析。藉由Samples\Sequential\Objectives\Double Gauss 28 degree field.zmx的路徑打開OpticStudio內置的示例檔案。
我們會使用OpticStudio中一些好用的功能完成雜散光分析的準備。如下圖，第一步我們先使用鍍膜表面（Coat Surfaces）功能移除所有表面上的鍍膜。稍后我們會另外分析鍍膜的影響。
鎖定設計（Design Lockdown）功能
接著點選公差（Tolerance）中的鎖定設計（Design Lockdown）功能，并依下圖勾選第一個選項。如此一來，系統中的鏡面將更符合實際情形，而分析的結果也會更準確。如果需要關于這項功能進一步的介紹，可參考幫助手冊（Help）中的內容。
展開 
機械元件雜散光難以把控？OAS 軟件案例深度解析
機械元件的雜散光分析
簡介
在光學系統設計與工程實踐中，機械元件的雜散光問題對系統性能有著不容忽視的影響。雜散光會降低光學系統的信噪比、圖像對比度，甚至導致系統功能失效。因此，準確分析機械元件雜散光并采取有效抑制措施，是保障光學系統高質量運行的關鍵環節。OAS 光學軟件憑借其強大的光學仿真與分析功能，為機械元件雜散光分析提供了先進且高效的解決方案，本案例基于此展開，旨在展示 OAS 軟件在該領域的實際應用價值與卓越性能。
模型構建
利用OAS軟件的機械建模功能，對目標光學系統的機械結構進行精確建模。該機械結構主要包含鏡筒、隔環等關鍵部件，這些部件的形狀、尺寸及相對位置關系均依據實際工程圖紙進行構建。通過軟件直觀的建模界面，采用參數化建模方式，確保模型能夠真實反映機械結構的幾何特征，為后續雜散光分析奠定堅實基礎。
光源設置
在膜層特性方面，將膜層設定為恒定色散模式，光線透射率精確設置為 95%，此設定符合該機械結構在實際應用中的光學性能要求，有效模擬光線在表面的透射行為。同時，在散射特性設置上，采用 Lambertian 散射模型，該模型能夠合理描述機械結構表面光線散射的統計規律，為準確模擬雜散光分布提供可靠依據。
（機械元件雜散光分析的三維追跡圖）
（機械元件雜散光分析的探測器結果圖）
總結
本案例通過 OAS 光學軟件成功實現對機械元件雜散光的精準分析，驗證了該軟件在光學系統雜散光分析領域的有效性與可靠性。基于分析結果，工程人員能夠針對性地優化機械結構設計、調整光學參數，采取如改進表面處理工藝、優化隔環布局等有效措施抑制雜散光，從而提升光學系統的整體性能與可靠性。
展開 線上培訓 | 第14期《 ASAP 光學系統雜散光分析與控制 》 招生中
本培訓即將再次開班，以下為本培訓的課程及詳情：
培訓大綱
雜散光術語
輻射度學基礎
雜散光成因
雜散光影響、雜散光控制
雜散光分析、評價方法、分析軟件對比
ASAP 雜散光分析流程、步驟：關鍵表面和照明表明
散光特性、散射模型
消光漆/表面處理
光學表面污染
散射特性測量儀對比、重點區域采樣
衍射雜散光、
PST 分析：衍射元件的雜散光分析
小孔衍射的雜散光分析
鬼像分析、光學設計中的雜散光控制
遮光罩和擋光環設計、自身熱輻射分析
雜散光計算器、擴展面源雜散光分析
散射特征測試介紹、PST 測試介紹、光陷阱
培訓書籍
報名培訓即可免費贈送此書
培訓詳情
展開 第24期線上培訓招生 | Ansys Zemax 照明設計與雜散光分析
為適應我國光電行業飛速發展的需要，提高我國光學設計人員的專業水平，武漢宇熠將在2023年2月23日-24日舉辦線上培訓 —— 『Ansys Zemax 照明設計與雜散光分析』。
培訓將為大家系統性地介紹非序列模式的建模邏輯、光源建模、優化方法、雜散光分析等主題。
線上課程（第六期） | ZEMAX 照明設計與雜散光分析培訓招生中
線上課程（第六期） | ZEMAX 照明設計與雜散光分析培訓招生中
線上課程（第六期） | ZEMAX 照明設計與雜散光分析培訓招生中
課程大綱
01 非序列光線追跡
02 光源物體
03 探測器物體
04 分辨率 VS 噪聲
05 照明單位 & 幾何量
06 光源建模
07 光源建模：IESNA & EULUMDAT 模型
08 光源建模：Source Radial
09 光原建模：內置幾何模型
10 光原建模：使用測量數據
11 生成 Source Model 光線
12 模擬光源光譜
13 色度學
14 建模彩色光源
15 測量顏色數據
16 照明系統
17 拋物面反射器
18 Sobol 采樣
19 BMP 位圖優化
20 復合拋物面聚光器 CPC
21 背光模組 物體陣列 & 光源陣列
22 復雜幾何體
23 嵌套規則
24 原生布爾物體和布爾 CAD 物體
25 CAD 導入 & 導出
26 使用混合模式
27 偏振光線追跡
28 物體屬性：面分組 & 屬性
29 光線分裂
30 X-Cube 棱鏡
31 簡單光線分裂
32 非序列設置
33 故障排查：光線追跡中止條件
34 故障排查：幾何錯誤
35 “ Inside of ” 標識
36 故障排查：膠合距離
37 故障排查：面元物體 & 繪圖精度
38 序列模式轉換成非序列模式
39 雜散光分析介紹
40 散射
41 雜散光分析工具
42 Maksutov 雜散光分析
43 非序列鬼像分析
44 非序列系統公差分析
課程信息
費用：費用均為 1680元/人
培訓形式：線上培訓
課程日期：2021 年 1 月 28 日- 29 日
展開 光學系統像質受雜散光干擾？OAS 光學軟件剖析解難題
庫克三片式案例分析
簡介
在光學系統設計與優化過程中，雜散光的分析與控制是確保系統成像質量和性能的關鍵環節。庫克三片式鏡頭作為經典的光學結構，在眾多光學領域中具有廣泛的應用。然而，其復雜的光學元件組合和光線傳播路徑，使得雜散光的產生難以避免，從而影響系統的成像清晰度和對比度。本案例旨在利用 OAS 光學軟件對庫克三片式鏡頭進行精確的雜散光分析，為優化光學系統性能提供科學依據。
案例設置與操作
參數配置
本案例中的庫克三片式鏡頭采用半孔徑為 9mm 的平行光源作為輸入。為模擬真實的光學環境，選取了三個典型波長，分別為 0.486μm、0.587μm、0.656μm，覆蓋了可見光波段的關鍵區域。同時，為了更準確地模擬光線在鏡片表面的反射和透射特性，對三個透鏡均賦予了堆棧膜層。這些膜層通過精確的光學薄膜設計，能夠有效控制光線的反射和透射比例，是模擬實際光學系統雜散光產生機制的重要參數。
光線追跡設置
在本案例中，通過軟件內置的光線追跡算法，對從平行光源發出的光線進行追蹤。軟件可根據設定的光學元件參數和膜層特性，準確計算光線在各個鏡片表面的反射、折射和透射情況，為雜散光分析提供基礎數據。
鬼像探測器配置
在本次分析中，對鬼像探測器進行了針對性的光線過濾設置，將分裂級次大于等于 2 作為過濾條件。這一設置能夠有效篩選出那些經過多次反射和折射，對雜散光產生有重要影響的光線。通過對這些特定光線的追蹤和分析，可清晰識別出系統中潛在的雜散光來源和傳播路徑。
庫克三片式 雜散光分析的三維追跡圖
庫克三片式 雜散光分析的鬼像探測器結果圖
庫克三片式 雜散光分析的探測器結果圖
總結
以上案例詳細呈現了 OAS 軟件在庫克三片式雜散光分析中的應用。
展開 ZEMAX | 雜散光分析——第三篇
下圖為使用篩選字串單獨顯示第二條路徑的結果，更詳細的描述可參考雜散光分析文章的第二篇。
在OpticStudio中，我們可以使用路經分析功能找出主要的雜散光路徑。藉由分析的結果，我們可以對光線在系統內部的路徑有進一步的認知，了解需要對哪些元件和表面進行修正以降低散射光對成像結果的影響。在這個示例中，物件20和21造成的影響最為顯著。若使用的是Premium版的OpticStudio，我們可以使用路徑分析功能辨別雜散光源，并直接透過動態連接的方式進行CAD元件（Autodesk Inventor/Creo Parametric）的改善。光學設計者得以透過OpticStudio中各式的功能，發現并修正機構元件對成像質量造成的負面影響。
展開 光學設計好書推薦 ---雜散光抑制設計與分析
雜散光抑制設計與分析
內容簡介
雜散光是光學系統中非正常傳輸光的總稱，它對光學系統的成像質量有嚴重的影響。雜散光的分析、計算以及消除是確保光學系統成像質量的重要前提。本書討論了光學系統工程實施中亟待解決的問題，從雜散光的基本理論出發，給出了雜散光分析的路徑，從而實現對光學系統進行消除雜散光的設計。與以往文獻僅論述光學散射和雜散光的原理不同，它們很少討論雜散光在工程實踐中的應用。本書不但總結了這些重要科學成果，為更詳細的研究提供了索引信息，而且還將這些科學成果應用于光學系統工程中。同時，本書還考慮了執行雜散光分析時的經濟學問題，這也是當前文獻中缺乏的一個維度。書中為各種預算提供了方法和解決方案，同時量化了每種方法相關的準確性。
作者簡介
Eric C.Fest是美國雷神公司資深光學設計工程師，擅長偏振光學、光度學、傳感器設計、地球測量等。
精彩書評
與以往文獻僅論述光學散射和雜散光的原理不同，它們很少討論雜散光在工程實踐中的應用。本書不但總結了這些重要科學成果，為更詳細的研究提供了索引信息，而且還將這些科學成果應用于光學系統工程中。同時，本書還考慮了執行雜散光分析時的經濟學問題，這也是當前文獻中缺乏的一個維度。書中為各種預算提供了方法和解決方案，同時量化了每種方法相關的準確性。
展開 
書籍推薦---《雜散光抑制設計與分析》
內容簡介
雜散光是光學系統中非正常傳輸光的總稱，它對光學系統的成像質量有嚴重的影響。雜散光的分析、計算以及消除是確保光學系統成像質量的重要前提。本書討論了光學系統工程實施中亟待解決的問題，從雜散光的基本理論出發，給出了雜散光分析的路徑，從而實現對光學系統進行消除雜散光的設計。與以往文獻僅論述光學散射和雜散光的原理不同，它們很少討論雜散光在工程實踐中的應用。本書不但總結了這些重要科學成果，為更詳細的研究提供了索引信息，而且還將這些科學成果應用于光學系統工程中。同時，本書還考慮了執行雜散光分析時的經濟學問題，這也是當前文獻中缺乏的一個維度。書中為各種預算提供了方法和解決方案，同時量化了每種方法相關的準確性。
作者簡介
Eric C.Fest是美國雷神公司資深光學設計工程師，擅長偏振光學、光度學、傳感器設計、地球測量等。
精彩書評
與以往文獻僅論述光學散射和雜散光的原理不同，它們很少討論雜散光在工程實踐中的應用。本書不但總結了這些重要科學成果，為更詳細的研究提供了索引信息，而且還將這些科學成果應用于光學系統工程中。同時，本書還考慮了執行雜散光分析時的經濟學問題，這也是當前文獻中缺乏的一個維度。書中為各種預算提供了方法和解決方案，同時量化了每種方法相關的準確性。
展開 FRED應用：TMT MOBIE成像光譜儀的概念設計階段雜散光分析
本文以MOBIE為背景，使用FRED軟件對其雜散光部分進行了預評估。
緒論
寬視場光學光譜儀(MOBIE)是視覺受限的光學光譜儀，它是為第一代Thirty Meter
Telescope (TMT)儀器而設計的。目前MOBIE儀器處于概念設計階段。本文記錄了成像模塊配置中雜散光分析的進展。在項目的這一階段雜散光分析的目標是提供預期的雜散光背景的基線評估。為此，我們完成了四個量的雜散光計算：
? 關鍵物體的識別
? 預估雜散光背景
? 離軸抑制特性
? 鬼像的形成
分析基于一個完整的系統模型（盡管簡化過）的端到端光線追跡，包括帽型圓頂、望遠鏡光學器件、支撐結構、MOBIE儀器光學器件和外殼。
圖1.完整的TMT-MOBIE雜散光分析模型
TMT-MOBIE幾何模型
端到端系統模型如圖2所示（隱藏了圓頂壁）。MOBIE儀器的成像模塊配置如圖3所示。一對大氣色散校正（ADC）棱鏡剛好位于視場光闌孔徑的前面。視場光闌是一個彎曲的掩膜，與TMT焦面的曲率相匹配，且傳輸5.4±2.1弧分×±4.8弧分的矩形視場。視場光闌是儀器內部主要的雜散光控制機構。反射瞄準儀（MC-1）沿著視場光闌。二色分束鏡透射和反射光線到紅色和藍色鏡頭部件中。隨后折疊到折射式照相機裝置中。
展開 線上精品課 |《ASAP 光學系統雜散光分析與控制》第四期 招生中
雜散光術語
02. 輻射度學基礎
03. 雜散光成因
04. 雜散光影響、雜散光控制
05. 雜散光分析、評價方法、分析軟件對比
06. ASAP 雜散光分析流程、步驟
07. 散光特性、散射模型
08. 消光漆/表面處理
09. 光學表面污染
10. 散射特性測量儀對比、重點區域采樣
11. 衍射雜散光、PST 分析
12. 鬼像分析、光學設計中的雜散光控制
13. 遮光罩和擋光環設計、自身熱輻射分析
14. 雜散光計算器、擴展面源雜散光分析
15. 散射特征測試介紹、PST 測試介紹、光陷阱
培訓說明
本培訓為線上直播培訓
培訓內容作業練習跟蹤，老師答疑
培訓結束后支持1個月錄播回放觀看
1. 培訓方安裝最新正版軟件（僅限培訓期間使用）。
2. 包郵贈送配套教材一本《雜散光抑制設計與分析》一本。
3. 為保證課程質量，課程均采用小班授課模式。
舉辦單位：武漢墨光科技有限公司
培訓日期：2021年5月24日——5月29日（18課時，3課時/天）
培訓費用：1580元/人（不含稅）
團體（三人及以上）報名可以享受八折優惠，報名咨詢請掃描下方“二維碼”或點擊文末“閱讀原文”即可
展開 線下培訓 | 第31屆《 ASAP 光學系統雜散光分析與控制 》 招生中
ASAP · 雜散光分析與控制 · 線下培訓
ASAP 光學系統分析軟件一直因其強大的功能和超快的運算速度在光學設計領域擁有眾多使用者。武漢墨光長久以來成功召開多期《 ASAP 光學系統雜散光分析與控制》線上線下培訓，完善的課程體系、配套的學習資料，獲得大家的一致好評。
本次培訓即將于05月29日-06月02日再次開班，共計5天時間，課程涉及【理論知識+案例實操】兩個模塊的學習，講師現場互動答疑，旨在讓所有學員能夠熟練掌握 ASAP 高級光學系統分析軟件。
