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這個例子主要涵蓋了整個工作流程中的Speos部分，介紹了雜散光分析的概念，并演示了Speos的功能：Zemax Importer工具, light expert (LXP)光線追跡和序列檢測雜散光。操作流程概述上圖是使用Ansys工具分析相機系統雜散光的典型工作流程。工作流程可分為四個部分:1.

因此，如何找出這些非預期的光線來源，并增添新的元件以吸收或阻擋這些能量，將會是雜散光分析環節的重要課題。本文是系列文章的第二篇，將介紹如何使用路徑分析（Path Analysis）功能和篩選字串（filter string）辨別雜散光的路徑。 簡介 我們已在 系列文章的第一篇 （點擊查看）介紹了觀察雜散光的基礎知識。

雜散光問題出現在幾乎所有的光機系統或者照明系統中。通過遮擋或者移除零件、表面涂漆或者在光學器件表面鍍膜都可以減少或者消除雜散光。在本案例中，我們將闡述雜散光的定義并且介紹怎樣利用FRED來分析和避免雜散光問題。 1. 什么是雜散光？ 簡單來說，雜散光就是系統不需要的噪音，它是由光機結構、視場外光源或者不完善的光學零件產生的，還有可能是由光學或系統自身的熱輻射引起的。

本文將說明如何進行機構元件的雜散光分析。我們可以在原始的系統中匯入CAD檔案作為OpticStudio的一個物件，并賦予它特定的光學特性。藉由路徑分析功能的協助，我們可以明確的辨識出機構元件產生的雜散光線。 在進行光學系統設計時，光學工程師可根據分析的結果對機構工程師提出系統改進的要求。本文是雜散光分析系列文章中的最后一篇。

如何找出這些由非預期光線所產生的能量，并試著以外加的光學元件吸收或阻擋這些光線，將是雜散光分析中至關重要的環節。 本文是三篇雜散光分析系列文章中的第一篇，將介紹如何將序列系統轉至非序列模式中，并觀察此時系統產生的雜散光。 簡介 一般情況下，在進行機構的設計之前，我們必須先考慮雜散光的影響。

雜散光分析是光學和機械裝配驗證的重要步驟。本文演示了在非序列模式下使用過濾字符串功能的雜散光分析技術，以及支持特性。下載聯系工作人員獲取附件簡介 在進行雜散光分析時，光學設計工程師可能會問以下問題:從各種光學或機械表面反射產生的鬼影影響有多大?反射超過四次的光線能傳遞多少能量?隔板在限制探測器雜散光方面有多有效?

光學表面黑化處理;鬼像分析;練習4 紅外系統冷反射;練習5 ZEMAX導入的鬼像分析;衍射雜散光;邊緣衍射效應的幾何模擬;紅外系統雜散光-自身熱輻射分析;練習6 非球面手機鏡頭鬼像分析;雜散光處理;遮光罩和擋光環設計;雜散光測量;散射特征測試介紹、PST測試介紹散光術語.

最近雜散光分析的進步使得這種方法對于望遠鏡/設備的分析變得更有效率。?當前的電腦分析程序，比如FRED，能夠以前所未有的更復雜和詳細的程度來分析整個系統。這些進步允許直接比較詳細構造的電腦模型產生的焦平面雜散光分析圖像，和實際點光源產生的圖像數據來做比較。這種比較也可以用來驗證復雜的雜散光模型，例如這篇論文中的案例。

雜散光分析、評價方法、分析軟件對比 ASAP 雜散光分析流程、步驟：關鍵表面和照明表明 散光特性、散射模型 消光漆/表面處理 光學表面污染 散射特性測量儀對比、重點區域采樣 衍射雜散光、 PST 分析：衍射元件的雜散光分析

本培訓即將再次開班，以下為本次培訓的課程及詳情：01 培訓大綱雜散光術語;輻射度學基礎;雜散光成因;雜散光影響、雜散光控制;雜散光分析和評價方法;ASAP雜散光分析流程、步驟;練習1 找關鍵和被照表面;練習2 重點區域位置和大小計算;練習3 雜散光

輻射度學基礎 雜散光成因 雜散光影響、雜散光控制 雜散光分析、評價方法、分析軟件對比 ASAP 雜散光分析流程、步驟 練習 1 — 找關鍵和被照表面

雜散光分析是光學和機械裝配驗證的重要步驟。本文演示了在非序列模式下使用過濾字符串功能的雜散光分析技術，以及其他重要功能。簡介在進行雜散光分析時，光學設計工程師可能會問以下問題: 從各種光學或機械表面反射產生的鬼影影響有多大? 反射超過四次的光線能傳遞多少能量? 隔板在限制探測器雜散光方面有多有效?

附件下載聯系工作人員獲取附件概要雜散光分析是光學和機械裝配驗證的重要步驟。本文演示了在非序列模式下使用過濾字符串功能的雜散光分析技術，以及支持特性。簡介在進行雜散光分析時，光學設計工程師可能會問以下問題: 從各種光學或機械表面反射產生的鬼影影響有多大? 反射超過四次的光線能傳遞多少能量?

任何光學系統都會存在雜散光，成像系統雜散光是可見光光學系統中需要重點分析的雜散光來源之一，預期設計的光線經過折射光學元件的過程中，會有少量的非預期光線經過散射、反射也到達像面，對正常光路成像產生負面影響。因此，在設計光學系統的過程中為保證系統的正常運行，要盡可能將雜散光降低。

如何分析雜散光？此前，進行雜散光分析需要借助物理原型。這意味著雜散光只有在相關流程結束時才能進行測量，但此時對產品設計進行修改為時已晚。單色儀和光譜輻射儀等工具可幫助工程師了解雜散光，但代價是增加構建整個設備的時間和成本。如今，工程師依靠Ansys Optics仿真軟件對光學系統進行建模，并早在構建物理原型之前就主動解決雜散光的影響。

簡介 在進行雜散光分析時，光學設計工程師可能會問以下問題: 從各種光學或機械表面反射產生的鬼影影響有多大? 反射超過四次的光線能傳遞多少能量? 隔板在限制探測器雜散光方面有多有效?

為適應我國光電行業飛速發展的需要，提高我國光學設計人員的專業水平，武漢宇熠將在2023年2月23日-24日舉辦線上培訓 —— 『Ansys Zemax 照明設計與雜散光分析』。 培訓將為大家系統性地介紹非序列模式的建模邏輯、光源建模、優化方法、雜散光分析等主題。

紅外雜散光案例分析簡介在紅外成像系統的設計中，雜散光始終是制約成像質量的核心問題。紅外波段的雜散光易源于光學元件反射、機械結構漫反射及遮光設計缺陷，直接導致成像對比度下降、信噪比降低，甚至出現偽影，影響目標識別精度。

本文以MOBIE為背景，使用FRED軟件對其雜散光部分進行了預評估。 緒論 寬視場光學光譜儀(MOBIE)是視覺受限的光學光譜儀，它是為第一代Thirty Meter Telescope (TMT)儀器而設計的。目前MOBIE儀器處于概念設計階段。本文記錄了成像模塊配置中雜散光分析的進展。在項目的這一階段雜散光分析的目標是提供預期的雜散光背景的基線評估。

機械元件的雜散光分析簡介在光學系統設計與工程實踐中，機械元件的雜散光問題對系統性能有著不容忽視的影響。雜散光會降低光學系統的信噪比、圖像對比度，甚至導致系統功能失效。因此，準確分析機械元件雜散光并采取有效抑制措施，是保障光學系統高質量運行的關鍵環節。