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鬼像分析

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創建者:墨光科技 創建時間:2020-03-24
鬼像分析圖1

鬼像分析的實例教程

OpTaliX提供最真實準確的鬼像分析。通過分析所有可能的透鏡表面,軟件所提供的全自動搜索功能有助于分析鬼像產生的原因。它包含在光學表面,因材料吸收及漸暈中的多層膜波長的相關影響而產生。下圖呈現的是在透鏡中包含AR材料和吸收10片式鏡頭元件目標所呈現的鬼像鬼像分析是基于內置的逆光線追跡算法,它不需要重建光學系統,只要插入和復制表面,就可以表示鬼像路徑。它允許瞬時鬼像分析,也可以用非常快速的方法去確定最大干擾的表面組合。 鬼像是由于光學系統對表面間進行分析,形成了意想不到的圖像。透鏡表面具有的反射光強度取決于應用于這些表面的玻璃折射率本身的增透膜類型。透鏡內表面的光反射將被再次反射,可能形成靠近成像表面的圖像。這樣虛擬的圖像被稱為鬼像。 表面可能的組合數有助于n(n-1)/2的鬼像,其中n指在系統里透鏡表面的數值。表面數值增長,鬼像概率也隨之增長。具有10個鏡頭(20個表面)的變焦鏡頭可產生190個可能的鬼像。 不同于其他光學設計程序,OpTaliX不要求預選傳軸基礎和最大干擾的面對(如果不是全部出錯這可能是極具誤導性的),不需要建立每個面對的設計,也不需要編寫宏去存儲大量數據到文件中,或根據需要在其他軟件包顯示外部程序提供的數據。 OpTaliX完全可以避免和效率低下的工作。注意下圖呈現的是從零開始,約20 分鐘,1.7 GHz 的奔騰機,包含所有的表面組合體,AR材料和對吸收的影響。而在其他程序中你將需要幾小時或幾天去創建和測試宏和軟件的接口。 示例表明的是在一個徑向內元件的線追跡,第一次的反射發生在表面三而第二次的反射發生在表面二。表面數值說明更多虛擬表面不需要模擬路徑。
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OpTaliX提供最真實準確的鬼像分析。通過分析所有可能的透鏡表面,軟件所提供的全自動搜索功能有助于分析鬼像產生的原因。它包含在光學表面,因材料吸收及漸暈中的多層膜波長的相關影響而產生。下圖呈現的是在透鏡中包含AR材料和吸收10片式鏡頭元件目標所呈現的鬼像鬼像分析是基于內置的逆光線追跡算法,它不需要重建光學系統,只要插入和復制表面,就可以表示鬼像路徑。它允許瞬時鬼像分析,也可以用非常快速的方法去確定最大干擾的表面組合。 鬼像是由于光學系統對表面間進行分析,形成了意想不到的圖像。透鏡表面具有的反射光強度取決于應用于這些表面的玻璃折射率本身的增透膜類型。透鏡內表面的光反射將被再次反射,可能形成靠近成像表面的圖像。這樣虛擬的圖像被稱為鬼像。 表面可能的組合數有助于n(n-1)/2的鬼像,其中n指在系統里透鏡表面的數值。表面數值增長,鬼像概率也隨之增長。具有10個鏡頭(20個表面)的變焦鏡頭可產生190個可能的鬼像。 不同于其他光學設計程序,OpTaliX不要求預選傳軸基礎和最大干擾的面對(如果不是全部出錯這可能是極具誤導性的),不需要建立每個面對的設計,也不需要編寫宏去存儲大量數據到文件中,或根據需要在其他軟件包顯示外部程序提供的數據。 OpTaliX完全可以避免和效率低下的工作。注意下圖呈現的是從零開始,約20 分鐘,1.7 GHz 的奔騰機,包含所有的表面組合體,AR材料和對吸收的影響。而在其他程序中你將需要幾小時或幾天去創建和測試宏和軟件的接口。 示例表明的是在一個徑向內元件的線追跡,第一次的反射發生在表面三而第二次的反射發生在表面二。表面數值說明更多虛擬表面不需要模擬路徑。
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OpTaliX提供最真實準確的鬼像分析。通過分析所有可能的透鏡表面,軟件所提供的全自動搜索功能有助于分析鬼像產生的原因。它包含在光學表面,因材料吸收及漸暈中的多層膜波長的相關影響而產生。下圖呈現的是在透鏡中包含AR材料和吸收10片式鏡頭元件目標所呈現的鬼像鬼像分析是基于內置的逆光線追跡算法,它不需要重建光學系統,只要插入和復制表面,就可以表示鬼像路徑。它允許瞬時鬼像分析,也可以用非常快速的方法去確定最大干擾的表面組合。 鬼像是由于光學系統對表面間進行分析,形成了意想不到的圖像。透鏡表面具有的反射光強度取決于應用于這些表面的玻璃折射率本身的增透膜類型。透鏡內表面的光反射將被再次反射,可能形成靠近成像表面的圖像。這樣虛擬的圖像被稱為鬼像。 表面可能的組合數有助于n(n-1)/2的鬼像,其中n指在系統里透鏡表面的數值。表面數值增長,鬼像概率也隨之增長。具有10個鏡頭(20個表面)的變焦鏡頭可產生190個可能的鬼像。 不同于其他光學設計程序,OpTaliX不要求預選傳軸基礎和最大干擾的面對(如果不是全部出錯這可能是極具誤導性的),不需要建立每個面對的設計,也不需要編寫宏去存儲大量數據到文件中,或根據需要在其他軟件包顯示外部程序提供的數據。 OpTaliX完全可以避免和效率低下的工作。注意下圖呈現的是從零開始,約20 分鐘,1.7 GHz 的奔騰機,包含所有的表面組合體,AR材料和對吸收的影響。而在其他程序中你將需要幾小時或幾天去創建和測試宏和軟件的接口。 示例表明的是在一個徑向內元件的線追跡,第一次的反射發生在表面三而第二次的反射發生在表面二。表面數值說明更多虛擬表面不需要模擬路徑。
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鬼像分析圖2

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總結 本文和相應的實例文件,演示了在FRED中為您的光學設計文件準備鬼像分析的過程,介紹了能夠幫助自動運行二階鬼像分析的一個腳本工具。腳本運行后,使FRED文件包含了系統中所有二階鬼像路徑的結果,提供了所有二階鬼像路徑的摘要信息,另外為每個鬼像表面對創建了獨特的用戶定義光線路徑,這樣一旦有需要,就能夠被追跡。
13)進行鬼像分析,150°范圍內的燈光,鬼像相對能量小于 1*10e-6 看到這個要求后,分析系統的參數,系統的焦距較短,像面較大,而且畸變為-5%~1%,所以這個只能是一個ftanθ系統。視場角大概在100°左右,所以這個系統為一個廣角系統。 常見的廣角系統構型有雙高斯和反遠攝構型。
以下是本次研討會的具體介紹: 會議大綱 01 SYNOPSYS V16.104版本更新說明 02 SYNOPSYS 鬼像分析實例演示 03 SYNOPSYS 冷反射分析實例演示 會議詳情 會議講師 :武漢墨光科技資深光學工程師 主辦單位 :武漢墨光科技有限公司 會議時間 :2024年5月24日(15:00-16:00) 報名方式
更新了鬼像分析菜單。 (1) 精簡了鬼像分析菜單,將以前在兩個獨立對話框中顯示的 "二次反射鬼像圖表 "和 "二次反射特殊鬼像路徑 "合并為一個對話框,標題為 "二次反射鬼像圖表"。在這個新對話框中,可以單擊選項框激活單獨鬼像路徑分析選項。 (2) 在二次反射鬼像分析(包括單獨路徑分析)中,更新了點列圖、曲面圖和偽彩色圖的繪制圖形。 3. 更新了冷反射分析菜單。
接下來,運行鬼像分析工具。
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Day3 : SYNOPSYS 成像設計 光學膜層的定義、設計和優化; SYNOPSYS 鬼像分析和優化; 紅外冷反射分析; 特殊面型的介紹和實例; SYNOPSYS 設計和優化實例: · 非球面手機鏡頭;
平臺中并進行光機械封裝和分析 ? 結合 FEA 分析工具得到的具體熱形變和結構分析數據,通過 STAR 模塊展現系統的整體性能情況 ? Zemax 軟件集合可以幫助您: - 多種實用功能幫助您完成高斯光束傳播模擬 - 分析由于光學以及機械元件導致的能量吸收損耗 - 在設計和優化階段中,結合雜散光模擬和鬼像分析的唯一解決方案
; 練習4 紅外系統冷反射; 練習5 ZEMAX導入的鬼像分析; 衍射雜散光; 邊緣衍射效應的幾何模擬; 紅外系統雜散光-自身熱輻射分析; 練習6 非球面手機鏡頭鬼像分析; 雜散光處理; 遮光罩和擋光環設計; 雜散光測量; 散射特征測試介紹、PST測試介紹散光術語.