分辨率的案例
“SAR可以在任何天氣條件下獲取高分辨率的地面圖像”，什么是“任何天氣條件”，“高分辨率”？
SAR可以在任何天氣條件下獲取高分辨率的地面圖像，是因為雷達技術不會受到天氣條件的影響。相比于光學成像技術（如衛星拍攝的照片），雷達可以穿透云層、雨雪、霧霾等天氣條件，從而獲取目標表面的反射信息。因此，SAR可以在多種天氣條件下獲取高分辨率的地面圖像，包括晴天、雨天、夜晚等。
“高分辨率”指的是SAR系統可以獲取到很細小的目標特征，例如可以分辨出建筑物、樹木、河流等地表細節。SAR系統的分辨率受到多個因素的影響，包括雷達波長、天線尺寸、孔徑大小等。一般來說，SAR系統的分辨率越高，獲取到的圖像細節就越豐富，對于地質勘探、軍事偵察等領域的應用就越有優勢。
展開 案例分享 | 用 VIRES VTD 實現智能網聯汽車應用的多分辨率交通仿真
根據距離標準，以 EGO 汽車為中心定義一個感興趣的區域，其中的仿真必須滿足所定義的高分辨率要求。由于 EGO 汽車會連續行駛穿過虛擬環境，這個感興趣的區域有可能隨之移動。為此我們將整個仿真區域動態地劃分為高分辨率區域（HRA）和低分辨率區域（LRA）。
圖 4：仿真區域的動態劃分
圖 5：仿真分辨率的滯后控制
圖4 給出了動態空間劃分的示意圖。其中，以 EGO 車輛為中心的圓形定義為高分辨率區域。紅色車輛處于圓內，因此仿真時采用高分辨率的亞微觀仿真器；而綠色車輛處于圓外，因此仿真時采用低分辨率的微觀仿真器。微觀仿真中的所有車輛（而亞微觀仿真只包含高分辨率車輛）及其運動適用于其在微觀仿真器中的替代物。由于道路交通的動態性質，允許 EGO 汽車、高分辨率車輛以及低分辨率車輛連續移動。因此，在完成每一個時間步長的仿真后進行指定分辨率模式的分類。經過分類將分辨率變更的車輛轉給相應的仿真器。在每一個時間步長里，分辨率的變更可以是雙向的。但由于高分辨率區域是以 EGO 汽車為中心定義的，因此該車總是采用高分辨率仿真。為避免高分辨率與低分辨率邊界附近的車輛在這兩種分辨率區域之間過于頻繁地切換，在分類過程中采用了如圖 5 所示的滯后控制器。如圖 3 所示，定義了兩個閾值 Rin 和 Rout。只有當車輛與 EGO 汽車的距離小于 Rin 的值時才轉為高分辨率仿真。只有當距離超過閾值 Rout 時才會切換回低分辨率仿真。
展開 Ansys Zemax | 繪圖分辨率結果對光線追跡的影響
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概要
大多數時候，非序列系統中原生本機物體的默認繪圖分辨率足以提供光線和物體在光線追跡期間交點位置的 “初步預測”。然而在某些情況下，光線會錯過它原本要擊中的物體。這個罕見的現象通常只出現在光線入射劇烈彎曲物體時，此時而增加繪圖分辨率能在這種情況下確保光線擊中物體。
簡介
在OpticStudio的非序列模式中，繪圖分辨率設置用于在每個物體周圍生成一個 “邊界區域”。如果光線不穿過邊界，則程序假定光線不會擊中物體。在某些情況下，這意味著當分辨率設置得太低時，光線可能會錯過它應該擊中的對象。
繪圖分辨率設置僅適用于布局圖。該設置會影響物體的渲染方式，并提供光線和物體交點位置的 “初步預測”。對于光線追跡，只要繪圖分辨率能夠提供充分的初步預測，其精度將不被繪圖分辨率設置所限制。
簡單示例
在附件文件中，您將看到繪圖分辨率對光線追跡影響的示例。
一個由高斯光源、環形面和矩形探測器組成的系統被復制了四次，在每個系統中，光源都位于靠近環形面一端的位置，以便讓光源產生的所有光線都進入由環形面定義的管道。請注意，環形面的材質是 “反射鏡 (MIRROR) ”，因此所有進入管道的光線都會在管道表面反彈，并擊中位于管道末端的探測器。
作為比較，除了環形面的繪制分辨率外，所有4種系統的其他設置都是相同的。該屬性在每個環形面的繪圖屬性中定義，并在非序列元件編輯器的標注欄中標注：
3D視圖上一些光線正從管道中逸出，而環形面分辨率越高，逸出的光線就越少。
為了表明這不僅僅是繪圖渲染的結果，我們將啟動光線追跡。
展開 普通視頻轉高清：10個基于深度學習的超分辨率神經網絡
超分辨率是什么？
超分辨率是基于人類視覺系統提出的概念。1981年諾貝爾醫學獎獲獎者David Hubel、Torsten Wiesel，發現人類視覺系統的信息處理方式是分層級的。第一層是原始的數據輸入。當人看到一個人臉圖像時，首先會先識別出其中的點、線等邊緣。然后進入第二層，會識別出圖像中一些基本的組成元素，比如眼睛、耳朵、鼻子。最后，會生成一個對象模型，也就是一張張完整的臉。
而我們在深度學習中的卷積神經網絡（如下圖為例），就是模仿了人類視覺系統的處理過程。正因此，計算機視覺是深度學習最佳的應用領域之一。超分辨就是計算機視覺中的一個經典應用。
超分辨率是通過軟件或硬件方法，提高圖像分辨率的一種方法。它的核心思想，就是用時間帶寬換取空間分辨率。簡單來講，就是在我無法得到一張超高分辨率的圖像時，我可以多拍幾張圖像，然后將這一系列低分辨率的圖像組成一張高分辨的圖像。這個過程叫超分辨率重建。
為什么超分辨率可以通過多拍幾張圖像，就能提高圖片分辨率呢？
這牽涉到抖動。我們經常說的拍照防抖動，其實防的是較明顯的抖動，但微小的抖動始終存在。在拍攝同一場景的每張圖像之間，都有細微差別，這些微小的抖動其實都包含了這個場景的額外信息，如果將他們合并，就會得到一張更為清晰的圖像。
有人可能會問，我們手機都能前后置兩千萬，為什么需要超分辨率技術呢？這種技術應用場景是不是不多？
其實不是。了解攝影的人都知道。在相同的感光元器件上，拍攝的圖像分辨率越高，在感光元器件上，單個像素占的面積越小，那會導致通光率越低，當你的像素密度到達一定程度后，會帶來大量噪聲，直接影響圖像質量。超分辨率就可以解決這種問題。
展開 
高分辨率臺階儀，精準掌控細節測量
什么是臺階儀分辨率？
臺階儀分辨率是指在臺階儀的測量范圍內，儀器能夠精確分辨出的最小距離。分辨率越高，儀器就能夠分辨出更小的表面形貌差異，得到更精確的測量結果。通常來說，臺階儀的橫向分辨率與儀器所用的探測器的像素大小有關。如果探測器像素越小，那么儀器就能夠分辨出更小的表面形貌差異，從而提高橫向分辨率。
CP系列臺階儀采用的線性可變差動電容傳感器（LVDC），具備超微力調節的能力和亞埃級的分辨率，具有測量精度高、測量速度快、適用范圍廣等優點。結合單拱龍門式設計降低環境噪聲干擾，確保儀器具有良好的測量精度及重復性。
為什么臺階儀的高分辨率很重要？
分辨率對于測量結果的精度和準確性有著至關重要的影響。如果分辨率不足夠高，那么儀器就不能夠分辨出表面的微小形貌差異，從而產生測量誤差。這對于精度要求較高的表面測量應用來說尤其重要。如，在半導體制造、納米技術、生物醫學等領域，精確測量材料表面的微觀臺階高度對于產品質量控制和生產效率至關重要。通過使用高分辨率的臺階儀，制造商可以確保產品的質量和性能，同時提高生產效率。
臺階儀分辨率是衡量儀器精度和準確性的關鍵指標。通過選擇合適的探測器和精細的儀器調整，我們可以提高橫向分辨率，獲得更高的精度和準確性。定期校準和保護儀器穩定也是掌握精度細節的重要步驟：
1. 選擇像素大小適合的探測器，并根據實際需求調整儀器的像素設置。
2. 改善儀器的光路設計和透鏡系統，以提高橫向分辨率。
3. 定期校準儀器。定期校準可以確保儀器的精度穩定，并及時發現和修正任何偏差。
4. 在測量過程中，保持儀器的穩定和準確定位。盡可能地避免外部干擾和振動。
展開 如何跨越10納米分辨率極限
由于衍射極限的存在，寬場顯微鏡的分辨率被限制在橫向 200nm，軸向 600nm，視野中橫向或軸向距離小于這兩個數值的兩點就無法被區分。為了跨越這一衍射極限，2006 年，Betzig 和莊小威等人同時且分別提出 PALM 和 STORM 兩種單分子定位成像技術。
單分子成像技術是現存最靈敏、分辨率最高的顯微成像技術之一，它使用不同種類的特殊染料使得熒光分子的發光有一定的時序，避免了分子同時發光導致的相互遮蔽，因此超越了衍射極限，將分辨率提升至 ~20nm。但是，20nm 的分辨率尚不足以用于探測真正意義上的“分子”，而實現對尺寸在數納米的小分子的探測又對理解真實生命體中的生化反應至關重要。
圖1：單分子定位成像技術原理示意圖
圖源：Nat Methods 3, 793–796 (2006), Fig. 1
單從原理上看，單分子定位甚至能實現無限小的分辨率，影響其分辨率的可能只有噪聲帶來的定位精度下降這一因素。人們相信 20nm 遠不是這一技術的分辨率極限，因此很多研究人員付出了大量的努力，不斷開發出分辨率更高、性能更加優越的成像系統。但是，這些研究不約而同地遇到了“10 納米”這一壁壘，主要體現在兩個方面：
1）當小分子間的距離為幾個納米時，熒光分子的探測率都下降嚴重，因此許多微小的結構信息都被成像系統遺漏；
2）熒光分子發射光子的各向異性會引發大量的定位誤差。
這些因素都導致 10 納米成為單分子定位技術分辨率的“極限”。
這一極限產生的原因是什么呢？又是怎樣才能克服它呢？
圖2：光開關指紋分析：光開關循環發生率如指紋一樣獨特又如條形碼一樣成為分子距離的讀取途徑
圖源：Dr.
展開 ZEMAX | 使用點擴散函數的衍射極限成像系統的分辨率
成像系統（例如顯微鏡）的衍射極限分辨率可以通過不同方式表征。在本文中，我建議使用在 OpticStudio 中計算的點擴散函數 (PSF) 來客觀衡量這些成像系統的分辨率。文中介紹了重疊圖像（探測器）平面上兩個點的 PSF 的兩種方法。第一種方法使用多重結構編輯器，第二種方法使用圖像模擬工具。文中比較了這兩種方法，并討論了它們的優缺點。（聯系我們獲取文章附件）
簡介
成像系統的性能與其分辨率有關，但分辨率的定義各不相同。在超分辨率顯微鏡中，傅里葉環相關[1]用于評估分辨率。在衍射極限顯微鏡中，分辨率是用瑞利或斯派羅準則估算的[2]。在實踐中，這些系統的分辨率也可以用微粒測量，微粒選擇明顯小于預期分辨率，選定上述標準之一。這些微粒充當形成 PSF 的點發源，其尺寸給出了圖像分辨率的估計值，同樣，該尺寸根據其定義而變化。在本文中，我們使用 OpticStudio 中的 PSF 來更客觀地評估衍射極限成像系統的分辨率。
方法一：多重結構編輯器（相干成像）
顯微鏡設計
在整篇文章中，我使用了基于 TL4X-SAP 物鏡（4X，0.2 NA）和 TTL200 管鏡的顯微鏡設計，如圖1所示。這兩種透鏡都可由 THORLABS 網站以黑盒形式提供。
圖 1 - 由 THORLABS 的黑匣子元件組成的顯微鏡設計。放大倍數為 4X，數值孔徑 (NA) 為0.2。
我們使用“真實圖像高度”定義并指定了在 X 和 Y 半寬為6.656毫米的正方形上具有相等面積的五個視場，對應于物平面中的1.664毫米。視場由像面中具有2048x2048像素和13.312x13.312mm
2物理尺寸的科學 CMOS (sCMOS) 探測器進行建模。
展開 ZEMAX軟件技術應用教程專題繪圖分辨率結果對光線追跡的影響
大多數時候，非序列系統中原生本機物體的默認繪圖分辨率足以提供光線和物體在光線追跡期間交點位置的 “初步預測”。然而在某些情況下，光線會錯過它原本要擊中的物體。這個罕見的現象通常只出現在光線入射劇烈彎曲物體時，此時而增加繪圖分辨率能在這種情況下確保光線擊中物體。
作者 Alessandra Croce
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簡介
在OpticStudio的非序列模式中，繪圖分辨率設置用于在每個物體周圍生成一個 “邊界區域”。如果光線不穿過邊界，則程序假定光線不會擊中物體。在某些情況下，這意味著當分辨率設置得太低時，光線可能會錯過它應該擊中的對象。
繪圖分辨率設置僅適用于布局圖。該設置會影響物體的渲染方式，并提供光線和物體交點位置的 “初步預測”。對于光線追跡，只要繪圖分辨率能夠提供充分的初步預測，其精度將不被繪圖分辨率設置所限制。
簡單示例
在附件文件中，您將看到繪圖分辨率對光線追跡影響的示例。
一個由高斯光源、環形面和矩形探測器組成的系統被復制了四次，在每個系統中，光源都位于靠近環形面一端的位置，以便讓光源產生的所有光線都進入由環形面定義的管道。請注意，環形面的材質是 “反射鏡 (MIRROR) ”，因此所有進入管道的光線都會在管道表面反彈，并擊中位于管道末端的探測器。
作為比較，除了環形面的繪制分辨率外，所有4種系統的其他設置都是相同的。該屬性在每個環形面的繪圖屬性中定義，并在非序列元件編輯器的標注欄中標注：
3D視圖上一些光線正從管道中逸出，而環形面分辨率越高，逸出的光線就越少。
為了表明這不僅僅是繪圖渲染的結果，我們將啟動光線追跡。
展開 網格分辨率：粗、中、細的排序
第二屆 AIAA 幾何和網格生成研討會通過采用定量定義來消除網格分辨率的定性，隨著我們朝著 2030 年的 CFD 愿景邁進，該定義將不斷發展。
當被問及網格的分辨率時，您是否回答過“哦，這只是一個粗糙的網格”？
但粗糙相對于什么？
我們使用粗略和精細等術語作為相對于正常狀態的簡單描述符。
但正常的是什么？
每個應用程序都有不同的要求，隨著我們專業知識的發展和計算能力的增長，這些要求可能會隨著時間的推移而變化。
但是怎么改？
粗、中、細 - 哦，我的
第三屆 AIAA CFD 高升力預測研討會 (HiLiftPW-3) 主要是一項網格收斂性研究，網格分辨率水平主要由壁間距指南、鈍后緣上的網格點數量以及總網格的三倍來定義分辨率級別之間的大小。這些級別被命名為粗糙、中等、精細和極精細。中分辨率網格通常定義為您在正常工作中使用的網格。
所以粗相對于中等。
正常適用于您的日常工作。
但是沒有隨時間變化的概念。
GMGW-1 HL-CRM 機翼上表面的中等分辨率網格。
2030年決議
通過考慮NASA 的 CFD 2030 愿景研究，我們獲得的好處之一是放眼長遠，讓 CFD 擺脫一些人所說的十年左右的停滯，并從戰略上思考我們如何提高 CFD 的能力以實現2030 年的目標。
并且該研究表明，到 2030 年，具有 10-1000 億個單元格的網格將是正常的，而 10 12 個單元格只是網格收斂研究的正常部分。
如果 10 9細胞被歸類為 HiLiftPW-3 的超細 tet 網格，那么您到底會怎么稱呼 10 12？什么最高級可以加在“fine”前面？極端主義者？極好的？你怎么記得哪個更大？
在準備 GMGW-2 時，組委會創建了一個可量化的分辨率命名法，并考慮了隨時間的增長。
這是給定的。
展開 ZEMAX軟件技術應用專題：使用點擴散函數的衍射極限成像系統的分辨率
成像系統（例如顯微鏡）的衍射極限分辨率可以通過不同方式表征。 在本文中，我建議使用在OpticStudio中計算的點擴散函數 (PSF) 來客觀衡量這些成像系統的分辨率。文中介紹了重疊圖像（探測器）平面上兩個點的PSF的兩種方法。 第一種方法使用多重結構編輯器，第二種方法使用圖像模擬工具。文中比較了這兩種方法，并討論了它們的優缺點。
成像系統的性能與其分辨率有關，但分辨率的定義各不相同。在超分辨率顯微鏡中，傅里葉環相關[1]用于評估分辨率。 在衍射極限顯微鏡中，分辨率是用瑞利或斯派羅準則估算的[2]。在實踐中，這些系統的分辨率也可以用微粒測量，微粒選擇明顯小于預期分辨率，選定上述標準之一。這些微粒充當形成PSF的點發源，其尺寸給出了圖像分辨率的估計值，同樣，該尺寸根據其定義而變化。在本文中，我們使用OpticStudio中的PSF來更客觀地評估衍射極限成像系統的分辨率。
方法一：多重結構編輯器（相干成像）
顯微鏡設計
在整篇文章中，我使用了基于TL4X-SAP物鏡（4X，0.2 NA）和TTL200管鏡的顯微鏡設計，如圖1所示。這兩種透鏡都可由THORLABS網站以黑盒形式提供。
圖 1 - 由THORLABS的黑匣子元件組成的顯微鏡設計。放大倍數為4X，數值孔徑 (NA) 為0.2。
我們使用“真實圖像高度”定義并指定了在X和Y半寬為6.656毫米的正方形上具有相等面積的五個視場，對應于物平面中的1.664毫米。視場由像面中具有2048x2048像素和13.312x13.312mm2物理尺寸的科學 CMOS (sCMOS) 探測器進行建模。這些探測器通常用于顯微鏡，可以在Orca-Flash4.0 V3 (Hamamatsu) 或Zyla 4.2 plus (Andor) 等相機產品中找到。
展開 高分辨率生物3D打印機
雙光子3D打印技術原理
根據雙光子吸收（2PA）的空間選擇性，2PA的概率在焦點之外顯著降低，因此也降低了熒光體積，實現了更高的空間分辨率。通過熒光顯微鏡中單光子束路徑和多光子束路徑的直接比較顯示，2PA僅出現在光束的焦點處。因此，單體交聯僅在焦平面上發生。因為聚合反應取決于非線性吸收，而在1光子吸收的情況下，發射光會沿整個光束吸收。這解釋了為什么逐層生產采用基于單束光子的工藝（例如立體光刻）生產的零件，而雙光子零件卻可以3D打印小于100 nm分辨率的物體。
△雙光子3D打印技術原理
專利技術：自適應分辨率
使用獲得專利的UpNano自適應分辨率技術，可以顯著提高生產制造效率。軟件在高分辨率和低分辨率區域對選定的幾何圖形進行分類，并相應地調整激光體素大小。
高生產率。為了提高生產效率，在保持打印部件的機械性能的同時，擴大了激光焦點，以提高產量。
高分辨率。激光器緊緊聚焦，在表面以達到最高的分辨率。
激光的焦點可以擴大，或者精確地聚焦在外殼和精細的細節上。因此，可以顯著提高生產率，同時更快地打印內部區域。
△活細胞存在下的生物相容性3D打印
關于UpNano
UpNano成立于2018年9月，是維也納工業大學的孵化公司，總部位于維也納，致力于基于雙光子聚合的高分辨率3D打印系統開發、制造和商業化。公司的第一個商業產品，3D打印系統NanoOne，可以打印結構細節≥170nm的微零件。由于打印過程非常快，因此還可以實現高度高達幾厘米的中尺度零件。
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Ansys Zemax | 使用點擴散函數的衍射極限成像系統的分辨率
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概要
成像系統（例如顯微鏡）的衍射極限分辨率可以通過不同方式表征。在本文中，我建議使用在 OpticStudio 中計算的點擴散函數 (PSF) 來客觀衡量這些成像系統的分辨率。文中介紹了重疊圖像（探測器）平面上兩個點的 PSF 的兩種方法。第一種方法使用多重結構編輯器，第二種方法使用圖像模擬工具。文中比較了這兩種方法，并討論了它們的優缺點。
簡介
成像系統的性能與其分辨率有關，但分辨率的定義各不相同。在超分辨率顯微鏡中，傅里葉環相關[1]用于評估分辨率。在衍射極限顯微鏡中，分辨率是用瑞利或斯派羅準則估算的[2]。在實踐中，這些系統的分辨率也可以用微粒測量，微粒選擇明顯小于預期分辨率，選定上述標準之一。這些微粒充當形成 PSF 的點發源，其尺寸給出了圖像分辨率的估計值，同樣，該尺寸根據其定義而變化。在本文中，我們使用 OpticStudio 中的 PSF 來更客觀地評估衍射極限成像系統的分辨率。
方法一：多重結構編輯器（相干成像）
顯微鏡設計
在整篇文章中，我使用了基于 TL4X-SAP 物鏡（4X，0.2 NA）和 TTL200 管鏡的顯微鏡設計，如圖1所示。這兩種透鏡都可由 THORLABS 網站以黑盒形式提供。
圖 1 - 由 THORLABS 的黑匣子元件組成的顯微鏡設計。放大倍數為 4X，數值孔徑 (NA) 為0.2。
我們使用“真實圖像高度”定義并指定了在 X 和 Y 半寬為6.656毫米的正方形上具有相等面積的五個視場，對應于物平面中的1.664毫米。視場由像面中具有2048x2048像素和13.312x13.312mm 2 物理尺寸的科學 CMOS (sCMOS) 探測器進行建模。
展開 基于深度學習的超分辨率圖像技術一覽
如今已經有各種深度學習的超分辨率模型。這些模型依賴于有監督的超分辨率，即用LR圖像和相應的基礎事實（GT）HR圖像訓練。雖然這些模型之間的差異非常大，但它們本質上是一組組件的組合，例如模型框架，上采樣方法，網絡設計和學習策略等。從這個角度來看，研究人員將這些組件組合起來構建一個用于擬合特定任務的集成SR模型。
由于圖像超分辨率是一個病態問題，如何進行上采樣（即從低分辨率產生高分辨率）是關鍵問題。基于采用的上采樣操作及其在模型中的位置，SR模型可歸因于四種模型框架：預先采樣SR，后上采樣SR，漸進上采樣SR和迭代上下采樣SR，如圖所示。
除了在模型中的位置之外，上采樣操作如何實現它們也非常重要。為了克服插值法的缺點，并以端到端的方式學習上采樣操作，轉置卷積層（Transposed Convolution Layer）和亞像素層（Sub-pixel Layer）可以引入到超分辨率中。
轉置卷積層，即反卷積層，基于尺寸類似于卷積層輸出的特征圖來預測可能的輸入。具體地說，它通過插入零值并執行卷積來擴展圖像，從而提高了圖像分辨率。為了簡潔起見，以3×3內核執行2次上采樣為例，如圖所示。首先，輸入擴展到原始大小的兩倍，其中新添加的像素值被設置為0（b）。然后應用大小為3×3、步長1和填充1的內核卷積（c）。這樣輸入特征圖實現因子為2的上采樣，而感受野最多為2×2。
由于轉置卷積層可以以端到端的方式放大圖像大小，同時保持與vanilla卷積兼容的連接模式，因此它被廣泛用作SR模型的上采樣層。
展開 Ansys Zemax | 使用點擴散函數的衍射極限成像系統的分辨率
聯系工作人員獲取附件
成像系統（例如顯微鏡）的衍射極限分辨率可以通過不同方式表征。在本文中，我建議使用在 OpticStudio 中計算的點擴散函數 (PSF) 來客觀衡量這些成像系統的分辨率。文中介紹了重疊圖像（探測器）平面上兩個點的 PSF 的兩種方法。第一種方法使用多重結構編輯器，第二種方法使用圖像模擬工具。文中比較了這兩種方法，并討論了它們的優缺點。
簡介
成像系統的性能與其分辨率有關，但分辨率的定義各不相同。在超分辨率顯微鏡中，傅里葉環相關[1]用于評估分辨率。在衍射極限顯微鏡中，分辨率是用瑞利或斯派羅準則估算的[2]。在實踐中，這些系統的分辨率也可以用微粒測量，微粒選擇明顯小于預期分辨率，選定上述標準之一。這些微粒充當形成 PSF 的點發源，其尺寸給出了圖像分辨率的估計值，同樣，該尺寸根據其定義而變化。在本文中，我們使用 OpticStudio 中的 PSF 來更客觀地評估衍射極限成像系統的分辨率。
方法一：多重結構編輯器（相干成像）
顯微鏡設計
在整篇文章中，我使用了基于 TL4X-SAP 物鏡（4X，0.2 NA）和 TTL200 管鏡的顯微鏡設計，如圖1所示。這兩種透鏡都可由 THORLABS 網站以黑盒形式提供。
圖 1 - 由 THORLABS 的黑匣子元件組成的顯微鏡設計。放大倍數為 4X，數值孔徑 (NA) 為0.2。
我們使用“真實圖像高度”定義并指定了在 X 和 Y 半寬為6.656毫米的正方形上具有相等面積的五個視場，對應于物平面中的1.664毫米。視場由像面中具有2048x2048像素和13.312x13.312mm2物理尺寸的科學 CMOS (sCMOS) 探測器進行建模。
展開 SAR系統波長和分辨率是什么關系呢？
波長和分辨率之間存在一定的關系。一般來說，波長越短，分辨率越高。
在SAR系統中，分辨率是指系統可以分辨出兩個距離很近的目標之間的最小距離差，也就是系統能夠識別的最小物體尺寸。分辨率的大小受到多個因素的影響，其中包括雷達波長。雷達波長越短，可以探測到更小的目標，也就是說，SAR系統的分辨率越高。這是因為在雷達波長相同的情況下，更短的波長會產生更高的頻率，從而使得系統能夠更準確地探測到目標表面的微小特征。
需要注意的是，SAR系統的分辨率不僅受到波長的影響，還受到天線尺寸、孔徑大小等因素的影響。因此，在實際應用中，需要綜合考慮多種因素來確定SAR系統的分辨率。
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