鍍膜技術的案例
專訪維達力：PVD裝飾鍍膜市場規模持續成長，Aluminlux?賦能全產業鏈高質量發展
PVD鍍膜技術在家電數碼領域商業模式分析
2. PVD鍍膜技術在金屬配飾領域商業模式分析
3. PVD鍍膜技術在日用五金領域商業模式分析
三、PVD鍍膜在裝飾鍍層領域市場規模趨勢分析
1. 家電數碼領域PVD鍍膜市場規模趨勢分析
2. 金屬配飾領域PVD鍍膜市場規模趨勢分析
3. 日用五金領域PVD鍍膜市場規模趨勢分析
第五章 全球其他領域PVD鍍膜技術及市場發展趨勢
一、PVD鍍膜技術在其他領域應用介紹
1. PVD鍍膜技術在新能源領域應用介紹
2. PVD鍍膜技術在半導體領域應用介紹
3. PVD鍍膜技術在建筑及交通領域應用介紹
4. PVD鍍膜技術在存儲領域應用介紹
5. PVD鍍膜技術在其他領域應用介紹
二、PVD鍍膜技術在其他領域商業模式分析
1. PVD鍍膜技術在新能源領域商業模式分析
2. PVD鍍膜技術在半導體領域商業模式分析
3. PVD鍍膜技術在建筑及交通領域商業模式分析
4. PVD鍍膜技術在存儲領域商業模式分析
5. PVD鍍膜技術在其他領域商業模式分析
三、PVD鍍膜在其他領域市場規模趨勢分析
1. 新能源領域PVD鍍膜市場規模趨勢分析
2. 半導體領域PVD鍍膜市場規模趨勢分析
3. 建筑及交通領域PVD鍍膜市場規模趨勢分析
4. 存儲領域PVD鍍膜市場規模趨勢分析
5.
展開 PVD鍍膜應用市場不斷擴增，至2025年國內市場規模CAGR 13%
摘要：CINNO Research預測，隨著PVD鍍膜技術應用日趨廣泛，下游應用領域市場也保持上升趨勢，中國大陸PVD鍍膜市場規模將不斷擴張，到2025年國內市場規模將保持GAGR 13%的增速。
近年來功能材料薄膜和復合薄膜不斷出現多元化方向的需求，鍍膜技術及薄膜產品在工業上的應用日益廣泛，在電子材料領域中占有極其重要的地位。
這其中，鍍膜方法一般可以分為氣相生成法、氧化法、離子注入法、擴散法、電鍍法、涂布法、液相生長法等，氣相生成法又可以分為物理氣相沉積法、化學氣相沉積法和原子層沉積法。
物理氣相沉積法也稱PVD鍍膜技術，包括真空蒸發、濺射鍍膜和離子鍍等，是基本的薄膜制備技術，都要求沉積薄膜的空間要有一定的真空度。磁控濺射鍍膜是PVD鍍膜技術的一種，是近十幾年來發展迅速的一種表面薄膜技術，是最先進的表面處理方法之一。
CINNO Research預測，隨著PVD鍍膜技術應用日趨廣泛，下游應用領域市場也保持上升趨勢，中國大陸PVD鍍膜市場規模將不斷擴張，到2025年國內市場規模將保持GAGR 13%的增速。
圖示：2016-2025年中國大陸PVD鍍膜市場規模趨勢預測 來源：CINNO Research
PVD鍍膜技術優勢諸多
PVD鍍膜技術的實質就是在真空中進行氣相沉積，由于其在制備薄膜方面的特別優勢，已引起越來越多的重視。PVD鍍膜技術較傳統的電鍍等工藝方法，在成本、環保、產品質量、裝飾效果、能源消耗等方面均具有較大的優勢，在顯示、觸控、新能源、半導體、汽車等領域得到廣泛應用。
其中，磁控濺射鍍膜具有諸多優勢，例如薄膜與基體結合力好，薄膜致密度較高；濺射范圍廣，可以沉積鉭、鋁、銅、鈦等金屬靶材，也可沉積ITO、AZO等非金屬靶材；能夠實現大面積靶材的濺射沉積，且沉積均勻性好。
展開 論高功率光學鍍膜的復雜情況
圖 3: 采用離子輔助沉積 (IAD) 技術的蒸鍍室
離子束技術現在已得到承認，并廣泛用于薄膜鍍膜的制造，它可以作為熱蒸鍍的強化方式 (IAD)，也可以作為濺射技術（離子束濺射 (IBS)）。IBS 是高級沉積技術，但是不存在決定性證據支持其產生的損傷閾值高于熱蒸鍍方式。
高級等離子體反應濺射 (APRS) 技術是最先進的流程，但是只用于規格非常嚴格的應用。例如, 非偏振平板分光鏡 可使用 APRS，因為對 S 偏振光和 P 偏振光的容忍能力很低。APRS 也很少與傳統的光學元件搭配使用，因為無法使用此方法對最適用于高功率應用的某些基底執行濺射。此外，蒸鍍的工作能力通常大于 APRS，這意味著蒸鍍在每次鍍膜操作中可以固定更多的基底。
鍍膜流程控制
許多參數在高功率光學鍍膜的沉積中發揮重要作用，其中包括沉積速率、基底溫度、氧分壓（用于包括介電金屬氧化物的設計）、厚度校準，材料熔化預處理和電子槍掃描。控制不佳的蒸鍍流程會從光源產生濺射，導致顆粒凝結在基底表面上和沉積的鍍膜中。這類凝結會產生潛在的損傷缺陷區域。遺憾的是，有些材料可用于高損傷閾值鍍膜，但很難順利沉積。生產結果是潔凈的高損傷閾值鍍膜，還是功率容量低得多的高散射鍍膜，區別在于應用于電子槍掃描的設置。
沉積速率、基底溫度與氧分壓（用于介電氧化物）可確定生長膜的化學計量性質，這會大幅影響沉積薄膜中金屬氧化物的化學性質。必須對這些參數進行優化和控制，以生產具有所需金屬氧化物含量和結構的同質層。
在鍍高功率增透 (AR) 膜時，沉積薄膜的厚度準確性是符合所需反射率的重要因素。高功率高反射性（反射鏡）鍍膜一般對小的厚度誤差不太敏感，因為高折射率層和低折射率層的折射率比值提供了相對寬廣的反射率范圍。
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展開 第十七屆TFCalc光學薄膜設計軟件培訓（2023年6月7-9日）
地點和時間
開課時間：2023年6月7-9日
開課地點：南京
主辦單位
光研科技南京有限公司(TFCalc軟件亞太地區獨家總代)
南京波長光電科技股份有限公司
OPSS新加坡光學與光子學學會
特邀專家
宋治平先生
高級工程師，江蘇省光學學會鍍膜專業委員會副主任，任茂萊光學副董事長、副總經理、總工程師。從事光學真空鍍膜30余年，具有豐富的設計與實操經驗。
李全民先生
光學工程碩士，高級工程師，南京波長光電科技股份有限公司鍍膜技術總監。25年鍍膜專業設計和工藝經驗，曾設計和制作過光通訊各種濾光片，光學塑膠鏡片常見膜系，高功率激光薄膜，紅外薄膜等，波長范圍含蓋了從紫外到中遠紅外，尤其在激光高損傷閾值膜系和各種紅外膜系方向有豐富的設計和實操經驗。
謝玉春先生
光學工程學士，資深工程師，現任南京波長光電科技股份有限公司智能事業部總經理。研究主要方向是光機自動化與控制、高能激光傳輸以及光學薄膜設計。出版的TFCalc和ZEMAX中文使用手冊成為了光學愛好者學習不可缺少的書籍資料。開發ZEMAX GB Drawer軟件，此軟件已經列入美國ZEMAX公司產品目錄。獲得多項專利，并被評為江寧先進科技工作者。
展開 設計和優化衍射1：5×5光束分束器元件
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展開 LightTools.v5.1.incl.SP1-ISO 1CD（簡體中文漢化版）
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展開 【加工工藝】常見的塑料表面處理工藝
隨著塑料加工與改性技術不斷提高，應用領域迅速擴展。不同應用領域對塑料表面裝飾、材料保護、改善 粘接等性能要求日益增多，但各種塑料材料結構與組分不同，相應的表面性能也有明顯差異。適應不同應用的各種表面處理技術與產品應運而生。
一、模內裝飾技術(IMD)：是將已印刷好圖案的膜片放入金屬模具內，將成形用的樹脂注入金屬模內與膜片接合,使印刷有圖案的膜片與樹脂形成一體而固化成成品的一種成形方法。
特點：裝飾圖文、標識內藏，不受摩擦或化學腐蝕而消失；圖文、標識及顏色設計可隨時改變，而無需更換模具；三維立體形狀產品的，印刷精度準確，誤差±0.05mm；能提供圖文、標識透光性及高透光性的視窗效果；功能按鍵凸泡均勻、手感好，壽命可達100萬次以上；三維變化，可增加設計者對產品設計的自由度；復合成型加工達到無縫效果。
二、噴涂( Painting )：利用噴q等噴射工具把涂料霧化后，噴射在被涂工件上的涂裝方法。工藝流程：注塑→底漆→烘干→面漆→烘干技術特點：
優點：顏色豐富；液體環境中加工，可實現復雜結構的表面處理；工藝成熟、可量產；有獨特的透明度，光澤度高。
缺點：成本過高，低成本定位產品不適用于此工藝；工藝相對復雜，良率較低。
三、NCVM不導電真空鍍：又稱不連續鍍膜技術或不導電電鍍技術，是采用鍍出金屬及絕緣化合物等薄膜，利用各不連續之特性，得到最終外觀既有金屬質感且不影響到無線通訊傳輸之效果。
技術特點：所制產品不導電，可以通過高壓電表幾萬伏特的高壓測試，不導通或不被擊穿；所制產品表面具有金屬質感的同時可實現半透明化控制。
四、電鍍：使塑料以較高成品率及較低成本獲得金屬效果表面。
展開 重大突破：我國研制出世界上最大口徑單體碳化硅反射鏡！
早在2003年，中科院長春光機所就開始對大口徑碳化硅光學反射鏡制造技術進行探索攻關，2009年底，面向國家對大型光學儀器的戰略需求，中央財政投入1.96億元人民幣的國家重大科研裝備研制項目“4米量級高精度碳化硅非球面反射鏡集成制造系統”，正式在中科院長春光機所立項啟動。
項目啟動后，張學軍領導的研發團隊通過多年持續技術攻關，突破一系列關鍵技術瓶頸，先后完成碳化硅鏡坯制備、非球面加工檢測、碳化硅表面改性鍍膜的制造設備研制與制造工藝研究，形成了具有自主知識產權的“4米量級高精度碳化硅非球面集成制造平臺”，并依托集成制造平臺完成4米量級高精度碳化硅非球面產品研制。
其中，在碳化硅材料制備技術方面，項目研發團隊建立大口徑碳化硅鏡坯制造平臺，并先后研制成功可用于可見光成像的2米、2.4米、3米單體碳化硅鏡坯和4米口徑整體碳化硅鏡坯，而此前國際上公認1.5米是單體碳化硅反射鏡的極限口徑，從而實現中國大口徑碳化硅光學材料制備的自主可控。
中科院長春光機所研制成功的直徑4.03米口徑高精度碳化硅非球面反射鏡。孫自法 攝
在大口徑碳化硅非球面加工檢測技術方面，項目研發團隊突破大口徑碳化硅非球面高精度高效加工技術瓶頸，并解決了高精度零位檢測精度標定、調整誤差分離、投影畸變校正等關鍵問題，完成4米量級碳化硅非球面高精度加工，加工精度優于16納米，全面實現4米量級碳化硅高精度加工與檢測技術自主可控。
在大口徑碳化硅改性鍍膜技術方面，項目研發團隊在國際上首次研制成功碳化硅反射鏡改性與反射膜鍍制一體化設備，提升膜層質量與可靠性，實現4米口徑碳化硅反射鏡表面高反射率薄膜鍍制，可見至長波紅外全譜段反射率優于95%。
展開 關于PVD 表面處理技術及其應用
(7）復合涂層的相關技術指標的檢驗方法與標準如表2 所示。
鑲塊通過PVD 處理，表面光潔度得到很大提升，在沖壓過程中，板料與模具的摩擦力減少，產品的拉傷問題可以得到很好的解決，再加上模具表面硬化，可以減緩模具的磨損速度，提升模具的使用壽命，而且模具可以反復做PVD 處理，亦可以大大延長模具的使用周期。
表2 復合涂層相關技術指標的檢驗方法與標準
結束語
PVD 鍍膜技術鍍出的膜層，具有高硬度、高耐磨性、高耐腐蝕性及化學穩定性，膜層的壽命更長，經過批量的應用及生產驗證，不僅汽車沖壓件的拉傷問題得到了長期的解決，而且對比其他表面處理技術，PVD 表面處理技術具有基材不易變形、不易開裂、可反復鍍膜的優勢，廣泛應用于沖壓模具領域，大大解決了模具拉毛問題及汽車外覆蓋件面品問題。
作者簡介
鄒華娟
沖壓工藝工程師，主要從事模具工藝及結構設計，并研究冷沖壓模具的表面處理工藝等工作，其參與的《既環保又降本的新工藝運用——PPD》項目獲公司科技進步獎三等獎，《C5C6 高速自動化模具改造項目》獲公司科技進步獎二等獎。
——來源：《鍛造與沖壓》2021年第4期
展開 
表面處理技術分享（第二十講：塑件的表面處理方法匯總簡述）
2、看需求：側重裝飾選噴涂、真空鍍膜、熱轉印；側重功能選電鍍（導電）、阻燃/抗靜電/抗菌處理；
3、看批量：小批量選手工噴涂、激光雕刻；大批量選自動噴涂、電鍍生產線、真空鍍膜。
冷噴涂技術之介紹與應用
臺灣科技大學 多功能材料制造實驗室 / 陳品杰 研究生
(轉載自繁體版ACMT電子技術月刊No.091)
前言
過去幾年修復的技術一直是以傳統的焊接和鑄造等方式為主，過程既費時又費力。面對材料的腐蝕及破損，時常會遇到難以透過傳統方式修復的狀況，而現在冷噴涂技術的出現對國防、太空科技、民間生活皆帶來巨大的影響，我們只需要將原材料的粉末透過特殊的噴嘴進行噴涂即可修復材料，或進行不同種類的涂層鍍膜，例如防蝕和防銹等。除此之外，冷噴涂不僅攜帶方便、成本便宜，又可以增加材料的機械強度，可說是近期鍍膜技術的亮點之一。
冷噴涂的原理簡介
冷噴涂技術，又稱冷氣動力噴涂或冷氣動能噴涂，在冷噴涂過程中，我們會施加低壓氣體至氣體加熱器，使空氣進行加熱，之后通入預室使氣流更加平滑順暢。當氣體經過冷噴嘴喉部時，會進行加速，并在粉末供應器部分形成負壓，使粉末流入噴嘴中，并以超音速撞擊基材。，其核心原理是當金屬粒子超過一定速度（臨界速度）時，在撞擊時附著在基材表面。相對于傳統的熱噴涂技術，冷噴涂技術的工作溫度較低，可以有效避免材料氧化和熔化，從而保證涂層的質量和性能。
圖1：(a)為冷噴涂的簡易示意圖；(b)冷噴涂系統的架設
冷噴涂的優點
冷噴涂技術具有噴涂效率高、涂層附著力強、成本較低等特點，使其在各行業中得到廣泛應用。
冷噴涂的主要優勢之一是低溫處理，有助于避免熱應力和相變，保持基材和涂層材料的物理特性。冷噴涂能實現高附著力，顆粒以高沖擊速度發生塑性變形，導致涂層和基材之間的機械鎖合，確保非常高的附著力，使涂層堅固耐用。冷噴涂還能產生低孔隙率的致密涂層，這對于需要耐腐蝕的應用尤為有利。再來冷噴涂的多樣性也是一大優勢，可以處理各種材料，包括高熔點材料和難以處理的材料，如鈦和鎳基合金。
展開 讓產品好看——塑料的表面處理知識
工藝流程：注塑→底漆→烘干→面漆→烘干
技術特點：
優點：
1、顏色豐富；
2、液體環境中加工，可實現復雜結構的表面處理；
3、工藝成熟、可量產；
4、有獨特的透明度，光澤度高。
缺點：
1、成本過高，低成本定位產品不適用于此工藝；
2、工藝相對復雜，良率較低。
3、制品難以回收利用。
四、NCVM不導電真空鍍（Non-Conductive vacuum Metalize）
NCVM:又稱不連續鍍膜技術或不導電電鍍技術，是采用鍍出金屬及絕緣化合物等薄膜，利用各不連續之特性，得到最終外觀既有金屬質感且不影響到無線通訊傳輸之效果。
工藝流程:
技術特點:
1、所制產品不導電，可以通過高壓電表幾萬伏特的高壓測試，不導通或不被擊穿
2、所制產品表面具有金屬質感的同時可實現半透明化控制。
五、塑料電鍍
電鍍：使塑料以較高成品率及較低成本獲得金屬效果表面。與PVD相似，PVD是物理原理，電鍍是化學鍍，主要分為真空電鍍和水電鍍。
工藝流程：
水電鍍工藝流程
技術特點：
優點：
1、重量減輕；
2、全面節省成本；
3、較少的加工工序；
4、仿真金屬零件。
缺點：
1、包括金屬插件在成型過程中不能變更；
2、塑模制造大于200平方英寸的零件比拉模之鑄造困難的多；
3、電鍍塑料用于某類家庭用具時存在著火的危險。
六、絲印
塑膠件印刷：是通過移印、網印、轉印等方法將所需圖案印制在塑膠件表面的一種工藝。
移印：是一種間接的可凹膠頭印刷技術，先將設計的圖案蝕刻在印刷平板上，把蝕刻板涂上油墨，然后，通過硅膠頭將其中的大部分油墨轉印到被印刷物體上。
展開 【專業積累】塑膠產品變好看，有哪些表面處理方式？
工藝流程：注塑→底漆→烘干→面漆→烘干
技術特點：
優點：
1、顏色豐富；
2、液體環境中加工，可實現復雜結構的表面處理；
3、工藝成熟、可量產；
4、有獨特的透明度，光澤度高。
缺點：
1、成本過高，低成本定位產品不適用于此工藝；
2、工藝相對復雜，良率較低。
3、制品難以回收利用。
四、NCVM不導電真空鍍（Non-Conductive vacuum Metalize）
NCVM:又稱不連續鍍膜技術或不導電電鍍技術，是采用鍍出金屬及絕緣化合物等薄膜，利用各不連續之特性，得到最終外觀既有金屬質感且不影響到無線通訊傳輸之效果。
工藝流程:
技術特點:
1、所制產品不導電，可以通過高壓電表幾萬伏特的高壓測試，不導通或不被擊穿
2、所制產品表面具有金屬質感的同時可實現半透明化控制。
五、塑料電鍍
電鍍：使塑料以較高成品率及較低成本獲得金屬效果表面。與PVD相似，PVD是物理原理，電鍍是化學鍍，主要分為真空電鍍和水電鍍。
工藝流程：
水電鍍工藝流程
技術特點：
優點：
1、重量減輕；
2、全面節省成本；
3、較少的加工工序；
4、仿真金屬零件。
缺點：
1、包括金屬插件在成型過程中不能變更；
2、塑模制造大于200平方英寸的零件比拉模之鑄造困難的多；
3、電鍍塑料用于某類家庭用具時存在著火的危險。
六、絲印
塑膠件印刷：是通過移印、網印、轉印等方法將所需圖案印制在塑膠件表面的一種工藝。
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