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為了考慮厚度變化的影響，我們首先將光柵向量分成兩個(gè)分量，K∥和K⊥，其中K⊥為垂直表面法線，K∥與表面法線平行。如果厚度從t到t'發(fā)生變化，則可以透過(guò)修改K∥計(jì)算出新的光柵向量，如方程式（4）。圖 4. 當(dāng)全像材料收縮時(shí)，厚度從t 減少到 t'。我們現(xiàn)在已經(jīng)介紹了體積全像圖模型的基礎(chǔ)知識(shí)。

各家製造商塑膠材料的折射率各有不同，除了因?yàn)榻Y(jié)構(gòu)本身的差異之外，各種不同的添加物也會(huì)造成影響，例如UV吸收劑、塑化劑、脫模劑。此外，射出成型的流程參數(shù)也都有影響。因此，材料供應(yīng)商以及鏡片製造商通常都會(huì)提供精度超過(guò)小數(shù)點(diǎn)後兩位的折射率資料。然而除了單一波長(zhǎng)的折射率以及阿貝數(shù) (Abbe Number) 外，通常就不會(huì)有更多相關(guān)資料了。

某個(gè)角度的一道入射平面波會(huì)在下面兩個(gè)介面中反覆交錯(cuò)無(wú)數(shù)次：空氣到膜層介面以及膜層到基板介面。在每一次的交錯(cuò)中，就相應(yīng)產(chǎn)生一道穿透以及一道反射光場(chǎng)，最後這些光場(chǎng)會(huì)在同調(diào)的假設(shè)下相加。經(jīng)過(guò)一番如魔術(shù)般建設(shè)性以及破壞性干涉後，最後的結(jié)果可以用巨觀的反射以及穿透?jìng)S數(shù)來(lái)表示。入射光的電場(chǎng)並非用單一個(gè)點(diǎn)來(lái)描述，相對(duì)的，我們會(huì)假設(shè)該電場(chǎng)比多重光束干涉發(fā)生的區(qū)域更大許多。

但是，對(duì)於這種類型的DOE，光線追跡引擎將無(wú)法正常工作。垂直入射到DOE上的光線不會(huì)改變其方向，因?yàn)楸砻鏇](méi)有傾斜。但是，垂直入射的光束可以用適當(dāng)設(shè)計(jì)的菲涅耳波帶片聚焦。此效果應(yīng)由OpticStudio中的POP處理。如圖3所示，在該系統(tǒng)中，準(zhǔn)直光束入射在玻璃板上。在玻璃板的背面，已使用菲涅耳波帶片表面類型創(chuàng)建了同心二元結(jié)構(gòu)。

舉例而言，當(dāng)我們無(wú)法得到真實(shí)的鍍膜資訊時(shí)，OpticStudio中的理想(IDEAL)和表定(TABLE)鍍膜設(shè)定就可以派上用場(chǎng)。相似的，Jones Matrix可以在缺乏實(shí)際模型的情況下，用來(lái)表示偏振元件。當(dāng)我們面對(duì)元件資訊不完整的情形時(shí)，Jones Matrix會(huì)是模擬偏極化效應(yīng)(polarization effect)的好幫手。