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但光線追跡上，我們是使用不同的方法來描述的。光線追跡的處理方式是如同上面第一張圖表的。過程中只有三條光線：入射、穿透以及反射。你可以隨意的放大檢視，永遠(yuǎn)只有三條線。膜層本身不用光線追跡來處理，而用不同的函數(shù)來操作。對於光線追跡，光學(xué)相位的超前或延遲都是沿著光線觀察的。Zemax OpticStudio直接追跡光線到基板的位置，忽略中間的膜層及其厚度。膜層被假設(shè)鍍在基板表面之前。

1.3 參數(shù)化 DOE 矢高 -> 利用 FFT/Huygens PSF 光線追跡除了使用相位輪廓來表示DOE之外，還可以直接在序列模式下對詳細(xì)的矢高進(jìn)行建模，並使用傳統(tǒng)的光線追跡引擎設(shè)計(jì)DOE並進(jìn)行FFT和Huygens PSF之類的分析。此方法僅在DOE的特徵尺寸不太接近波長尺度（矢量繞射效果很強(qiáng)）時才有效。因此，該方法不適用於超穎透鏡。

波前的計(jì)算當(dāng)我們說波前時，事實(shí)上通常是指波前 “差”，或是光程差，指的是同一件事。OpticStudio預(yù)設(shè)使用出瞳作為波前差的計(jì)算參考。因此，當(dāng)我們要計(jì)算一條光線的OPD時，此光線會從物面出發(fā)後一路追跡穿過光學(xué)系統(tǒng)，最終到達(dá)像面後，在循原方向後退追跡到 “參考球面”。此參考球面的球心是主光線與像面的交點(diǎn)，半徑是主光線與像面交點(diǎn)到主光線與出瞳面的焦點(diǎn)。

簡介偏振態(tài)分析(polarization analysis)可以作為一般光線追跡的進(jìn)階功能。在模擬的過程中，會將入射光因?yàn)樵砻驽兡ぁ⒎瓷浜臀斩斐傻哪芰繐p耗納入考量。一般的情況下，OpticStudio可以對大多數(shù)的鍍膜或雙折射材料進(jìn)行完整的分析。但有時因?yàn)榉诸悢?shù)據(jù)報(bào)告(Prescription data)不夠齊全，在進(jìn)行模擬時會需要簡化後的模型。

創(chuàng)建導(dǎo)光管主體在非序列元件編輯器中，插入一個空物體（物體1）以及一個矩形體（物體2），如下所示。輸入如下參數(shù)定義矩形體：這里我們采用相對參考（物體-1）而非全局參考，這樣做的好處會在復(fù)制導(dǎo)光管時體現(xiàn)出來。

OpticStudio 同樣支持非參數(shù)化的物體，如多邊形物體 (Polygon Object) 或者導(dǎo)入的CAD物體 (Imported CAD Objects)。這些物體最終由一系列數(shù)據(jù)表示。在某些應(yīng)用中，使用非參數(shù)化的物體有很多優(yōu)勢，例如在進(jìn)行復(fù)雜的光機(jī)雜散光分析中，透鏡的底座和其他機(jī)械件可以通過非參數(shù)化的定義方式快速導(dǎo)入。

這篇Blog介紹了 OpticStudio 中的原生體積全像模擬功能，該功能可以在考慮其物理特性的情況下，在序列模式下對全像光柵進(jìn)行全面模擬和分析。在非序列模式下也透過使用 DLL 展示了相同的功能。這些分析對於設(shè)計(jì)用於虛擬實(shí)境 (VR) 和增強(qiáng)實(shí)境 (AR) 的抬頭顯示器 (HUD) 和頭戴型顯示器 (HMD) 等系統(tǒng)非常重要。我們將介紹模型中使用的理論和參數(shù)。

它用於將光在圖像平面上從非均勻分佈空間轉(zhuǎn)換為均勻輻照度分佈。使用透鏡陣列的數(shù)位投影系統(tǒng)通常與具有提供半準(zhǔn)直入射光的拋物面反射器的燈組件結(jié)合使用。目前，它們主要用於 LCD 數(shù)位元元投影光引擎，以向空間光調(diào)製器照明平面提供均勻照明。在上圖中可以看到透鏡陣列。 （這張照片由 In Vision 提供，www.in-vision.at）。陣列中每個單獨(dú)的光學(xué)元件的形狀可以是正方形或矩形。

在 OpticStudio 中創(chuàng)建的光學(xué)設(shè)計(jì)可以無縫轉(zhuǎn)換為原始 CAD 元件，並且所有光學(xué)資訊都完好無損。使用 OpticsBuilder，機(jī)構(gòu)工程師可以創(chuàng)建複雜的透鏡邊緣、安裝特徵和模組外殼，同時利用 Zemax 光線追跡直接查看這些元件如何影響光學(xué)性能。在這種情況下，鏡頭邊緣可能會為雜散光提供路徑以污染圖像。

概要Zemax OpticStudio非序列模式的對象是3D實(shí)體，薄膜和散射模型是3D實(shí)體的表面特性。本文將從以下幾個方向解釋如何給非序列元件添加鍍膜和散射： 非序列對象中“Face number”的概念。 如何給不同的Face添加鍍膜以及散射模型。 從外部導(dǎo)入CAD結(jié)構(gòu)后的一些對鍍膜散射性質(zhì)的處理。

附件下載聯(lián)系工作人員獲取附件簡介偏振態(tài)分析 (polarization analysis) 可以作為一般光線追跡的進(jìn)階功能。在模擬的過程中，會將入射光因?yàn)樵砻驽兡ぁ⒎瓷浜臀斩斐傻哪芰繐p耗納入考量。一般的情況下，OpticStudio 可以對大多數(shù)的鍍膜或雙折射材料進(jìn)行完整的分析。

附件下載聯(lián)系工作人員獲取附件簡介偏振態(tài)分析 (polarization analysis) 可以作為一般光線追跡的進(jìn)階功能。在模擬的過程中，會將入射光因?yàn)樵砻驽兡ぁ⒎瓷浜臀斩斐傻哪芰繐p耗納入考量。一般的情況下，OpticStudio 可以對大多數(shù)的鍍膜或雙折射材料進(jìn)行完整的分析。

概要Zemax OpticStudio非序列模式的對象是3D實(shí)體，薄膜和散射模型是3D實(shí)體的表面特性。本文將從以下幾個方向解釋如何給非序列元件添加鍍膜和散射： 非序列對象中“Face number”的概念。 如何給不同的Face添加鍍膜以及散射模型。 從外部導(dǎo)入CAD結(jié)構(gòu)后的一些對鍍膜散射性質(zhì)的處理。

當(dāng)它為0時，我們追跡直接穿透的0階，當(dāng)它為1時，我們追跡衍射的1階。請參閱 “ZEMAX | 如何在 OpticStudio 中建模全息圖” 來了解如何區(qū)分透射和反射全息。請注意，在非序列模式的衍射DLL中沒有這個參數(shù)，因?yàn)槲覀兺瑫r追跡0階和1階 order。Volume Hologram：定義面型是體積還是薄全息。當(dāng)?shù)扔?時為 False，如果等于任何非零整數(shù)則為 True。

(聯(lián)系我們下載文章中的附件)簡介偏振態(tài)分析 (polarization analysis) 可以作為一般光線追跡的進(jìn)階功能。在模擬的過程中，會將入射光因?yàn)樵砻驽兡ぁ⒎瓷浜臀斩斐傻哪芰繐p耗納入考量。一般的情況下，OpticStudio 可以對大多數(shù)的鍍膜或雙折射材料進(jìn)行完整的分析。

軟件主界面軟件特色OAS光學(xué)軟件支持從幾何光學(xué)到波動光學(xué)的跨尺度仿真，實(shí)現(xiàn)幾何光學(xué)下的序列與非序列光線追跡，以及波動光學(xué)的全維度分析，能夠滿足車燈設(shè)計(jì)、鏡頭像質(zhì)評估、微納光學(xué)器件、激光應(yīng)用系統(tǒng)、光波導(dǎo)系統(tǒng)等前沿領(lǐng)域的需求，為客戶提供全面且專業(yè)的解決方案。

性能優(yōu)化通過 OAS 光通量分布統(tǒng)計(jì)與點(diǎn)列圖分析，識別核心問題：采用 OAS 非序列光線追跡技術(shù)，分析光損耗路徑后，在聚光透鏡陣列入射端設(shè)計(jì)微結(jié)構(gòu)增透膜，將系統(tǒng)光效從提升；借助雜散光分析模塊定位底片反射雜光來源，在透鏡陣列間增設(shè) 0.5mm 厚遮光片，將雜散光能量占比降低。

非序列光線追跡使光線能夠以任意順序在光學(xué)元件中傳播，從而實(shí)現(xiàn)光線分光和散射。通過光線分光，只需要追跡更少的光線，這可以加速計(jì)算。 增強(qiáng)結(jié)構(gòu)、熱、分析與結(jié)果（STAR）功能（OpticStudio：Enterprise版本）通過全新改進(jìn)的STAR功能，包括對剛體運(yùn)動（RBM）的主動控制，您可以啟用或禁用獨(dú)立于表面變形效應(yīng)的RBM影響，以便在分析過程中實(shí)現(xiàn)更細(xì)粒度的控制。

建模任務(wù) 連接建模技術(shù)：亞波長間隙 受抑全內(nèi)反射（FTIR） 分層介質(zhì)組件 層矩陣求解器 非序列追跡 系統(tǒng)概述（光線結(jié)果概覽：系統(tǒng)3D) 間隙厚度分析 文件信息 延伸閱讀? Stratified Media

更多信息：層矩陣S矩陣非序列追跡 系統(tǒng)概述（光線結(jié)果概覽：系統(tǒng)3D)間隙厚度分析參考文獻(xiàn)：Chang Chien et al. “Design Analysis of a Beam Splitter Based on the Frustrated Total Internal Reflection”, Prog. Electromagn.