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可以使用 OpticStudio 安裝提供的“Laguerre beam”DLL 在 OpticStudio 中對此類模式進行建模：該模型的輸入是光束在徑向 (n) 和方位角 (l) 方向上的順序、束腰 (wo) 和模式旋轉角 (phi0)。

觀察上圖，我們可以看到輸入的圓偏振被轉為線偏振。假如我們將Jones Matrix當作x方向上的半玻板 (Areal = -1, Dreal = +1，其餘元素皆為0)，這時輸出的圓偏振方向會與輸入時相反(例如輸入左旋圓偏振後會產生右旋圓偏振的結果)。

為了研究此效應，反射矢量場投影在圓偏單位矢量坐標系，而后我們測量了右旋圓偏振分量的中心。此外，對Ex和Ey兩個線性偏振入射場，我們旋轉晶體元件并監控位移隨著入射角度的變化。模擬結果如圖15中所示。我們使用參數掃描獲得圖15中的結果。對于每個入射角度，我們使用我們的算法計算了反射場，且在一個大的角度范圍內顯示出了較好的適應性。模擬結果與[45]中的結果匹配的很好。