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除了功能大小的限制之外，此方法的另一個缺點是設計人員可能仍需要定制一些工具來增強OpticStudio提供的功能。例如，如參考文獻[4]中所述，目前尚無原生序列表面支撐起泡的下垂。用戶需要創建自己的序列表面DLL來建模唯一的表面下垂。此外，當前OpticStudio不支援在例如Y-Z平面上顯示橫截面PSF。如參考文獻[4]中所述，需要一個巨集來掃描不同Z位置的PSF並創建圖。

Chong 先生指出：「由於憑傳統經驗和直覺的設計方式已經無法完全掌握日新月異的產品，因此以嚴謹的 CAE 分析計算來決定模具設計品質已成為該公司的絕佳競爭力和業務著力點，模流分析結果更是有效說服客戶修改設計的優質工具。」

同樣，OpticStudio 提供了分析特性的能力，例如最大局部表面斜率，並在優化過程中控制這些特性以確保最終的光學設計是可製造的。射出成型技術使可能的創新光學機構設計技術，具有大規模生產的模塊很多好處。鏡頭可以設計成具有復雜的邊緣特徵，使它們能夠堆疊，從而簡化組裝並消除對齊的需要。Zemax 工具使注塑光學元件的可能性最大化變得簡單。

本文將介紹VHG的工具。關於SRG的工具，請參見知識庫文章Simulating diffraction efficiency of surface-relief grating using the RCWA method。耦合波理論我們來回顧一下耦合波理論，它主要用於體積全像光柵模型。

嘉賓簡介：Olaf Kath 博士于 2001 年在柏林洪堡大學計算機科學研究所獲得博士學位，自2001 年起，他致力于將工具支持的基于模型的技術和方法引入功能安全與信息安全保障流程。Olaf是一位功能安全專家，并在基于最新標準實現功能安全的方法、流程和工具方面擁有豐富的知識和經驗，同時在安全概念的定義、安全分析方法的應用以及軟件架構方面擁有多年的經驗。