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由于憑傳統(tǒng)經(jīng)驗(yàn)和直覺的設(shè)計(jì)方式已經(jīng)無法完全掌握日新月異的產(chǎn)品，因此以嚴(yán)謹(jǐn)?shù)?CAE 分析計(jì)算來決定模具設(shè)計(jì)質(zhì)量已成為該公司的絕佳競爭力和業(yè)務(wù)著力點(diǎn)，模流分析結(jié)果更是有效說服客戶修改設(shè)計(jì)的優(yōu)質(zhì)工具。 –VC Chong, 前工程經(jīng)理 Tokyo Seiki模流分析的過程中有許多項(xiàng)目，可依據(jù)不同觀點(diǎn)和需求另外提出討論。

同時(shí)，非球面鏡參數(shù)和影像波前等數(shù)值也被列入評分的標(biāo)準(zhǔn)。透鏡參數(shù)在光學(xué)設(shè)計(jì)上常使用的最小化Seidel斜向像散的方法可透過在OpticStudio的評價(jià)函數(shù)中加入ASTI操作數(shù)達(dá)成目的，此時(shí)我們將目標(biāo)值設(shè)為0、加大權(quán)重，並且使用單一波長。在縮小遠(yuǎn)點(diǎn)球面上最小模糊圈的方面，我們可以透過OpticStudio的預(yù)設(shè)優(yōu)化函數(shù)和光點(diǎn)半徑標(biāo)準(zhǔn)等功能達(dá)成目的。

隨著 e 接近 ∞，當(dāng)由 Ince-Gaussian DLL 計(jì)算的特徵值解發(fā)散時(shí)，就會到達(dá)一個(gè)點(diǎn)。這種發(fā)散行為是計(jì)算算法的限制。當(dāng)達(dá)到發(fā)散點(diǎn)時(shí)，Ince-Gaussian DLL 產(chǎn)生的結(jié)果變得不準(zhǔn)確。不幸的是，對於唯一的 e 值，這一點(diǎn)不會出現(xiàn)（還依賴於 p、m 和光束極性）。但是，確定何時(shí)產(chǎn)生不同的解決方案很簡單。

它是將單個(gè)光學(xué)元件組裝或形成為單個(gè)光學(xué)元件的二維陣列，用於在照明平面上將光從非均勻分佈空間轉(zhuǎn)換為均勻輻照度分佈。這篇文章討論了複眼空間光學(xué)積分器在數(shù)位投影機(jī)中的使用，以及如何在 OpticStudio 中對此類元素進(jìn)行建模。在數(shù)位投影器設(shè)計(jì)中，我們希望確保數(shù)位光源在輻照度分佈方面與投影圖像相匹配。因此，這種限制要求投影器設(shè)計(jì)包含均勻照明的空間光調(diào)製器 - 通常採用 LCD 面板的形式。

許多設(shè)計(jì)過程需要兩種不同的光學(xué)理論/算法來分別處理光束在自由空間和微結(jié)構(gòu)中的傳播，而其他一些過程僅使用純光線追跡來達(dá)到目標(biāo)。由於模擬技術(shù)發(fā)展迅速，因此本文可能沒有涵蓋所有可用方法。如果用戶提供新訊息或有任何要求，請隨時(shí)與我們聯(lián)繫，我們可以相應(yīng)地更新本文。

</p><p>&nbsp;</p><p>QQ::</p><p>負(fù)體積是由於element本身產(chǎn)生大變形造成自我體積的內(nèi)面跑到外面接著被判讀為負(fù)體積，</p><p>控制使element不出現(xiàn)不合理變形的方法就如同dragonwen與ayke所說的幾點(diǎn)，注意使Hourglassing情形減少，有以下幾個(gè)方法可以試看看</p><p>1.避免單點(diǎn)loading=&amp;gt;不要將force施在單一node

如上一個(gè)小節(jié)所說，這種表面通常用在準(zhǔn)直光束垂直入射的情況，因此必須是一個(gè)平面。我們可以在下圖的分類數(shù)據(jù)報(bào)告(Prescription data)看到矩陣中的元素已被輸入鏡頭數(shù)據(jù)編輯器(Lens Data Editor)。在這個(gè)案例中，Jones Matrix被用來當(dāng)作x方向上的1/4玻板。

ZOS-API(應(yīng)用程式介面(Application Programming Interface)) 支援 OpticStudio 的連接和定制。連接應(yīng)用程式和 OpticStudio 有 4 種程式模式，但它們可以分為兩大類： 完全控制（獨(dú)立(Standalone)模式和自訂擴(kuò)展(User Extensions)模式），這種情況下，使用者通常完全控制鏡頭設(shè)計(jì)和使用者介面。