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ZEMAX軟件技術應用專題:如何為光學相干斷層
掃
描
系統建模
光束應均勻地分成兩臂,其中一個在樣品體積上會聚,以最小化給
定
掃
描
的照射面積。 光源應為一束準直的寬帶光束;大帶寬意味著低相干性和高精度定位產生相干性的深度。深度
掃
描
也稱為軸向
掃
描
或A
掃
描
,它根據反射到樣品中的距離來測量反射光的強度。 儘管它在OCT系統的類型之間有所不同,但深度
掃
描
通常由
參
考鏡執行,以使樣品返回的光對應於樣品和
參
考之間的特定光程差(OPD)。
2222
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
ZEMAX軟件技術應用專題:如何在OpticStudio中設計DOE透鏡或超穎透鏡
如
參
考文獻[4]中所述,需要一個巨集來
掃
描
不同Z位置的PSF並創建圖。1.4
參
數
化 DOE 矢高-> POP像上述方法一樣,可以透過在OpticStudio中對二進制矢高建模來模擬菲涅耳波帶片。但是,對於這種類型的DOE,光線追跡引擎將無法正常工作。垂直入射到DOE上的光線不會改變其方向,因為表面沒有傾斜。但是,垂直入射的光束可以用適當設計的菲涅耳波帶片聚焦。
2189
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
ZEMAX軟件技術應用專題:利用Kogelnik方法模擬體積全像光柵的繞射效率
然後,光柵向量可由下式
定
義
:顯影後,當全像被重建平面波kp照亮時,繞射波kd,可透過解方程式確
定
:其中kp和kd是重建波向量和全像感光材料內部的繞射波前(圖2(b))。注意光柵向量K可以從兩個反向方向選擇。方程式(2)的符號約
定
,假設K的方向選擇滿足K.kp>0。 圖 2.
2123
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
ZEMAX軟件應用專題:波前 (OPD) 怎麼算的
然後可以看到系統
自
動加入兩個Coordinate Break以及相關設
定
,如下。最後在確保把Chief的長度設
定
到出瞳的Radius上。便可以看到系統現在如下。打開評價函
數
,重新輸入以下
數
值驗證??梢钥吹侥壳暗淖畲笠晥?(Hy=1) 邊緣光線 (Py=-1) 的波前差等於3.555676,跟OPD Fan中的結果一致。
2516
1
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
MBSE建模語言:基于OPM的概念建模語言研究
如果需要進一步明確描述, 則可以用關聯關系算子描述“環境溫度”與“升溫速度”之間的關系. 5 對語言的整體運用主體鏈接、手段鏈接、影響鏈接和生成/消耗鏈接主要
用于
區分與某個過程相關事物針對該過程的角色(圖16), 與人的主觀認識和主觀愿望相關; 事物、事物的特征、描述事物特征的信息與關聯算子過程依次銜接起來,
用于
揭示事物之間的客觀性關聯關系(圖17).
4907
一起學MBSE
??? 2年前
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