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ZEMAX軟件技術應用專題:利用Kogelnik方法
模
擬
體積全像光柵的繞射效率
體積全像在許多類型的光學系統中很受歡迎,例如:抬頭顯示器(HUD)、
擴
增實境(AR)和虛
擬
實境(VR)的頭戴型顯示器(HMD)。全像能夠將光線繞射到任何所需的角度,其波長和角度的選擇性使其能夠創造更輕、更緊密的光學系統。OpticStudio長期以來一直支持理想全像的
模
擬
。然而,為了準確地說明體積全像的特性,除了考慮繞射光線的傳播方向外,還必須考慮繞射效率、材料收縮或折射率變化等因素。
2122
w**elab86_Swsp
??? 3年前
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ZEMAX軟件技術應用專題:在 OpticStudio 中
模
擬
高階雷射光束
但是,在此限制下,使用 Laguerre-Gaussian DLL 在 OpticStudio 中對這些
模
態進行建模在計算上更有效。隨著 e 接近 ∞,當由 Ince-Gaussian DLL 計算的特徵值解發
散
時,就會到達一個點。這種發
散
行為是計算算法的限制。當達到發
散
點時,Ince-Gaussian DLL 產生的結果變得不準確。
2057
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
ZEMAX軟件技術應用專題:如何在OpticStudio中設計DOE透鏡或超穎透鏡
但是,對於包含 DOE 或超穎透鏡的系統進行
模
擬
和設計總是很棘手的。沒有通用的方法可以處理所有情況。設計人員需要根據具體情況決定其系統的策略。許多設計過程需要兩種不同的光學理論/算法來分別處理光束在自由空間和微結構中的傳播,而其他一些過程僅使用純光線追跡來達到目標。由於
模
擬
技術發展迅速,因此本文可能沒有涵蓋所有可用方法。
2187
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
Ansys Zemax光學設計軟件技術教程:眼科鏡片設計
同時,OpticStudio具有優越的運算能力,可以進行規
模
較大的系統和更多影像參數的
模
擬
。得益於此,眼科鏡片的設計可以有更進一步的改善,我們將在以下的文章中詳述。傳統設計方式對於人眼而言,存在一個虛
擬
的“遠點”,這個點代表了我們可以清楚看到物體的極限距離。在這個點之外的景物,將會成像於視網膜前方。當眼球轉動時遠點的距離不會改變,因此會以這個距離為半徑形成一個“遠點球”。
2212
w**elab86_Swsp
??? 3年前
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Zemax光學設計技術教程:如何使用Jones Matrix表面
在
模
擬
的過程中,會將入射光因為元件表面鍍膜、反射和吸收而造成的能量損耗納入考量。一般的情況下,OpticStudio可以對大多數的鍍膜或雙折射材料進行完整的分析。但有時因為分類數據報告(Prescription data)不夠齊全,在進行
模
擬
時會需要簡化後的模型。舉例而言,當我們無法得到真實的鍍膜資訊時,OpticStudio中的理想(IDEAL)和表定(TABLE)鍍膜設定就可以派上用場。
2425
w**elab86_Swsp
??? 3年前
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