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帖子 ZEMAX軟件技術應用專題:在薄膜中Ray以及Field系數是什麼?
入射光的電場並非用單一個點來描述,相對的,我們會假設該電場比多重光束干涉發(fā)生的區(qū)域更許多。在Zemax OpticStudio中,我們使用field係數來表示這個結果,這些係數已經被薄膜膜層的程式驗證過許多次。薄膜理的慣例是平面法向量方向上的相位變化,這表示其假設了一個虛擬的平面波從薄膜最外層一路傳播到基板。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
ZEMAX軟件技術應用專題:在薄膜計算中Ray以及Field系數是什麼?
帖子 ZEMAX軟件技術應用專題:在 OpticStudio 中模擬高階雷射光束
但是,在此限制下,使用 Laguerre-Gaussian DLL 在 OpticStudio 中對這些模態(tài)進行建模在上更有效。隨著 e 接近 ∞,當由 Ince-Gaussian DLL 的特徵值解發(fā)散時,就會到達一個點。這種發(fā)散行為是算法的限制。當達到發(fā)散點時,Ince-Gaussian DLL 產生的結果變得不準確。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
ZEMAX軟件技術應用專題:在 OpticStudio 中模擬高階雷射光束
帖子 ZEMAX軟件技術應用專題:利用Kogelnik方法模擬體積全像光柵的繞射效率
透射和反射全像的繞射波和穿透波的TE(橫向電場)的偏振電場可以用以下4個公式。注意,在這個理中,能量被假設為只在入射波、零階(直射波)和一階繞射波之間交換。若要消除這個限制,需要嚴格耦合波分析理。對於TM(橫向磁場)極化,我們可以簡單地將κ替換為κTM,如下所示,仍然使用前面的公式。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
ZEMAX軟件技術應用專題:利用Kogelnik方法模擬體積全像光柵的繞射效率
帖子 Moldex3D模流分析之Tokyo Seiki公司使用模流大幅減少試模次數
Chong 先生指出:「由於憑傳統經驗和直覺的設計方式已經無法完全掌握日新月異的產品,因此以嚴謹的 CAE 分析來決定模具設計品質已成為該公司的絕佳競爭力和業(yè)務著力點,模流分析結果更是有效說服客戶修改設計的優(yōu)質工具。」
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Moldex3D 中國 ??? 3年前
Moldex3D模流分析之Tokyo Seiki公司使用模流大幅減少試模次數
帖子 Ansys Zemax光學設計軟件技術教程:眼科鏡片設計
過去,Sultanova等人發(fā)表了 15種光學塑膠的折射率資料(參考資料2),每種材料都有8個波長的資料,並同時了每個材料的阿貝數 (V)。每個OpticStudio的眼科光學塑膠材料 (包含現在使用的這個) 都是先假設其色散曲線、折射率、阿貝數均與Sultanova的塑膠相似,接著利用Conrady公式,從NF、Nd、Ne及NC的數值中建立材料檔案。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
Ansys Zemax光學設計軟件技術教程:眼科鏡片設計
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