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若想在OpticStudio中產生Jones Matrix表面，在序列模式(Sequential ray tracing)下，Jones Matrix可在表面型態(Surface Type)選單中選取; 而在非序列模式(non-Sequential ray tracing)中，則是以物件型態(Object Type)的方式呈現。

當我們討論偏振時，我們經常提到線偏振或平面偏振、圓偏振和橢圓偏振。在計算中，所有這些偏振被表示為兩個正交線偏振的組合，其可以單獨計算并且在透射或反射中的取向不變。它們有時被稱為偏振的本征模式，這在斜入射時尤為重要。光學薄膜的作用是改變每種組分的振幅和相位。膜層的性能量化了這些變化。 讓我們將討論局限于完全各向同性的材料。

在計算中，所有這些偏振被表示為兩個正交線偏振的組合，其可以單獨計算并且在透射或反射中的取向不變。它們有時被稱為偏振的本征模式，這在斜入射時尤為重要。光學薄膜的作用是改變每種組分的振幅和相位。膜層的性能量化了這些變化。 如果沒有參考系，那么這些性能參數是沒有意義的，我們需要定義基準軸，電場的正方向，以及我們比較相位的點。Z軸垂直于膜層表面，其正方向與入射方向一致。

實際上OpticStudio執行了兩次光線追跡分別追跡兩種情況，并使用模式參數 (Mode Flag) 來決定當前光線追跡的類型： ·如果模式參數為0，則將追跡尋常光線·如果模式參數為1，則將追跡非尋常光線 上文中顯示的布局圖同時顯示了多重結構下模式參數為0和模式參數為1的結構： 雙折射偏振器件 模擬雙折射偏振器件通常需要使用兩塊雙折射材料

我們將我們的偏振光束作為 Zemax 光束文件 ( .zbf) 輸出到 Lumerical 本征模求解算法中，并計算在 Lumerical 本征模求解算法中創建的模與輸出的 Zemax 光束之間的重疊性和功率耦合情況。上述光束之間的重疊分析將為我們提供模態分析中更好的模態結果，該模態將作為 Zemax 光束文件從 Lumerical 導出到 OpticStudio 中。

我們將我們的偏振光束作為 Zemax 光束文件 ( .zbf) 輸出到 Lumerical 本征模求解算法中，并計算在 Lumerical 本征模求解算法中創建的模與輸出的 Zemax 光束之間的重疊性和功率耦合情況。上述光束之間的重疊分析將為我們提供模態分析中更好的模態結果，該模態將作為 Zemax 光束文件從 Lumerical 導出到 OpticStudio 中。

其中尋常光的折射率為垂直方向（S偏振態）的折射率，非尋常光的折射率為平行方向（P偏振態）的折射率。如果模式參數為0，則系統追跡尋常光線（只包含S分量），P分量光的透過率為0。如果設置模式參數為1則系統追跡非尋常光線，S分量光的透過率為0。這個方法可以正確設置每個模式的透過率，但如果想得到總透過率，則需要將每種模式的光組合疊加在一起。

在本系統中，設置模式參數為2或3將提供非常準確的輸出結果，因為晶體Quartz并不是雙折射特性很強的材料，因此尋常光線和非尋常光線的角度偏差很小。同時，光在雙折射晶體中的傳播距離很短，因此光線在像面上基本重疊。定義雙折射輸入/輸出面的模式參數為2，設置輸入光為45°線偏光。我們可以看到輸出光為完美的軸上圓偏振光。

在本系統中，設置模式參數為2或3將提供非常準確的輸出結果，因為晶體Quartz并不是雙折射特性很強的材料，因此尋常光線和非尋常光線的角度偏差很小。同時，光在雙折射晶體中的傳播距離很短，因此光線在像面上基本重疊。定義雙折射輸入/輸出面的模式參數為2，設置輸入光為45°線偏光。我們可以看到輸出光為完美的軸上圓偏振光。

實際上OpticStudio執行了兩次光線追跡分別追跡兩種情況，并使用模式參數 (Mode Flag) 來決定當前光線追跡的類型： 如果模式參數為0，則將追跡尋常光線 如果模式參數為1，則將追跡非尋常光線上文中顯示的布局圖同時顯示了多重結構下模式參數為0和模式參數為1的結構：雙折射偏振器件模擬雙折射偏振器件通常需要使用兩塊雙折射材料，

對于Essential Macleod中的所有計算，基本分量是線偏振平面波（或單色光）。 當我們討論偏振時，我們經常提到線偏振或平面偏振、圓偏振和橢圓偏振。在計算中，所有這些偏振被表示為兩個正交線偏振的組合，其可以單獨計算并且在透射或反射中的取向不變。它們有時被稱為偏振的本征模式，這在斜入射時尤為重要。光學薄膜的作用是改變每種組分的振幅和相位。膜層的性能量化了這些變化。

對于Essential Macleod中的所有計算，基本分量是線偏振平面波（或單色光）。 當我們討論偏振時，我們經常提到線偏振或平面偏振、圓偏振和橢圓偏振。在計算中，所有這些偏振被表示為兩個正交線偏振的組合，其可以單獨計算并且在透射或反射中的取向不變。它們有時被稱為偏振的本征模式，這在斜入射時尤為重要。光學薄膜的作用是改變每種組分的振幅和相位。膜層的性能量化了這些變化。

在本設計中，亞波長光柵波導作為橫電（TE）偏振光的直通波導，使其傳播時與槽型波導的耦合程度極低；同時，它支持橫磁（TM）偏振光寬頻耦合至槽型波導。此外，亞波長光柵波導中的錐形過渡結構可最大限度減少其與條形波導界面處的反射，保證高效耦合。

這是由模式標志控制的，它允許用戶在如何根據給定系統的普通光束和非常光束之間的角度偏差對雙折射效應進行建模方面具有更大的靈活性。 雙折射輸入/輸出表面在模擬雙折射方面的唯一局限是它們不考慮光線分裂的影響。為了考慮光線分裂，系統應該轉換為非序列模式。 偏振表面相關應用 本節介紹如何在 OpticStudio 中定義雙折射延遲器和光隔離器的簡要示例。

為了考慮光線分裂，系統應該轉換為非序列模式。 偏振表面相關應用 本節介紹如何在OpticStudio中定義雙折射延遲器和光隔離器的簡要示例。有關雙折射偏振器的更深入設計示例，請參閱“如何設計雙折射偏振表面”。

該設計借助亞波長光柵波導和槽型波導的獨特特性，在小尺寸范圍內實現基于偏振的光束分離。偏振分束器的直通路徑采用亞波長光柵波導，交叉路徑采用槽型波導。亞波長光柵波導由周期性亞波長結構構成，其有效折射率可實現精細調控。在本設計中，亞波長光柵波導作為橫電（TE）偏振光的直通波導，使其傳播時與槽型波導的耦合程度極低；同時，它支持橫磁（TM）偏振光寬頻耦合至槽型波導。

在光源光軸方向設置理想探測平面，避免額外偏振畸變影響仿真結果。光源設置將偏振態切換為 “圓偏振”，設置旋向為 “左旋”，相位延遲參數設定為 90°，完成偏振特性配置；同時補充波長、光強等基礎光學參數，確認光源發射模式為全空間均勻發散。

光線追跡完成系統搭建后，選擇非相干模式。該模式下，OAS 軟件可精準計算每束光線在各界面的偏振態變化，相較于常規追跡，更能捕捉偏振信息的細微差異，確保追跡結果貼合實際光學現象。偏振分析追跡結束后，查看偏振圖、斯托克斯參數等結果。偏振圖直觀展示光線偏振方向分布，斯托克斯參數則量化偏振態，如 S1、S2 參數可反映線偏振與橢圓偏振特性，幫助工程師快速定位偏振異常區域。

為了涵蓋太赫茲傳感研究中使用的生物醫學材料，我們調節分析物的介電常數對光譜進行分析，如圖7所示，來比較準BIC模式和本征模式的傳感性能。折射率生物傳感器的靈敏度S定義為Δf/Δn，其中Δf是將分析物置于超表面上時的共振頻率偏移，Δn 表示模擬分析物的折射率。準BIC模式的電磁能量集中在諧振器的邊緣，而本征模式的電磁能量位于諧振器中間的連接處（圖6）。

我們將我們的偏振光束作為 Zemax 光束文件 ( .zbf) 輸出到 Lumerical 本征模求解算法中，并計算在 Lumerical 本征模求解算法中創建的模與輸出的 Zemax 光束之間的重疊性和功率耦合情況。上述光束之間的重疊分析將為我們提供模態分析中更好的模態結果，該模態將作為 Zemax 光束文件從 Lumerical 導出到 OpticStudio 中。