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ZEMAX軟件技術應用專題:如何在OpticStudio中設計DOE透鏡或超穎透鏡
沒有通用的方法可以處
理
所有情況。設計人員需要根據具
體
情況決定其系統的策略。許多設計過程需要兩種不同的光學
理
論
/算法來分別處
理
光束在自由空間和微結構中的傳播,而其他一些過程僅使用純光線追跡來達到目標。由於模擬技術發展迅速,因此本文可能沒有涵蓋所有可用方法。如果用戶提供新訊息或有任何要求,請隨時與我們聯繫,我們可以
相
應地更新本文。
2189
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
ZEMAX軟件技術應用專題:在薄膜計算中Ray以及Field系數是什麼?
什麼是Field以及Ray係數常常使用者在這個主題上會有一些混亂,因為薄膜
理
論
以及
相
關
的設計軟
體
程式,通常以不同的觀點來處
理
這個問題,而這個觀點與光線追跡的程式有很大的不同。在薄膜光學中,我們通常處理光的場 (field),一般來說即是所謂的平面波。然而,光線的處
理
方式在本質上有很大不同,光線是局部的、無限小的且帶有能量的一點,擁有位置以及傳播方向等資訊。光線所看到的世界與薄膜的世界是不同的。
1939
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
ZEMAX軟件技術應用專題:在 OpticStudio 中模擬高階雷射光束
Bandres 和 Gutiérrez-Vega 的
論
文中提供了上述每個輸入的完整描述。 2 列出了一些未使用的輸入,以便該模型的輸入表結構與 OpticStudio 中內置的高斯腰模型的結構
相
匹配。如 Bandres 和 Gutiérrez-Vega 的
論
文中所述,構建 Ince-Gaussian 模式光束輪廓的一個重要部分是解決給定輸入集的特徵值問題。
2057
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
ZEMAX軟件技術應用專題:用於數位元投影光學中均勻照明的陣列透鏡 (蒼蠅眼)
這篇文章討
論
了複眼空間光學積分器在數位投影機中的使用,以及如何在 OpticStudio 中對此類元素進行建模。在數位投影器設計中,我們希望確保數位光源在輻照度分佈方面與投影圖像
相
匹配。因此,這種限制要求投影器設計包含均勻照明的空間光調製器 - 通常採用 LCD 面板的形式。
理
論
上,這聽起來很容易,但這種面板上的源光束通常是高斯的(即不均勻)。
2002
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
Ansys Zemax光學設計軟件技術教程:眼科鏡片設計
然而除了單一波長的折射率以及阿貝數 (Abbe Number) 外,通常就不會有更多
相
關
資料了。單一波長方面我們通常會選擇使用e線 (546.1nm),因為該波長更接近
相
對光度函數曲線(relative luminosity curve)的最大值。但在某些特殊的情況下,d線 (587.6 nm)的使用也是有可能的。NF與NC折射率可以由 (Nd,Vd) 或 (Ne,Ve) 回
推
。
2212
w**elab86_Swsp
??? 3年前
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