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ZEMAX軟件技術應用專題:如何為光學相干斷層
掃
描系統建模
光束應均勻地分成兩臂,其中一個在樣品
體
積上會聚,以最小化給定
掃
描的照射面積。 光源應為一束準直的寬帶光束;大帶寬意味著低相干性和高精度定位產生相干性的深度。深度
掃
描也稱為軸向
掃
描或A
掃
描,它根據反射到樣品中的距離來測量反射光的強度。 儘管它在OCT系統的類型之間有所不同,但深度
掃
描通常由參考鏡執行,以使樣品返回的光對應於樣品和參考之間的特定光程差(OPD)。
2222
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
ZEMAX軟件技術應用專題:如何在OpticStudio中設計DOE透鏡或超穎透鏡
所需的設計和製造方法可能會有所不同,具
體
取決於微結構的類型。參考文獻[5]顯示了根據給定的相位輪廓生成閃耀光柵的範例。它還討論了單點金剛石車床的製造。可以在我們的知識庫文章中找到用於生成閃耀光柵的巨集:如何使用巨集計算繞射光學元件的垂度。或者,參考文獻[3]顯示了如何使用Lumerical FDTD軟
體
為給定的相位曲線設計超穎透鏡。這種方法的缺點是設計人員可能無法檢查整個系統的性能。
2188
w**elab86_Swsp
??? 3年前
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