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什麼是Field以及Ray係數(shù)常常使用者在這個(gè)主題上會(huì)有一些混亂，因?yàn)楸∧だ碚撘约跋嚓P(guān)的設(shè)計(jì)軟體程式，通常以不同的觀點(diǎn)來處理這個(gè)問題，而這個(gè)觀點(diǎn)與光線追跡的程式有很大的不同。在薄膜光學(xué)中，我們通常處理光的場(chǎng) (field)，一般來說即是所謂的平面波。然而，光線的處理方式在本質(zhì)上有很大不同，光線是局部的、無(wú)限小的且?guī)в心芰康囊?em>點(diǎn)，擁有位置以及傳播方向等資訊。光線所看到的世界與薄膜的世界是不同的。

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</p><p>&nbsp;</p><p>QQ::</p><p>負(fù)體積是由於element本身產(chǎn)生大變形造成自我體積的內(nèi)面跑到外面接著被判讀為負(fù)體積，</p><p>控制使element不出現(xiàn)不合理變形的方法就如同dragonwen與ayke所說的幾點(diǎn)，注意使Hourglassing情形減少，有以下幾個(gè)方法可以試看看</p><p>1.避免單點(diǎn)loading=&amp;gt;不要將force施在單一node

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圖形選擇：用測(cè)試圖形（如through pitch線寬、尖端對(duì)尖端等）結(jié)合SRAM結(jié)構(gòu)和工藝弱點(diǎn)，通過頻譜分析篩選關(guān)鍵圖形。</p><p>2. 仿真計(jì)算：建立光刻仿真條件（機(jī)臺(tái)信息、照明方式、薄膜堆棧等），開展SMO計(jì)算。</p><p>3.