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不幸的是，對於唯一的 e 值，這一點不會出現(xiàn)（還依賴於 p、m 和光束極性）。但是，確定何時產(chǎn)生不同的解決方案很簡單。該解決方案與相應的 Hermite-Gaussian 結(jié)果不一致（對於大 e，它們應該如此）。在這種情況下，應使用高斯束腰光束選項來模擬光束模式。雷射的一般輸出可以從近軸波動方程的解中找到。對於雷射增益孔徑中的矩形、圓形和橢圓對稱性，已經(jīng)找到了該方程的三組正交解。

這個慣例暗示了相位變化在正向入射上為最大，並且隨著入射角變大、相對應餘弦值變小而相位變化也漸漸變小。但光線追跡上，我們是使用不同的方法來描述的。光線追跡的處理方式是如同上面第一張圖表的。過程中只有三條光線：入射、穿透以及反射。你可以隨意的放大檢視，永遠只有三條線。膜層本身不用光線追跡來處理，而用不同的函數(shù)來操作。對於光線追跡，光學相位的超前或延遲都是沿著光線觀察的。

但人眼系統(tǒng)具有相對較小的光瞳尺寸，因此在此類系統(tǒng)的設計上，一般會認為球差和彗差並不十分重要。同理，其餘的像差在此也可先行忽略。隨著自由曲面製程技術(shù)的演進，光學設計者得以摒除許多以往的限制條件。同時，OpticStudio具有優(yōu)越的運算能力，可以進行規(guī)模較大的系統(tǒng)和更多影像參數(shù)的模擬。得益於此，眼科鏡片的設計可以有更進一步的改善，我們將在以下的文章中詳述。

每個 Alvarez 透鏡都是一個自由曲面光學元件，只有一個對稱平面。 Fig 3. Alvarez 鏡組 (圖片來源: www.spiedigitallibrary.org) 如下圖所示，每個 Alvarez 鏡組代表一個具有光功率變化的光學元件。每對中Alvarez鏡片的橫向位移會改變Alvarez鏡組的光焦度。圖4.

折射率調(diào)變: 與平均折射率相比，折射率調(diào)變不能太大。換句話說，n1/n << 1，這在大多數(shù)實際情況下是正確的。一個參考用的經(jīng)驗法則是，對於反射全像，n1/n之比不應大於0.16，對於透射全像，n1/n之比不應大於0.06。[2] 厚度: 假設全像是厚的。經(jīng)驗上，我們是確保以下條件來保證耦合波理論仍然適用: 多階繞射: 這與厚度的限制相同。

隨著這項技術(shù)的發(fā)展，醫(yī)療保健的品質(zhì)將不斷提高，從而使我們所有人的生活品質(zhì)得到改善。要了解有關如何對基本系統(tǒng)，邁克森干涉儀進行建模並演示實現(xiàn)深度掃描的相干門效應的更多信息，Zemax客戶可以在MyZemax.com上取得此知識庫文章的全部內(nèi)容以及整個系列文章。 或請聯(lián)繫Zemax銷售團隊以了解有關OpticStudio的更多訊息。

設計變更的主導權(quán)，已大幅度的由傳統(tǒng)式的只做代工向上提升，每一批模具代工至少有一半以上的模具，是由 Tokyo Seiki 主導修改產(chǎn)品設計，例如最近接手的印表機組件的流道不平衡問題，以及某知名國際相機廠牌的產(chǎn)品翹曲改良。對癥下藥，增加產(chǎn)品強度：流動平衡與結(jié)合線問題改良流動平衡目的是避免成品後所發(fā)生變形的主要改善方案，尤其針對精密性產(chǎn)品，在分析過程中常以流動平衡指數(shù)來作為比較數(shù)據(jù)。

有限訪問（自訂運算元(User Operands)模式和自訂分析模式），這種情況下，使用者使用現(xiàn)有鏡標頭檔的副本進行處理和分析。自訂分析模式用於填充自訂分析的資料。這些資料是用OpticStudio提供的現(xiàn)有圖形來顯示，用於大多數(shù)分析。此模式不允許對當前鏡頭系統(tǒng)或使用者介面進行更改（即：在這種模式下只允許對系統(tǒng)的副本進行更改）。自訂分析可以用C++ (COM)或C# (.NET)編寫。