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帖子 ZEMAX軟件技術應用專題:如何在OpticStudio中設計DOE透鏡或超穎透鏡
設計流程1.1 相位 -> 微觀結構 -> 證在此過程中,用戶首先使用光線追跡方法設計DOE /超穎透鏡所需的相位。然後根給定的相位設計微結構。圖1顯示了該過程的流程圖。該圖表未涵蓋設計的詳細訊息,例如,微觀結構可以是傳統的閃耀光柵或現代的超穎透鏡。所需的設計和製造方法可能會有所不同,具體取決於微結構的類型。參考文獻[5]顯示了根給定的相位輪廓生成閃耀光柵的範例。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
ZEMAX軟件技術應用專題:如何在OpticStudio中設計DOE透鏡或超穎透鏡
帖子 ZEMAX軟件技術應用專題:利用Kogelnik方法模體積全像光柵的繞射效率
這篇Blog介紹了 OpticStudio 中的原生體積全像模功能,該功能可以在考慮其物理特性的情況下,在序列模式下對全像光柵進行全面模和分析。在非序列模式下也透過使用 DLL 展示了相同的功能。這些分析對於設計用於虛境 (VR) 和增強境 (AR) 的抬頭顯示器 (HUD) 和頭戴型顯示器 (HMD) 等系統非常重要。我們將介紹模型中使用的理論和參。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
ZEMAX軟件技術應用專題:利用Kogelnik方法模擬體積全像光柵的繞射效率
帖子 Zemax光學設計技術教程:如何使用Jones Matrix表面
在模的過程中,會將入射光因為元件表面鍍膜、反射和吸收而造成的能量損耗納入考量。一般的情況下,OpticStudio可以對大多的鍍膜或雙折射材料進行完整的分析。但有時因為分類報告(Prescription data)不夠齊全,在進行模時會需要簡化後的模型。舉例而言,當我們無法得到真的鍍膜資訊時,OpticStudio中的理想(IDEAL)和表定(TABLE)鍍膜設定就可以派上用場。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
Zemax光學設計技術教程:如何使用Jones Matrix表面
帖子 Moldex3D模流分析之Tokyo Seiki公司使用模流大幅減少試模次數
對癥下藥,增加產品強度:流動平衡與結線問題改良流動平衡目的是避免成品後所發生變形的主要改善方案,尤其針對精密性產品,在分析過程中常以流動平衡指來作為比較。
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Moldex3D 中國 ??? 3年前
Moldex3D模流分析之Tokyo Seiki公司使用模流大幅減少試模次數
帖子 Ansys Zemax光學設計軟件技術教程:眼科鏡片設計
在材料庫檔案中有註明資料來源,原始資料包含六個波長,精度到小點以下5位,並使用Schott公式。其中Corning Unicrown (Corning_1.523) 這個材料很有趣,其折射率不多不少正好是1.523 (Nd = 1.52300、Vd = 58.8)。缺乏這筆資料時,眼科光學設計師常使用Schott的B270玻璃 (Nd = 1.5231、Vd = 58.571) 來近似。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
Ansys Zemax光學設計軟件技術教程:眼科鏡片設計
視頻 abaqus Isight參數研究與結構優化
CH01-Isight與功能元件介紹CH02-資料管理與DOE分析?>WORKSHOP01-Gripper進行DOE分析?>WORKSHOP05-Excel元件執行DOECH03-Isight優化分析?>WORKSHOP02-Gripper優化分析CH04-Data?matching參?>WORKSHOP03-橡膠材料參CH05-近似模型Approximation
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abaquser ??? 6年前
abaqus Isight參數研究與結構優化
帖子 ZEMAX軟件技術應用專題:如何為光學相干斷層掃描系統建模
深度掃描也稱為軸向掃描或A掃描,它根反射到樣品中的距離來測量反射光的強度。 儘管它在OCT系統的類型之間有所不同,但深度掃描通常由參考鏡執行,以使樣品返回的光對應於樣品和參考之間的特定光程差(OPD)。 透過以x或y方向旋轉掃描鏡來執行橫向,橫向或b掃描,從而在整個樣品區域上平移探測光束。我們從商用OCT系統中獲取目標規格。 軸向分辨率完全來自光源特性,應在5μm的量級上。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
ZEMAX軟件技術應用專題:如何為光學相干斷層掃描系統建模
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