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ZEMAX軟件技術應用專題:
如何
為光學相干斷層
掃
描
系統建模
光源
應為一束準直的寬帶光束;大帶寬意味著低相干性和高精度定位產生相干性的深度。深度
掃
描
也稱為軸向
掃
描
或A
掃
描
,它根據反射到樣品中的距離來測量反射光的強度。 儘管它在OCT系統的類型之間有所不同,但深度
掃
描
通常由參考鏡執行,以使樣品返回的光對應於樣品和參考之間的特定光程差(OPD)。 透過以x或y方向旋轉
掃
描
鏡來執行橫向,橫向或b
掃
描
,從而在整個樣品區域上平移探測光束。
2222
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
ZEMAX軟件技術應用專題:
如何
在OpticStudio中設計DOE透鏡或超穎透鏡
但是,當超穎透鏡
置
於透鏡之間並且入射光束不是平面波前時,設計人員可以使用POP中的平面波開始模擬。光束在POP中傳播到超穎透鏡的前端,並作為ZBF檔導出。然後將ZBF作為
光源
導入FDTD,並透過超穎透鏡進行傳播。其餘過程與前面討論的相同。該過程的一個缺點是,由於需要大量的計算資源,因此FDTD引擎無法處理大尺寸的鏡頭。而且,此方法只能在每個單獨的字段上模擬PSF。
2188
w**elab86_Swsp
??? 3年前
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