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在Zemax OpticStudio中，我們使用field係數(shù)來表示這個結果，這些係數(shù)已經(jīng)被薄膜膜層的程式驗證過許多次。薄膜理論的慣例是計算平面法向量方向上的相位變化，這表示其假設了一個虛擬的平面波從薄膜最外層一路傳播到基板。這個慣例暗示了相位變化在正向入射上為最大，並且隨著入射角變大、相對應餘弦值變小而相位變化也漸漸變小。但光線追跡上，我們是使用不同的方法來描述的。

假設和限制Kogelnik的耦合波理論與其他理論相比具有優(yōu)勢，可以準確預測體積相位光柵的零階和一階效率的響應。然而，當厚度較低或折射率調變 (modulation) 較大時，這種準確性可能會降低。因此，有必要討論Kogelnik理論的適用範圍，供使用者參考。 折射率調變: 與平均折射率相比，折射率調變不能太大。換句話說，n1/n << 1，這在大多數(shù)實際情況下是正確的。

顏色變化對應於返迴光強度的變化。 這表明發(fā)生了重大變化。代表性的OCT系統(tǒng)如下所示。 光束應均勻地分成兩臂，其中一個在樣品體積上會聚，以最小化給定掃描的照射面積。 光源應為一束準直的寬帶光束；大帶寬意味著低相干性和高精度定位產(chǎn)生相干性的深度。深度掃描也稱為軸向掃描或A掃描，它根據(jù)反射到樣品中的距離來測量反射光的強度。

在像差方面，彗差會隨視場角的變化而線性增加，而像散則是呈二次方增加。但人眼系統(tǒng)具有相對較小的光瞳尺寸，因此在此類系統(tǒng)的設計上，一般會認為球差和彗差並不十分重要。同理，其餘的像差在此也可先行忽略。隨著自由曲面製程技術的演進，光學設計者得以摒除許多以往的限制條件。同時，OpticStudio具有優(yōu)越的運算能力，可以進行規(guī)模較大的系統(tǒng)和更多影像參數(shù)的模擬。

射出成型技術使可能的創(chuàng)新光學機構設計技術，具有大規(guī)模生產(chǎn)的模塊很多好處。鏡頭可以設計成具有復雜的邊緣特徵，使它們能夠堆疊，從而簡化組裝並消除對齊的需要。Zemax 工具使注塑光學元件的可能性最大化變得簡單。在 OpticStudio 中創(chuàng)建的光學設計可以無縫轉換為原始 CAD 元件，並且所有光學資訊都完好無損。

大多數(shù)情況下，澆口比制件其它部分薄得多，在模塑件仍然很熱而且持續(xù)收縮時，小的澆口已經(jīng)固化，固化后，保壓對型腔內(nèi)的模塑件就不起作用。 半結晶塑料材料的模塑件收縮率高，這使得凹痕問題更嚴重；非結晶性材料的模塑收縮較低，會最大程度地減小凹痕；填充和維持增強的材料，其收縮率更低，產(chǎn)生凹痕的可能性更小。

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