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圖 1. (a) 表面反射光柵 (b) 體積全像光柵 圖1(b)所示的VHG是通過在感光材料薄膜上曝光兩個(gè)或多個(gè)光束來製造。然後將薄膜進(jìn)行化學(xué)或熱顯影：這就是光柵。光柵上的表面是光滑的，但光柵內(nèi)部的折射率是正弦調(diào)變的。為了對(duì)VHG進(jìn)行建模，需要使用高效的Kogelnik理論或嚴(yán)格耦合波分析（RCWA）等算法。

OpTaliX提供最真實(shí)準(zhǔn)確的鬼像分析。通過分析所有可能的透鏡表面，軟件所提供的全自動(dòng)搜索功能有助于分析鬼像產(chǎn)生的原因。它包含在光學(xué)表面，因材料吸收及漸暈中的多層膜波長的相關(guān)影響而產(chǎn)生。下圖呈現(xiàn)的是在透鏡中包含AR材料和吸收10片式鏡頭元件目標(biāo)所呈現(xiàn)的鬼像。鬼像分析是基于內(nèi)置的逆光線追跡算法，它不需要重建光學(xué)系統(tǒng)，只要插入和復(fù)制表面，就可以表示鬼像路徑。

然而，假設(shè)我們對(duì)于表征一個(gè)光學(xué)系統(tǒng)中的初級(jí)鬼像路徑很感興趣，或者我們的系統(tǒng)沒有完全的開發(fā)或改進(jìn)，來保證一個(gè)長的多階次的雜散光分析。本文介紹了一個(gè)腳本，可以在一個(gè)導(dǎo)入的序列設(shè)計(jì)中對(duì)初級(jí)鬼像路徑進(jìn)行自動(dòng)分析。我們首先來討論合理地設(shè)置分析中導(dǎo)入的序列文件的過程，然后討論腳本的運(yùn)行以及執(zhí)行分析的過程。

這是MACro： ; 鬼像分析.MAC ; 這個(gè)例子研究了鏡頭中的鬼影 ; 它在所有四種模式下運(yùn)行鬼像. CCW ! 先清理；清除命令窗口 KAG FET 1 CHG !

激光系統(tǒng) > 光束傳輸 任務(wù)/系統(tǒng)說明 亮點(diǎn) ?包含像散的激光二極管建模；?多種選項(xiàng)評(píng)估光束準(zhǔn)直性→像散的影響；?透鏡孔徑截?cái)嗟墓馐|(zhì)量分析； 具體參數(shù)：光源 具體參數(shù)：準(zhǔn)直鏡 具體參數(shù)：探測(cè)器 結(jié)果：3D光線追跡 結(jié)果：

像圖像模擬或相對(duì)照明這樣的分析是不可能的。Figure 2 工作流程的增強(qiáng)版本，如圖1所示。在製造之前，設(shè)計(jì)人員可以使用POP和FDTD來檢查最終的PSF。

激光系統(tǒng) > 光束傳輸 任務(wù)/系統(tǒng)說明 亮點(diǎn) ?包含像散的激光二極管建模；?多種選項(xiàng)評(píng)估光束準(zhǔn)直性→像散的影響；?透鏡孔徑截?cái)嗟墓馐|(zhì)量分析； 具體參數(shù)：光源 具體參數(shù)：準(zhǔn)直鏡 具體參數(shù)：探測(cè)器 結(jié)果：3D光線追跡

注意: Analyze...Polarization中的所有分析功能均有Settings的選項(xiàng)，提供使用者直接輸入入射光的偏振態(tài)。但假如在其他情況下，使用具有’偏振使用(Use Polarization)’選項(xiàng)，卻又無法直接鍵入光線偏振態(tài)的分析功能時(shí)(像是Huygens PSF)，我們需要透過System Explorer...Polarization更改全域的偏振態(tài)設(shè)定。

( 圖1~圖4 )平均來說，我每週必須投入 2-3 天時(shí)間進(jìn)行分析，以確保經(jīng)驗(yàn)不足的設(shè)計(jì)方案可以順利生產(chǎn)；因此我讓電腦晚上執(zhí)行分析，白天再來驗(yàn)證結(jié)果。Moldex3D Solid 的分析時(shí)間與模具試模的次數(shù)與成本相較來看，每批模具我們至少減少了一半的試模次數(shù)，這項(xiàng)工作是值得的 一般來說分析的過程中若有外觀或者強(qiáng)度問題，結(jié)合線的結(jié)合位置與長度往往被提出討論。

有限訪問（自訂運(yùn)算元(User Operands)模式和自訂分析模式），這種情況下，使用者使用現(xiàn)有鏡標(biāo)頭檔的副本進(jìn)行處理和分析。自訂分析模式用於填充自訂分析的資料。這些資料是用OpticStudio提供的現(xiàn)有圖形來顯示，用於大多數(shù)分析。此模式不允許對(duì)當(dāng)前鏡頭系統(tǒng)或使用者介面進(jìn)行更改（即：在這種模式下只允許對(duì)系統(tǒng)的副本進(jìn)行更改）。自訂分析可以用C++ (COM)或C# (.NET)編寫。

它用於將光在圖像平面上從非均勻分佈空間轉(zhuǎn)換為均勻輻照度分佈。使用透鏡陣列的數(shù)位投影系統(tǒng)通常與具有提供半準(zhǔn)直入射光的拋物面反射器的燈組件結(jié)合使用。目前，它們主要用於 LCD 數(shù)位元元投影光引擎，以向空間光調(diào)製器照明平面提供均勻照明。在上圖中可以看到透鏡陣列。 （這張照片由 In Vision 提供，www.in-vision.at）。陣列中每個(gè)單獨(dú)的光學(xué)元件的形狀可以是正方形或矩形。

光學(xué)相干斷層掃描（OCT）是一種斷層成像系統(tǒng)，可以根據(jù)從圖像反射或散射的光生成橫截面或三維圖像。 醫(yī)用組織成像是該系統(tǒng)的最典型應(yīng)用，因?yàn)镺CT安全且具有高分辨率，儘管光可以穿透的深度限制在毫米量級(jí)。OCT測(cè)量系統(tǒng)依賴於邁克森干涉儀 (Michelson interferometer)，使得從參考物反射的光與樣品之間的相干性表明散射光源自樣品中與參考鏡的位置相對(duì)應(yīng)的深度。

如下圖，對(duì)一個(gè)遠(yuǎn)視的眼睛而言，其遠(yuǎn)點(diǎn)球位於眼球的後方。在OpticStudio中，眼科鏡片的設(shè)計(jì)看起來是十分簡單的。我們可以輸入鏡片後表面頂點(diǎn)處的屈光率作為此表面的一組解，此時(shí)系統(tǒng)便只剩鏡片前表面的曲率半徑(或稱為基本曲線)這個(gè)唯一變數(shù)。下圖我們可以看到前述的-3.00D範(fàn)例的LDE設(shè)定 (此時(shí)後表面頂點(diǎn)的屈光率是-0.003mm^-1)。

基本上而言，為了執(zhí)行 ScrewPlus，您必須經(jīng)過從啟動(dòng) Moldex3D、建立新專案、匯入新網(wǎng)格、選取材料，然後進(jìn)入「加工精靈」設(shè)定製程條件的 Moldex3D 基本程序，如下圖所示。ScrewPlus 的關(guān)鍵功能位在「加工精靈」內(nèi)。

然後我們打開OPD Fan並設(shè)定如下圖，可以看到Py=-1的時(shí)候，波前差確實(shí)是-0.272387。現(xiàn)在讓我們來驗(yàn)證看看離軸的視場(chǎng)，例如說我們想看最大的視場(chǎng)3。首先我們清空評(píng)價(jià)函數(shù)編輯器，然後先暫時(shí)把出瞳面的Radius設(shè)回?zé)o限大。輸入以下資料到評(píng)價(jià)函數(shù)中，目的是計(jì)算主光線在出瞳面上的位置、角度以及到像面所經(jīng)過的光程。

該軟件將熱像儀從一個(gè)成像設(shè)備轉(zhuǎn)變?yōu)橐粋€(gè)精密的測(cè)量與分析系統(tǒng)： 實(shí)時(shí)分析與記錄：以高達(dá) 80 Hz 的幀率實(shí)時(shí)記錄、分析和存儲(chǔ)全輻射視頻和圖像。 全面的分析工具：自由定義多個(gè)測(cè)量點(diǎn)、線段和區(qū)域，實(shí)時(shí)追蹤最高/最低溫，并設(shè)置復(fù)雜的報(bào)警規(guī)則。 遠(yuǎn)程控制：通過軟件遠(yuǎn)程調(diào)整所有相機(jī)參數(shù)。

在這種情況下，鏡頭邊緣可能會(huì)為雜散光提供路徑以污染圖像。 OpticsBuilder 不僅可以在透鏡之間創(chuàng)建擋板，而且還允許設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)了解抑制雜散光源的有效性。智慧型手機(jī)鏡頭模組給設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)和製造商帶來了一系列挑戰(zhàn)，但 Zemax 提供了快速、自信地將這些產(chǎn)品推向市場(chǎng)所需的工具。

大綱史丹利百得公司DTV部門主管William Lai與產(chǎn)品工程師Frank Tsai合作進(jìn)行螺絲起子把手產(chǎn)品案例分析(圖一)。本案例中，產(chǎn)品的螺絲柱出現(xiàn)縫合線，導(dǎo)致產(chǎn)品容易碎裂。透過Moldex3D的模擬，他們得以準(zhǔn)確預(yù)測(cè)出縫合線位置并改善。此外藉由Moldex3D多材質(zhì)射出成型模組包覆成型分析，預(yù)測(cè)ABS和TPE雙料結(jié)合后的溫度，并優(yōu)化成型條件。

軟件可根據(jù)設(shè)定的光學(xué)元件參數(shù)和膜層特性，準(zhǔn)確計(jì)算光線在各個(gè)鏡片表面的反射、折射和透射情況，為雜散光分析提供基礎(chǔ)數(shù)據(jù)。鬼像探測(cè)器配置在本次分析中，對(duì)鬼像探測(cè)器進(jìn)行了針對(duì)性的光線過濾設(shè)置，將分裂級(jí)次大于等于 2 作為過濾條件。這一設(shè)置能夠有效篩選出那些經(jīng)過多次反射和折射，對(duì)雜散光產(chǎn)生有重要影響的光線。

PI08M熱像儀的核心優(yōu)勢(shì)在于其0.78–0.82μm的短波光譜響應(yīng)范圍。 高發(fā)射率匹配： 在短波范圍內(nèi)，絕大多數(shù)金屬材料的發(fā)射率顯著高于長波范圍，這使得PI08M能夠更可靠地捕捉金屬表面的真實(shí)溫度。 抑制激光干擾： 在NIR（近紅外）和CO2激光加工環(huán)境中，短波設(shè)計(jì)能有效避開激光波長的干擾，確保熱圖像的純凈度，為工藝分析提供準(zhǔn)確依據(jù)。