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由於此功能，Alvarez 變焦在智慧型手機等纖薄應(yīng)用中非常有用。圖1. 傳統(tǒng)光學(xué)變焦鏡頭（左）和Alvarez變焦鏡頭（右）Alvarez 鏡組如何運行 要首先了解 Alvarez 縮放的工作原理，我們應(yīng)該看看 Alvarez 鏡組。每個 Alvarez 透鏡都是一個自由曲面光學(xué)元件，只有一個對稱平面。 Fig 3.

這使得陣列中透鏡元件表面形狀的定義和優(yōu)化具有了極大的靈活性。下圖顯示了透鏡陣列1物體，它是由7 x 5個矩形透鏡組成的透鏡陣列，每個矩形透鏡都可以看作一個球面透鏡的矩形區(qū)域。其它可以用於該應(yīng)用程式的物體包括透鏡陣列2物件和六邊形透鏡陣列(Hexagonal Lenslet Array)物件。

然後根據(jù)給定的相位設(shè)計微結(jié)構(gòu)。圖1顯示了該過程的流程圖。該圖表未涵蓋設(shè)計的詳細訊息，例如，微觀結(jié)構(gòu)可以是傳統(tǒng)的閃耀光柵或現(xiàn)代的超穎透鏡。所需的設(shè)計和製造方法可能會有所不同，具體取決於微結(jié)構(gòu)的類型。參考文獻[5]顯示了根據(jù)給定的相位輪廓生成閃耀光柵的範例。它還討論了單點金剛石車床的製造。可以在我們的知識庫文章中找到用於生成閃耀光柵的巨集:如何使用巨集計算繞射光學(xué)元件的垂度。

此外，遠點會是視網(wǎng)膜的光學(xué)共軛，因此眼鏡鏡片的功能就是把偏離的影像修正到遠點球上。人眼的瞳孔在此系統(tǒng)中充當(dāng)光圈的角色，且當(dāng)視線移動時，瞳孔將同步的以眼球為中心轉(zhuǎn)動。物平面通常是設(shè)定在無限遠，雖然一個近的物平面可以用來達成不同的鏡片設(shè)計。下面的例子展示了設(shè)計的原則。無窮遠的光線經(jīng)過一個-3.00D的透鏡後發(fā)散，並在半徑1/3公尺遠點球上形成一個虛像，此時遠點球的球心在透鏡後表面的頂點上。

在 OpticStudio 中創(chuàng)建的光學(xué)設(shè)計可以無縫轉(zhuǎn)換為原始 CAD 元件，並且所有光學(xué)資訊都完好無損。使用 OpticsBuilder，機構(gòu)工程師可以創(chuàng)建複雜的透鏡邊緣、安裝特徵和模組外殼，同時利用 Zemax 光線追跡直接查看這些元件如何影響光學(xué)性能。在這種情況下，鏡頭邊緣可能會為雜散光提供路徑以污染圖像。

儘管它在OCT系統(tǒng)的類型之間有所不同，但深度掃描通常由參考鏡執(zhí)行，以使樣品返回的光對應(yīng)於樣品和參考之間的特定光程差（OPD）。 透過以x或y方向旋轉(zhuǎn)掃描鏡來執(zhí)行橫向，橫向或b掃描，從而在整個樣品區(qū)域上平移探測光束。我們從商用OCT系統(tǒng)中獲取目標規(guī)格。 軸向分辨率完全來自光源特性，應(yīng)在5μm的數(shù)量級上。 來自樣品處光束半徑的橫向分辨率應(yīng)為15μm。

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然後將薄膜進行化學(xué)或熱顯影：這就是光柵。光柵上的表面是光滑的，但光柵內(nèi)部的折射率是正弦調(diào)變的。為了對VHG進行建模，需要使用高效的Kogelnik理論或嚴格耦合波分析（RCWA）等算法。 圖1（a）所示的SRG，可以通過幾種方法製造，如電子束寫入，光刻，納米壓印，或鑽石車削。與VHG不同，SRG沒有空間變化的折射率。相反，光柵的表面是由周期性的微結(jié)構(gòu)組成的。

通過以深度學(xué)習(xí)作為信息解構(gòu)的工具，本研究發(fā)現(xiàn)除了整體信道，散射介質(zhì)的復(fù)雜微結(jié)構(gòu)還會構(gòu)成新的信道，完成圖像信息的傳遞，而不同的照明（即信源編碼）方式會自動激發(fā)對應(yīng)的信道，也就是說散射介質(zhì)能自動完成信道的切換。這一現(xiàn)象迥異于透鏡、光闌等傳統(tǒng)光學(xué)信道，它們不管照明方式如何改變，信道的結(jié)構(gòu)不發(fā)生變化?；诖?，未來我們有望更深入理解信息在散射介質(zhì)內(nèi)傳遞的具體過程，從而為透散射介質(zhì)成像問題找到根本性解決方案。

OAS 光學(xué)軟件憑借其高精度幾何光學(xué)建模、非序列光線追跡及光場分析能力，成為周期型懸浮圖樣設(shè)計與優(yōu)化的專業(yè)工具。案例設(shè)置與操作參數(shù)設(shè)置在 OAS 軟件中定義微透鏡陣列參數(shù)，設(shè)置單透鏡焦距為 200μm、陣列周期 50μm，透鏡面型為球面；字符陣列選用 “OAS” 圖案中的字母A，像素尺寸 10μm×10μm，陣列周期小于透鏡周期。

性能優(yōu)化通過 OAS 光通量分布統(tǒng)計與點列圖分析，識別核心問題：采用 OAS 非序列光線追跡技術(shù)，分析光損耗路徑后，在聚光透鏡陣列入射端設(shè)計微結(jié)構(gòu)增透膜，將系統(tǒng)光效從提升；借助雜散光分析模塊定位底片反射雜光來源，在透鏡陣列間增設(shè) 0.5mm 厚遮光片，將雜散光能量占比降低。

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光源模塊導(dǎo)入 LED / 激光模型，依托軟件材料庫定義光譜分布、發(fā)散角與光通量參數(shù)；搭建微透鏡陣列與復(fù)曲面透鏡組成的準直勻光結(jié)構(gòu)，參數(shù)化控制透鏡曲率、厚度與間距。DMD 芯片模塊采用 MEMS 對象建模，按實際芯片參數(shù)定義微鏡尺寸、陣列排布與偏轉(zhuǎn)角度。

顯示器中的NIR（近紅外光）人眼追跡系統(tǒng)包含了三個相同的光學(xué)表面，和一個用于聚焦的楔形單透鏡。一開始，我們以擴展多項式（extended polynomial）的方式在OpticStudio中建立三個面。由于TrueFreeForm面也能支持擴展多項式函數(shù)，所以可以此作為設(shè)計的起點。接著，我們將進行微顯示器的優(yōu)化和人眼追跡系統(tǒng)的嵌入。

通常，可以透過求解近軸波動方程來找到雷射的輸出。該方程最廣為人知的解法是理想的單模高斯光束的解法。存在依賴於給定係統(tǒng)對稱性的其他正交解集。1 它們可用於對高階光束模式進行建模。在這篇Blog中，我們描述了 OpticStudio 中可用於表徵高階雷射光束的模型。定義後，此類光束可以在 OpticStudio 中使用物理光學(xué)傳播設(shè)計的任何光學(xué)系統(tǒng)中傳播。

模型完成后的光路圖如下所示。檢查波前像差圖?？梢钥闯觯ㄇ跋癫顬?.7642λpv和0.1762λRMS，是單透鏡的兩倍。 也可以看出，不對稱像差沒有問題（因為往返的光通量通過被測鏡頭上的同一個地方）。因此，F(xiàn)izeau干涉儀輸出值的1/2是被測透鏡本身的波前像差。此外還可以使用下圖的干涉圖分析功能進行波前分析：放大率被設(shè)置為1。

本課題組提出，量子微多普勒探測系統(tǒng)，通過量子場的相干性，探測微弱信號中攜帶的目標的微小運動信息，實現(xiàn)微弱信號的多維度探測。

雜散光和鬼像分析報告相干光束的傳播模擬 馬赫-曾德干涉儀FRED可以模擬多種相干光源，并且借助于“相干標量場分析”工具可以分析相干光的空間傳播特性。左圖是FRED中建立的馬赫-曾德干涉儀模型，由準直相干光源、分束鏡、平面反射鏡、壓電式微反射鏡陣列、探測分析面等元件組成。

（2）焊縫表面夾渣，若深度不超過0.5mm時，只需用砂輪打磨處理，不需要補焊；若深度超過0.5mm時，則應(yīng)予補焊，補焊后應(yīng)磨光，磨光后的表面應(yīng)光滑平整，均勻過渡。焊縫內(nèi)部的超標夾渣，應(yīng)根據(jù)探傷結(jié)果來確定缺陷部位，定好返修位置。