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計劃投資557億元用于采購ASML EUV 光刻機
荷蘭應用科學研究所(TNO)韓國代表Byung-
hoon
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解釋稱說:“通常情況下,半導體工藝可以將每臺機器的10%用于工藝研發和測試,擁有100臺機器則意味著它們可以全天候用于研發。”
2136
IC_Research
??? 2年前
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