11月15日消息，韓國今日電子新聞報道稱，三星計劃進口更多ASML極紫外（EUV）光刻設備。

雖然由于合同中的保密條款未能披露具體細節，但證券市場消息稱，該協議將使ASML在五年內提供總共50套設備，而每臺單價約為2000億韓元（約合人民幣11.02億元），總價值可達10萬億韓元（約合人民幣551億元）。

目前尚不清楚其合同中的產品是現有EUV光刻設備還是下一代“High NA EUV”光刻設備。不過，目前EUV光刻設備最大的問題是產量有限。據官方介紹，它“比衛星部件還復雜”，每年只能生產很有限的數量。據說去年是40臺，今年ASML估計是60臺。而目前需要且能購買到EUV光刻設備的廠商有五家：三星電子、臺積電、英特爾、SK海力士和美光。其中，臺積電約占供應量的70%，剩下四家公司爭奪剩下的30%。

三星電子于去年6月推出了全球首個采用全柵極（GAA）技術的3nm代工技術，因此該公司一直在努力確保采購更多EUV光刻設備，目標是在明年上半年進入3nm世代的第二代工藝，在2025年進入2nm工藝，在2027年進入1.4nm工藝。

正因如此，李在镕董事長去年6月訪問了ASML總部，與首席執行官Peter Bennink討論了EUV采購問題，并在同年11月訪問韓國期間與Bennink進行了進一步會談。鑒于EUV的交付周期（從下單到收貨）至少需要一年，這些會議看起來確實取得了實際成果。

實際上，半導體領域分析師也對三星電子增購EUV光刻設備的計劃持積極態度。

祥明大學系統半導體工程教授Lee Jong-hwan說道：“三星已引進數十臺EUV光刻設備，據說每臺設備的成本約為2000億韓元，這表明該公司打算擴大3nm量產機會，并在未來實現2nm計劃?！?/span>

此前，三星電子宣布計劃到2025年擁有100臺EUV光刻機。市場估計三星目前的EUV機群約為40臺。如果這50臺設備的能夠順利交付，那么三星到 2028 年將能夠擁有約 100 臺設備。

荷蘭應用科學研究所（TNO）韓國代表Byung-hoon Park解釋稱說：“通常情況下，半導體工藝可以將每臺機器的10%用于工藝研發和測試，擁有100臺機器則意味著它們可以全天候用于研發?！?/span>

他還指出，“通過這樣做，我們將能夠確保有足夠的工藝能力來正確使用設備”，他補充說，“ 預計這將減少工藝過程中的時間和成本，并提高產量?！?/span>

“一旦我們擁有了大量的（EUV）設備，并且技術趨于穩定，我們將能夠提高產量，并在代工方面取得進展” ，工業研究所的專家研究員金陽邦（Kim Yang-pang）說。

季度全球半導體裝備行業市場分析報告（大綱）

一、全球半導體裝備企業市場規模分析（Top10）

二、中國大陸半導體裝備行業市場投資情況分析

1. 中國大陸半導體裝備行業季度投資規模分析

2. 中國大陸半導體裝備行業季度投資區域分析  

3. 中國大陸半導體裝備行業季度投資分布分析

三、全球半導體裝備行業新技術發展洞察

1. 全球半導體裝備行業細分領域新技術趨勢洞察

2. 中國大陸半導體裝備行業細分領域技術發展洞察

四、全球半導體行業裝備產業最新動態

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