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登錄ABAQUS中為什么我設(shè)置歷程輸出均勻時(shí)間間隔為110時(shí),模型變化和均勻時(shí)間間隔114是兩種形變,歷程輸出可以改變模型變化?







使用lsdyna的sale法模擬金屬射流侵徹靶板,后處理如何提取藥型罩金屬射流的時(shí)間-最大速度歷程曲線,因?yàn)槭莝ale法,藥型罩是從歐拉域里切分出來(lái)的,無(wú)法從藥型罩選點(diǎn),有沒(méi)有大佬回答我的疑問(wèn)?




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