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環(huán)境是一個真空爐,仿真對象是爐內的一塊5mmx5mmx1mm的45#基板。初始溫度為1050℃,環(huán)境溫度25℃,降溫速率5℃/min固定。請問如何設置abaqus中膜層換熱系數和熱輻射系數,不能設置那是缺少什么條件應如何獲取。如何設置固定5℃/min的降溫速率,使得溫度呈現一條斜向下的直線。
workbench熱分析的時候,兩種不同材料如何設置接觸,接觸熱阻多大怎么確定?還有為啥選了一個面對環(huán)境的熱輻射之后,就不能選這個面和另外的面設置面面輻射了?求助各位大佬,謝謝啦









如何模擬兩個物體之間的熱輻射,比如用石英燈加熱一個物體
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