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在[12]中已經討論了序列場追跡（其中命名為“對流單鄰近似”），對一個包含初始（光源）到終止（探測器）光路系統，它生成一個非零輸入的。這里，我們將這種方法推廣到一般情況，我們也稱之為非序列場追跡。 舉一個簡單的例子，我們來討論光路樹的結構，這個例子是一個包含了一個光源、兩個平板和一個用于計算光場的探測器的光學系統。裝置如圖3所示。

在[12]中已經討論了序列場追跡（其中命名為“對流單鄰近似”），對一個包含初始（光源）到終止（探測器）光路系統，它生成一個非零輸入的。這里，我們將這種方法推廣到一般情況，我們也稱之為非序列場追跡。 舉一個簡單的例子，我們來討論光路樹的結構，這個例子是一個包含了一個光源、兩個平板和一個用于計算光場的探測器的光學系統。裝置如圖3所示。

1.3 參數化 DOE 矢高 -> 利用 FFT/Huygens PSF 光線追跡除了使用相位輪廓來表示DOE之外，還可以直接在序列模式下對詳細的矢高進行建模，並使用傳統的光線追跡引擎設計DOE並進行FFT和Huygens PSF之類的分析。此方法僅在DOE的特徵尺寸不太接近波長尺度（矢量繞射效果很強）時才有效。因此，該方法不適用於超穎透鏡。

但光線追跡上，我們是使用不同的方法來描述的。光線追跡的處理方式是如同上面第一張圖表的。過程中只有三條光線：入射、穿透以及反射。你可以隨意的放大檢視，永遠只有三條線。膜層本身不用光線追跡來處理，而用不同的函數來操作。對於光線追跡，光學相位的超前或延遲都是沿著光線觀察的。Zemax OpticStudio直接追跡光線到基板的位置，忽略中間的膜層及其厚度。膜層被假設鍍在基板表面之前。

? 能量閾值越小，追跡的路徑越多。 4. 最高級別(非序列光線\光場追跡) ? 最高級別是非序列追跡引擎的停止標準。? 該參數直接限制每個非序列路徑檢測到的表面過度/相互作用的數量。 最高級別：過度/相互作用對于非順序的傳播VirtualLab跟蹤不同的光路/信道：? 相鄰圖示說明了在非順序模擬過程中使用的級別編號。

簡介偏振態分析(polarization analysis)可以作為一般光線追跡的進階功能。在模擬的過程中，會將入射光因為元件表面鍍膜、反射和吸收而造成的能量損耗納入考量。一般的情況下，OpticStudio可以對大多數的鍍膜或雙折射材料進行完整的分析。但有時因為分類數據報告(Prescription data)不夠齊全，在進行模擬時會需要簡化後的模型。

因此，當我們要計算一條光線的OPD時，此光線會從物面出發後一路追跡穿過光學系統，最終到達像面後，在循原方向後退追跡到 “參考球面”。此參考球面的球心是主光線與像面的交點，半徑是主光線與像面交點到主光線與出瞳面的焦點。然後我們就計算這條光線的總光程，並扣去主光線的光程 (因此主光線的光程差永遠為零，因為他本身就是零的參考點)。

下期我們將會為大家介紹非序列模式優化系列文章的第二篇-《如何優化非序列光學系統》，這篇文章描述了非序列優化的基礎，其中我們發現所有的非序列評價函數必須在計算性能目標之前清除探測器和光線追跡。這個過程經常是重復且容易出錯的，通常通過 OpticStudio 非序列優化向導自動實現。該向導支持創建常見類型的評價函數，并創建用于匹配導入圖像文件的能量分布的相關評價函數。

下期我們將會為大家介紹非序列模式優化系列文章的第二篇-《如何優化非序列光學系統》，這篇文章描述了非序列優化的基礎，其中我們發現所有的非序列評價函數必須在計算性能目標之前清除探測器和光線追跡。這個過程經常是重復且容易出錯的，通常通過 OpticStudio 非序列優化向導自動實現。該向導支持創建常見類型的評價函數，并創建用于匹配導入圖像文件的能量分布的相關評價函數。

創建導光管主體在非序列元件編輯器中，插入一個空物體（物體1）以及一個矩形體（物體2），如下所示。輸入如下參數定義矩形體：這里我們采用相對參考（物體-1）而非全局參考，這樣做的好處會在復制導光管時體現出來。

概述 這篇文章介紹了：· 如何在序列模式下使用多重結構創建分光棱鏡· 如何在布局圖以及分析/計算窗口中同時追跡透射和反射光線· 在考慮偏振及鍍膜的影響下如何計算透射和反射光線的總能量（聯系我們獲取文章附件） 介紹 在 OpticStudio 中，分光棱鏡可以在序列或非序列追跡模式下模擬。

附件下載聯系工作人員獲取附件概述這篇文章介紹了： 如何在序列模式下使用多重結構創建分光棱鏡 如何在布局圖以及分析/計算窗口中同時追跡透射和反射光線 在考慮偏振及鍍膜的影響下如何計算透射和反射光線的總能量介紹在OpticStudio中，分光棱鏡可以在序列或非序列追跡模式下模擬。在非序列中，光線可以在折射表面上分裂為折射和反射光線。

創建導光管主體在非序列元件編輯器中，插入一個空物體（物體1）以及一個矩形體（物體2），如下所示。輸入如下參數定義矩形體：這里我們采用相對參考（物體-1）而非全局參考，這樣做的好處會在復制導光管時體現出來。

這篇Blog介紹了 OpticStudio 中的原生體積全像模擬功能，該功能可以在考慮其物理特性的情況下，在序列模式下對全像光柵進行全面模擬和分析。在非序列模式下也透過使用 DLL 展示了相同的功能。這些分析對於設計用於虛擬實境 (VR) 和增強實境 (AR) 的抬頭顯示器 (HUD) 和頭戴型顯示器 (HMD) 等系統非常重要。我們將介紹模型中使用的理論和參數。

IRayTraceNormUnpolData (sequential): 在這個界面中，我們可以使用歸一化光瞳坐標進行批次非偏振光線追跡，這與 DDE 光線追跡指令(模式0)相似。

首先，由于 OpticsBuilder 的光線追跡工具是基于 OpticStudio 的非序列光線追跡引擎，因此序列光學系統首先應轉換為非序列系統，然后再轉換為.ZBD文件。如果 Prepare for OpticsBuilder 工具是在非序列模式中使用，則光學系統將直接轉換為 .ZBD 文件。

這里我們考慮光源非相干的情況，即光源上的任意兩點以一種不相干的方式隨機輻射，比如熱白熾燈就是非相干光源。在OpticStudio的非序列模式中，使用幾何光線追跡和表面散射及散射光線的 “重點采樣(Importance Sampling) ”，就可以很好地模擬這種裝置。

虛擬和混合現實>近眼顯示 任務/系統描述 亮點非序列光場追跡，具有可控制的輸入/輸出正向及反向通道邏輯 說明：光源 說明：準直透鏡 說明：玻璃平板 說明：通道邏輯 說明：探測器 結果：3D光線追跡&點列圖 結果：3D

這里我們考慮光源非相干的情況，即光源上的任意兩點以一種不相干的方式隨機輻射，比如熱白熾燈就是非相干光源。 在OpticStudio的非序列模式中，使用幾何光線追跡和表面散射及散射光線的 “重點采樣(Importance Sampling) ”，就可以很好地模擬這種裝置。

在 OpticStudio 中創建的光學設計可以無縫轉換為原始 CAD 元件，並且所有光學資訊都完好無損。使用 OpticsBuilder，機構工程師可以創建複雜的透鏡邊緣、安裝特徵和模組外殼，同時利用 Zemax 光線追跡直接查看這些元件如何影響光學性能。在這種情況下，鏡頭邊緣可能會為雜散光提供路徑以污染圖像。