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進行雜散光分析時，最終的目標為找出雜散光的來源并嘗試改善。而在這篇文章中，我們會繼續以同一個示例檔案進行設計，說明如何辨別雜散光的特定光線路徑，以及如何藉由鏡面鍍膜改善這些非預期的能量來源。 使用篩選字串辨別雜散光路徑 首先，我們要找出雜散光的來源并試著改善。在下方的結果圖中，我們可以看到許多非預期的反射光（鬼影）出現在像面上。

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如何找出這些由非預期光線所產生的能量，并試著以外加的光學元件吸收或阻擋這些光線，將是雜散光分析中至關重要的環節。 本文是三篇雜散光分析系列文章中的第一篇，將介紹如何將序列系統轉至非序列模式中，并觀察此時系統產生的雜散光。 簡介 一般情況下，在進行機構的設計之前，我們必須先考慮雜散光的影響。

為適應我國光電行業飛速發展的需要，提高我國光學設計人員的專業水平，武漢宇熠將在2023年2月23日-24日舉辦線上培訓 —— 『Ansys Zemax 照明設計與雜散光分析』。 培訓將為大家系統性地介紹非序列模式的建模邏輯、光源建模、優化方法、雜散光分析等主題。

本例的目的是研究智能手機Camera系統的雜散光。雜散光是指光向相機傳感器不需要的散光光或鏡面光，是在光學設計中無意產生的，會降低相機系統的光學性能。在本例中，光學透鏡系統使用Ansys Zemax OpticStudio (ZOS)進行設計，并使用新的“Zemax Importer”工具一鍵導入鏡頭系統到Speos中進行系統級雜散光分析。

雜散光分析是光學和機械裝配驗證的重要步驟。本文演示了在非序列模式下使用過濾字符串功能的雜散光分析技術，以及其他重要功能。簡介在進行雜散光分析時，光學設計工程師可能會問以下問題: 從各種光學或機械表面反射產生的鬼影影響有多大? 反射超過四次的光線能傳遞多少能量? 隔板在限制探測器雜散光方面有多有效?

很明顯，探測器平面上不受歡迎的雜散光確實來自月球的“特定”區域。這些區域在下面的探測器查看器中高亮顯示。這一信息可能有助于確定哪種雜散光抑制技術可以用來減少來自月球的雜散光。

附件下載聯系工作人員獲取附件概要雜散光分析是光學和機械裝配驗證的重要步驟。本文演示了在非序列模式下使用過濾字符串功能的雜散光分析技術，以及支持特性。簡介在進行雜散光分析時，光學設計工程師可能會問以下問題: 從各種光學或機械表面反射產生的鬼影影響有多大? 反射超過四次的光線能傳遞多少能量?

為適應我國光電行業飛速發展的需要，提高我國光學設計人員的專業水平，武漢宇熠將在2023年6月28-30日舉辦線下培訓 —— 『Ansys Zemax 照明設計與雜散光分析』。培訓將為大家系統性地介紹非序列模式的建模邏輯、光源建模、優化方法、雜散光分析等主題。

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雜散光分析是光學和機械裝配驗證的重要步驟。本文演示了在非序列模式下使用過濾字符串功能的雜散光分析技術，以及支持特性。下載聯系工作人員獲取附件簡介 在進行雜散光分析時，光學設計工程師可能會問以下問題:從各種光學或機械表面反射產生的鬼影影響有多大?反射超過四次的光線能傳遞多少能量?隔板在限制探測器雜散光方面有多有效?

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7月11日，Ansys 將推出「成像系統雜散光工作流更新」主題網絡研討會，介紹Ansys鏡頭雜散光解決方案的新進展，使用Zemax OpticStudio、Speos和Lumerical綜合考量鏡頭和CMOS特性，通過光線追跡、序列檢測等方法分析雜光來源，并對系統進行優化。講師：馬鎏學 | Ansys 高級應用工程師Ansys 高級應用工程師。

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雜散光問題出現在幾乎所有的光機系統或者照明系統中。通過遮擋或者移除零件、表面涂漆或者在光學器件表面鍍膜都可以減少或者消除雜散光。在本案例中，我們將闡述雜散光的定義并且介紹怎樣利用FRED來分析和避免雜散光問題。 1. 什么是雜散光？ 簡單來說，雜散光就是系統不需要的噪音，它是由光機結構、視場外光源或者不完善的光學零件產生的，還有可能是由光學或系統自身的熱輻射引起的。

如何分析雜散光？此前，進行雜散光分析需要借助物理原型。這意味著雜散光只有在相關流程結束時才能進行測量，但此時對產品設計進行修改為時已晚。單色儀和光譜輻射儀等工具可幫助工程師了解雜散光，但代價是增加構建整個設備的時間和成本。如今，工程師依靠Ansys Optics仿真軟件對光學系統進行建模，并早在構建物理原型之前就主動解決雜散光的影響。

評估雜散光水平是用幾個離軸點光源。 第三階段是使用模型評價望遠鏡在不同情況下的雜散光規避特性。這些計算用來確定離軸角度對系統雜散光性能的影響，并用來提出對望遠鏡的擋板提出修改建議。考慮的改動建議包括當前設計的簡單改動，到完全重新設計擋板系統。第三階段工作的一個重要部分，是評價預備做的改動會對UWBC 的視場有出什么影響。為了做這種評價，模型評估雜散光UWBC 轉動部分兩個方向上的視場。

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紅外雜散光案例分析簡介在紅外成像系統的設計中，雜散光始終是制約成像質量的核心問題。紅外波段的雜散光易源于光學元件反射、機械結構漫反射及遮光設計缺陷，直接導致成像對比度下降、信噪比降低，甚至出現偽影，影響目標識別精度。

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