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摘要：本文利用三維相干矢量（9×1矩陣）構(gòu)建了一種新型三維偏振代數(shù)，可用于計(jì)算所有偏振敏感光學(xué)系統(tǒng)的偏振特性，尤其適用于入射光場為部分偏振或非偏振的情況。基于該三維偏振代數(shù)，我們對高數(shù)值孔徑（NA=1.25油浸式）顯微物鏡的偏振特性進(jìn)行了理論分析，并采用商用軟件VirtualLab Fusion對該高數(shù)值孔徑光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行了偏振仿真。

摘要：本文利用三維相干矢量（9×1矩陣）構(gòu)建了一種新型三維偏振代數(shù)，可用于計(jì)算所有偏振敏感光學(xué)系統(tǒng)的偏振特性，尤其適用于入射光場為部分偏振或非偏振的情況。基于該三維偏振代數(shù)，我們對高數(shù)值孔徑（NA=1.25油浸式）顯微物鏡的偏振特性進(jìn)行了理論分析，并采用商用軟件VirtualLab Fusion對該高數(shù)值孔徑光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行了偏振仿真。

摘要 ：本文利用三維相干矢量（9×1矩陣）構(gòu)建了一種新型三維偏振代數(shù)，可用于計(jì)算所有偏振敏感光學(xué)系統(tǒng)的偏振特性，尤其適用于入射光場為部分偏振或非偏振的情況。基于該三維偏振代數(shù)，我們對高數(shù)值孔徑（NA=1.25油浸式）顯微物鏡的偏振特性進(jìn)行了理論分析，并采用商用軟件VirtualLab Fusion對該高數(shù)值孔徑光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行了偏振仿真。

摘要 ：本文利用三維相干矢量（9×1矩陣）構(gòu)建了一種新型三維偏振代數(shù)，可用于計(jì)算所有偏振敏感光學(xué)系統(tǒng)的偏振特性，尤其適用于入射光場為部分偏振或非偏振的情況。基于該三維偏振代數(shù)，我們對高數(shù)值孔徑（NA=1.25油浸式）顯微物鏡的偏振特性進(jìn)行了理論分析，并采用商用軟件VirtualLab Fusion對該高數(shù)值孔徑光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行了偏振仿真。

摘要 橢圓偏振儀是一種光學(xué)測量方法，通常用于確定薄膜的介電特性。測量涉及確定不同波長和入射角下從樣品反射或透射時(shí)光偏振態(tài)的變化。因此，它可用于表征成分、粗糙度、厚度、結(jié)晶性能、導(dǎo)電性和其他材料特性。它對入射輻射與所研究材料相互作用的光學(xué)響應(yīng)變化非常敏感。

摘要橢圓偏振儀是一種光學(xué)測量方法，通常用于確定薄膜的介電特性。測量涉及確定不同波長和入射角下從樣品反射或透射時(shí)光偏振態(tài)的變化。因此，它可用于表征成分、粗糙度、厚度、結(jié)晶性能、導(dǎo)電性和其他材料特性。它對入射輻射與所研究材料相互作用的光學(xué)響應(yīng)變化非常敏感。此用例演示了橢圓偏振儀的基本原理，并說明了 VirtualLab Fusion中內(nèi)置橢圓偏振分析器的使用。

摘要可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）是一種常用的技術(shù)，由于其對光學(xué)參數(shù)的微小變化具有高靈敏度，而被用在許多使用薄膜結(jié)構(gòu)的應(yīng)用中，如半導(dǎo)體、光學(xué)涂層、數(shù)據(jù)存儲、平板制造等。在本用例中，我們演示了VirtualLab Fusion中的橢圓偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂層上的使用。對于系統(tǒng)的參數(shù)，我們參考Woollam等人的工作 "可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）概述。I.

摘要光柵等光學(xué)設(shè)備對光的偏振很敏感。 因此，在仿真中正確考慮光的偏振非常重要。 在實(shí)踐中，光柵有時(shí)使用非偏振光作為輸入。 我們展示了如何將這種非偏振光建模為兩個(gè)正交偏振態(tài)的平均值，用于 VirtualLab Fusion 中的光柵仿真。 提供了示例來說明軟件中的相應(yīng)設(shè)置。

摘要 像光柵這樣的光學(xué)設(shè)備對光的偏振比較敏感。 因此，在仿真中適當(dāng)考慮光的偏振非常重要。 在實(shí)際中，光柵有時(shí)會(huì)以非偏振光作為輸入。 作為兩個(gè)正交偏振態(tài)的平均值，我們?yōu)槟故玖巳绾卧?em>VirtualLab Fusion中建模這種用于光柵仿真的非偏振光。 為此，我們提供了示例來說明軟件中的相應(yīng)設(shè)置。

摘要可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）是一種常用的技術(shù)，由于其對光學(xué)參數(shù)的微小變化具有高靈敏度，而被用在許多使用薄膜結(jié)構(gòu)的應(yīng)用中，如半導(dǎo)體、光學(xué)涂層、數(shù)據(jù)存儲、平板制造等。在本用例中，我們演示了VirtualLab Fusion中的橢圓偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂層上的使用。對于系統(tǒng)的參數(shù)，我們參考Woollam等人的工作 "可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）概述。I.

其次，Virtuallab Fusion提供了對光柵的矢量特征進(jìn)行詳細(xì)的分析的必要工具。 光柵是許多經(jīng)典和現(xiàn)代光學(xué)系統(tǒng)的基本組成元件，如光譜儀和近眼顯示領(lǐng)域。光柵的一個(gè)特征是對入射光的偏振敏感性，以及通常情況下較強(qiáng)的矢量特性。

光柵是許多經(jīng)典和現(xiàn)代光學(xué)系統(tǒng)的基本組成元件，如光譜儀和近眼顯示領(lǐng)域。光柵的一個(gè)特征是對入射光的偏振敏感性，以及通常情況下較強(qiáng)的矢量特性。 無論這種影響是否有益，快速物理光學(xué)軟件為您提供了幫助：首先，通過了一致的矢量處理，它不僅包括場和光柵本身，也包括可能包含光柵的光學(xué)系統(tǒng)。其次，Virtuallab Fusion提供了對光柵的矢量特征進(jìn)行詳細(xì)的分析的必要工具。

摘要可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）是一種常用的技術(shù)，由于其對光學(xué)參數(shù)的微小變化具有高靈敏度，而被用在許多使用薄膜結(jié)構(gòu)的應(yīng)用中，如半導(dǎo)體、光學(xué)涂層、數(shù)據(jù)存儲、平板制造等。在本用例中，我們演示了VirtualLab Fusion中的橢圓偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂層上的使用。對于系統(tǒng)的參數(shù)，我們參考Woollam等人的工作 "可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）概述。I.

摘要 光柵等光學(xué)設(shè)備對光的偏振很敏感。因此，在仿真中正確考慮光的偏振非常重要。在實(shí)踐中，光柵有時(shí)使用非偏振光作為輸入。我們展示了如何將這種非偏振光建模為兩個(gè)正交偏振態(tài)的平均值，用于 VirtualLab Fusion 中的光柵仿真。提供了示例來說明軟件中的相應(yīng)設(shè)置。

對于非偏振光，在p方向和s方向之間沒有相位關(guān)系，但是在傾斜入射時(shí)將存在偏振效應(yīng)。如果接收器對偏振不敏感，那么該測量將對應(yīng)于p和s偏振的平均值。由于兩種模式的性能通常不同，因此將存在有效的ψ，并且也可以計(jì)算。 斜入射對偏振的敏感度在光學(xué)系統(tǒng)中可能會(huì)出現(xiàn)一些困難的問題。Polarization Maintenance（PM）是我們用來量化分量或系統(tǒng)保持偏振功能的術(shù)語，如圖4所示。

作為一種仿真技術(shù)，物理光學(xué)最廣為認(rèn)可的優(yōu)點(diǎn)之一是它可以提供關(guān)于系統(tǒng)的廣泛信息。電磁場的矢量性質(zhì)，以及光在系統(tǒng)中傳播時(shí)經(jīng)常產(chǎn)生的復(fù)雜效應(yīng)，都是這一考慮的重要組成部分。這就是為什么在VirtualLab Fusion中，我們總是使用完整的矢量場信息。下面您可以看到一些示例，展示了VirtualLab Fusion在與偏振和矢量效應(yīng)特別相關(guān)的情況下的潛力。

6.2 Layer 1：光收集層自由曲面光學(xué)實(shí)現(xiàn)廣域波前重塑，液體透鏡實(shí)現(xiàn)毫秒級焦點(diǎn)切換，超構(gòu)表面實(shí)現(xiàn)像素級頻譜和偏振編碼。當(dāng)前TRL：自由曲面6-7，液體透鏡8-9，超構(gòu)表面6-9。6.3 Layer 2：光傳感層偏振敏感型像素、光譜敏感型像素、相位敏感型像素、時(shí)間敏感型像素與強(qiáng)度型像素在傳感器上異構(gòu)集成。

相反，它需要一個(gè)全面的策略，基于高階物理光學(xué)理論，為光學(xué)軟件提供堅(jiān)實(shí)的理論基礎(chǔ)。對不同尺度的光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行建模，需要在統(tǒng)一的物理光學(xué)框架內(nèi)集成多種不同的仿真模型。這正是我們在 VirtualLab Fusion 軟件中所采用的方法。

摘要 光柵等光學(xué)設(shè)備對光的偏振很敏感。因此，在仿真中正確考慮光的偏振非常重要。在實(shí)踐中，光柵有時(shí)使用非偏振光作為輸入。我們展示了如何將這種非偏振光建模為兩個(gè)正交偏振態(tài)的平均值，用于 VirtualLab Fusion 中的光柵仿真。提供了示例來說明軟件中的相應(yīng)設(shè)置。

與傳統(tǒng)二維點(diǎn)圖不同，三維結(jié)果更能揭示高NA聚焦的本質(zhì)：焦斑并不是一個(gè)簡單的圓點(diǎn)，而是由主峰、旁瓣及可能存在的非對稱結(jié)構(gòu)共同構(gòu)成。若入射為線偏振光，焦斑往往表現(xiàn)出一定方向性；若改為徑向偏振光，則可能獲得更強(qiáng)的縱向電場與更緊湊的聚焦效果。在案例分析中，還應(yīng)關(guān)注參數(shù)變化對焦斑的影響。第一，數(shù)值孔徑越大，理論上橫向分辨率越高，但系統(tǒng)對像差和裝調(diào)誤差也更敏感。