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這一尺寸約為傳統高斯光束聚焦激發技術獲得的納米線特征尺寸的1/3，從而產生近乎球形的體元。此外，根據聚焦條件的改變，還可以沿軸向制作周期性干涉層狀結構，用于制備光子學器件。圖6 超分辨成像技術輔助的雙光子聚合微納3D打印技術。